基材處理設(shè)備和在該設(shè)備中轉(zhuǎn)移基材的方法技術(shù)

本發(fā)明專利技術(shù)提供一種基材處理設(shè)備，其包括將基材裝載到儲(chǔ)存件和從其中取出基材的轉(zhuǎn)移件以及控制該轉(zhuǎn)移件的控制單元。該轉(zhuǎn)移件包括多個(gè)轉(zhuǎn)移臂和水平移動(dòng)各轉(zhuǎn)移臂的臂驅(qū)動(dòng)部，基材被裝載在各轉(zhuǎn)移臂上。該控制單元控制該轉(zhuǎn)移件的運(yùn)動(dòng)速度和位置并比較各轉(zhuǎn)移臂的運(yùn)動(dòng)速度變化，從而控制各轉(zhuǎn)移臂的運(yùn)動(dòng)速度。因此，同時(shí)被驅(qū)動(dòng)的轉(zhuǎn)移臂同時(shí)到達(dá)目標(biāo)點(diǎn)，所以該基材處理設(shè)備縮短了轉(zhuǎn)移時(shí)間并提高了生產(chǎn)性。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
【國(guó)外來華專利技術(shù)】
本專利技術(shù)涉及一種制造半導(dǎo)體基材的設(shè)備，更具體而言，涉及處理半導(dǎo)體基材的基 材處理設(shè)備和在該基材處理設(shè)備中轉(zhuǎn)移基材的方法。
技術(shù)介紹
在基材制造過程中，絕緣體和金屬材料的沉積和蝕刻、光致抗蝕劑的涂布和顯影、 灰化處理等被重復(fù)多次，從而實(shí)現(xiàn)精細(xì)的圖案結(jié)構(gòu)排列。然而，雖然進(jìn)行了包括蝕刻或灰化 處理的這些處理，但是在基材中仍然存在雜質(zhì)。除去這些雜質(zhì)的處理包括使用去離子水或 化學(xué)品的清潔處理。進(jìn)行清潔處理的基材清潔設(shè)備分為成批基材清潔設(shè)備和單個(gè)基材清潔設(shè)備。成批 基材清潔設(shè)備包括尺寸能夠一次處理25片基材或50片基材的化學(xué)浴、沖洗浴和干燥浴。成 批基材清潔設(shè)備通過將基材浸入各個(gè)浴中預(yù)定時(shí)間而除去雜質(zhì)。這種成批基材清潔設(shè)備同 時(shí)清潔基材的上部和下部，并同時(shí)處理大量的基材。然而，隨著基材直徑的增大，各個(gè)浴的 尺寸也要增大，這增大了設(shè)備的尺寸和化學(xué)品的用量。另外，從鄰近的基材上分離的雜質(zhì)會(huì) 附在正在化學(xué)浴中清潔的基材上。近來，由于基材直徑的增大，單個(gè)基材清潔設(shè)備被廣泛使用。在單個(gè)基材清潔設(shè)備 中，基材被固定在適用于處理單個(gè)基材的具有較小尺寸的腔室中的基材卡盤上，然后由電 機(jī)轉(zhuǎn)動(dòng)，接著經(jīng)由位于基材上方的噴嘴向基材提供化學(xué)品或去離子水。基材的旋轉(zhuǎn)使化學(xué) 品或去離子水在基材的上部上擴(kuò)散，以便從基材除去雜質(zhì)。單個(gè)基材清潔設(shè)備的尺寸小于 成批基材清潔設(shè)備的尺寸，并且可以實(shí)現(xiàn)均勻的清潔效果。一般而言，單個(gè)基材清潔設(shè)備從其一側(cè)開始包括裝載/卸載單元、分度自動(dòng)裝置、 緩沖單元、處理室和主轉(zhuǎn)移自動(dòng)裝置。分度自動(dòng)裝置在緩沖單元和裝載/卸載單元之間轉(zhuǎn) 移基材，主轉(zhuǎn)移自動(dòng)裝置在緩沖單元和處理室之間轉(zhuǎn)移基材。在緩沖單元中，將要清潔的基 材等待被插入處理室中，或者已被清潔的基材等待被轉(zhuǎn)移到裝載/卸載單元。轉(zhuǎn)移自動(dòng)裝置(例如，分度自動(dòng)裝置和主轉(zhuǎn)移自動(dòng)裝置)包括多個(gè)臂部，基材被裝 載在各臂部上。各臂部水平移動(dòng)，從而從儲(chǔ)存裝置(例如前開式晶片盒(FOUP))或緩沖單 元取出基材，或者將基材裝載到其中。這種轉(zhuǎn)移自動(dòng)裝置的臂部被獨(dú)立地驅(qū)動(dòng)，因而各臂部具有獨(dú)立的水平驅(qū)動(dòng)軸，在 各臂部之間會(huì)產(chǎn)生裝配公差。因此，當(dāng)一起驅(qū)動(dòng)至少兩個(gè)臂部時(shí)，各臂部的速度不同，使得 各臂部到達(dá)目標(biāo)點(diǎn)的時(shí)間點(diǎn)不同。同樣地，當(dāng)同時(shí)驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)移自動(dòng)裝置的各臂部時(shí)，各臂部到 達(dá)目標(biāo)點(diǎn)的時(shí)間點(diǎn)不同，因此，從儲(chǔ)存裝置同時(shí)取出多個(gè)基材很困難。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
技術(shù)問題本專利技術(shù)提供一種提高裝載和卸載基材效率的基材處理設(shè)備。本專利技術(shù)還提供一種在該基材處理設(shè)備中轉(zhuǎn)移基材的方法。技術(shù)方案本專利技術(shù)的實(shí)施例提供了一種基材處理設(shè)備，其包括儲(chǔ)存件、轉(zhuǎn)移件和控制單元。所述儲(chǔ)存件沿垂直方向排列多個(gè)基材并儲(chǔ)存基材。所述轉(zhuǎn)移件包括沿垂直方向彼 此面對(duì)的多個(gè)轉(zhuǎn)移臂和臂驅(qū)動(dòng)部，所述臂驅(qū)動(dòng)部設(shè)置在所述轉(zhuǎn)移臂下方并與所述轉(zhuǎn)移臂連 接，用于水平移動(dòng)各轉(zhuǎn)移臂，基材被裝載在各轉(zhuǎn)移臂上，所述轉(zhuǎn)移件從所述儲(chǔ)存件取出至少 一個(gè)基材和向其中裝載至少一個(gè)基材。所述控制單元控制所述轉(zhuǎn)移件的運(yùn)動(dòng)速度和位置并 控制所述臂驅(qū)動(dòng)部，使得至少兩個(gè)轉(zhuǎn)移臂同時(shí)到達(dá)在所述儲(chǔ)存件中的目標(biāo)點(diǎn)，并且所述控 制單元將與被同時(shí)控制的各轉(zhuǎn)移臂的目標(biāo)點(diǎn)對(duì)應(yīng)的各預(yù)期速度變化作比較，從而控制各轉(zhuǎn) 移臂的運(yùn)動(dòng)速度。在一些實(shí)施例中，所述轉(zhuǎn)移件還可以包括轉(zhuǎn)動(dòng)部、垂直移動(dòng)部和水平移動(dòng)部。所述 轉(zhuǎn)動(dòng)部設(shè)置在所述臂驅(qū)動(dòng)部下方并與所述臂驅(qū)動(dòng)部連接，用于轉(zhuǎn)動(dòng)所述臂驅(qū)動(dòng)部。所述垂 直移動(dòng)部設(shè)置在所述轉(zhuǎn)動(dòng)部下方并與所述轉(zhuǎn)動(dòng)部連接，用于上下移動(dòng)所述轉(zhuǎn)動(dòng)部，從而調(diào) 節(jié)所述轉(zhuǎn)移臂的垂直位置。所述水平移動(dòng)部設(shè)置在所述垂直移動(dòng)部下方并與所述垂直移動(dòng) 部連接，用于水平移動(dòng)而調(diào)節(jié)所述轉(zhuǎn)移件的水平位置。在其他實(shí)施例中，所述控制單元可以包括輸入處理部、比較運(yùn)算部、輸出控制部、 移動(dòng)卡和驅(qū)動(dòng)單元。所述輸入處理部接收和輸出包括所述轉(zhuǎn)移臂、所述轉(zhuǎn)動(dòng)部、所述垂直移 動(dòng)部和所述水平移動(dòng)部的各自速度值的速度信息以及有關(guān)各轉(zhuǎn)移臂的目標(biāo)點(diǎn)的位置信息。 所述比較運(yùn)算部基于從所述輸入處理部接收的速度信息和位置信息計(jì)算出各轉(zhuǎn)移臂的預(yù) 期速度變化，并將各轉(zhuǎn)移臂的預(yù)期速度變化與預(yù)設(shè)參考變化作比較，以將對(duì)應(yīng)于各轉(zhuǎn)移臂 的速度值復(fù)位并輸出復(fù)位的速度值。所述輸出控制部輸出從所述比較運(yùn)算部輸出的各轉(zhuǎn)移 臂的速度值以及對(duì)應(yīng)于所述轉(zhuǎn)動(dòng)部、所述垂直移動(dòng)部和所述水平移動(dòng)部的各自速度值。所 述移動(dòng)卡將對(duì)應(yīng)于所述轉(zhuǎn)移臂、所述轉(zhuǎn)動(dòng)部、所述垂直移動(dòng)部和所述水平移動(dòng)部的各自速 度值以及所述輸出控制部的輸出分別變換為脈沖值，并輸出變換的脈沖值。所述驅(qū)動(dòng)單元 放大從所述移動(dòng)卡輸出的脈沖值并將放大的脈沖值供應(yīng)到所述轉(zhuǎn)移件。在本專利技術(shù)的其他實(shí)施例中，轉(zhuǎn)移基材的方法包括接收包括用于轉(zhuǎn)移基材的轉(zhuǎn)移 件的各運(yùn)動(dòng)軸線的速度值的轉(zhuǎn)移信息以及有關(guān)所述轉(zhuǎn)移件取出或裝載基材的在儲(chǔ)存件中 目標(biāo)點(diǎn)的位置信息；比較所述轉(zhuǎn)移件的各轉(zhuǎn)移臂的預(yù)期速度變化，以將各轉(zhuǎn)移臂的速度值 復(fù)位，使得所述轉(zhuǎn)移臂水平移動(dòng)并在同一時(shí)間點(diǎn)分別到達(dá)對(duì)應(yīng)目標(biāo)點(diǎn)；輸出復(fù)位的速度值 和所述轉(zhuǎn)移件的除了所述轉(zhuǎn)移臂之外的各運(yùn)動(dòng)軸線的速度值；將輸出的速度值變換為脈沖 值；放大所述脈沖值并將放大的脈沖值供應(yīng)到所述轉(zhuǎn)移件；以及在根據(jù)復(fù)位的速度值將所 述轉(zhuǎn)移臂水平移動(dòng)到對(duì)應(yīng)目標(biāo)點(diǎn)并使所述轉(zhuǎn)移臂同時(shí)到達(dá)對(duì)應(yīng)目標(biāo)點(diǎn)后，同時(shí)將基材裝載 到所述儲(chǔ)存件或從中取出基材。有益效果根據(jù)本專利技術(shù)，所述基材處理設(shè)備包括調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)移臂的速度的控制部，并控制同時(shí)被 驅(qū)動(dòng)的各轉(zhuǎn)移臂同時(shí)到達(dá)目標(biāo)點(diǎn)。因此，轉(zhuǎn)移件一次向儲(chǔ)存件裝載多個(gè)基材或從其中取出 多個(gè)基材，使得所述基材處理設(shè)備縮短了轉(zhuǎn)移時(shí)間并提高了生產(chǎn)性。附圖說明附圖用于進(jìn)一步理解本專利技術(shù)，且被并入說明書中構(gòu)成說明書的一部分。附圖顯示本專利技術(shù)的示例性實(shí)施例，并且與說明書一起用于解釋本專利技術(shù)的原理。在附圖中圖1是根據(jù)本專利技術(shù)實(shí)施例的基材處理系統(tǒng)的示意圖；圖2是示出圖1的分度自動(dòng)裝置的立體圖；圖3是示出圖1的緩沖單元的立體圖；圖4是示出圖1的主轉(zhuǎn)移自動(dòng)裝置的立體圖；圖5是示出圖1的第一控制單元構(gòu)造的方框圖；以及圖6是示出圖5的第一控制單元控制分度臂的水平運(yùn)動(dòng)的方法的流程圖。具體實(shí)施例方式下面參照附圖更詳細(xì)地說明本專利技術(shù)的優(yōu)選實(shí)施例。然而，本專利技術(shù)可以體現(xiàn)為多種 不同形式，并且不應(yīng)當(dāng)認(rèn)為本專利技術(shù)受限于在此提出的實(shí)施例。相反，提供這些實(shí)施例是為了 使本專利技術(shù)的公開內(nèi)容清楚和完整，并向本領(lǐng)域技術(shù)人員全面地表達(dá)本專利技術(shù)的范圍。下面，將結(jié)合附圖對(duì)本專利技術(shù)的示例性實(shí)施例進(jìn)行描述。圖1是根據(jù)本專利技術(shù)實(shí)施例的基材處理系統(tǒng)1000的示意圖，圖2是示出圖1的分度 自動(dòng)裝置200的立體圖。參照?qǐng)D1和圖2，基材處理系統(tǒng)1000可以包括裝載/卸載單元110、分度自動(dòng)裝置 200、緩沖單元300、主轉(zhuǎn)移自動(dòng)裝置500、多個(gè)處理室600、第一控制單元710和第二控制單 元 720。裝載/卸載單元110包括多個(gè)裝載口 110a、110b、110c和110d。盡管在本實(shí)施例 中裝載/卸載單元110包括四個(gè)裝載口 110a、110b、110c和110d，但是裝載口 IlOaUlOb, IlOc和IlOd的數(shù)量可以根據(jù)基材處理系統(tǒng)1000的處理效率和占地面積條件增大或減小。前開式晶片盒(FOUP)120a、120b、120c 和 120d 安置在裝載口 110a、110b、IlOc 和 I本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
１．一種基材處理設(shè)備，包括：儲(chǔ)存件，沿垂直方向排列多個(gè)基材并儲(chǔ)存基材；轉(zhuǎn)移件，包括沿垂直方向彼此面對(duì)的多個(gè)轉(zhuǎn)移臂和臂驅(qū)動(dòng)部，所述臂驅(qū)動(dòng)部設(shè)置在所述轉(zhuǎn)移臂下方并與所述轉(zhuǎn)移臂連接，用于水平移動(dòng)各轉(zhuǎn)移臂，基材被裝載在各轉(zhuǎn)移臂上，所述轉(zhuǎn)移件從所述儲(chǔ)存件取出至少一個(gè)基材和向其中裝載至少一個(gè)基材；以及控制單元，控制所述轉(zhuǎn)移件的運(yùn)動(dòng)速度和位置并控制所述臂驅(qū)動(dòng)部，使得至少兩個(gè)轉(zhuǎn)移臂同時(shí)到達(dá)在所述儲(chǔ)存件中的目標(biāo)點(diǎn)，其中所述控制單元將與被同時(shí)控制的各轉(zhuǎn)移臂的目標(biāo)點(diǎn)對(duì)應(yīng)的各預(yù)期速度變化作比較，從而控制各轉(zhuǎn)移臂的運(yùn)動(dòng)速度。

【技術(shù)特征摘要】
【國(guó)外來華專利技術(shù)】...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：洪祥碩，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：細(xì)美事有限公司，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：KR