一種多級干式真空泵的清洗裝置制造方法及圖紙

本實用新型專利技術涉及真空泵清洗技術，具體地說是一種多級干式真空泵的清洗裝置，包括減壓閥、質量流量控制器、電磁閥及氣體管路，減壓閥的一端與氣體輸入端相連，另一端連接有質量流量控制器；氣體管路分為封閉獨立的第一部分及第二部分，質量流量控制器的輸出端分為兩路、分別與氣體管路的第一、二部分相連接；質量流量控制器與氣體管路連接的每一路均設有電磁閥；氣體管路中的第一部分與干式真空泵的一級腔體相連接，第二部分分別與干式真空泵的二～五腔體連接。本實用新型專利技術對每一級腔體均起到了清洗作用，清洗徹底，具有控制簡單、準確，真空度高等優點。（*該技術在2018年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

本技術涉及真空泵清洗技術，具體地說是一種多級干式真空 泵的清洗裝置。
技術介紹
隨著半導體工業、電子工業的蓬勃興起，對于真空環境的要求 越來越多、越來越嚴格。由于由普通的油封機械泵、擴散泵所組成的 真空系統易于向真空室中返油，真空室中的油分子會在硅片晶體上沉 積，使硅晶體成為廢品。所以這樣的真空系統在半導體工業、電子工 業中的應用受到了限制。相反，由于干式真空泵不需要潤滑油來潤滑 密封，做到了無油蒸汽污染，而且對被抽氣體中含有的灰塵和水蒸氣 不敏感。所以，由干式真空泵組成的真空系統得到了廣泛的應用，并 在半導體工業、電子工業的發展過程中起到了推動的作用。由于在半導體工藝(特別是中等工藝、苛刻工藝，例如離子注入源、CVD(化學氣相沉積)、PECVD (等離子體增強化學氣相沉積) 等)中會產生大量的有毒以及腐蝕性氣體(例如氨氣、甲烷等)，這 些氣體通過干泵的腔體經排氣口排出。由于這些氣體對人體的毒害非 常大，對設備的腐蝕性也非常強，因此避免廢氣對干式真空泵的腐蝕， 將產生的廢氣進行稀釋從而達到保護人體以及設備的安全，已成為亟 待解決的問題。
技術實現思路
為了解決干式真空泵被廢氣腐蝕的問題，本技術的目的在于 提供一種多級干式真空泵的清洗裝置，解決了在半導體工藝中產生的 廢氣對干式真空泵的腐蝕問題，減少了毒害氣體對人體的傷害，起到 對泵體氣冷(通過氮氣吹掃功能使泵冷卻)作用。本技術的目的是通過以下技術方案來實現的 本技術包括減壓閥、質量流量控制器、電磁閩及氣體管路，減壓閥的一端與氣體輸入端相連，另一端連接有質量流量控制器；氣體管路分為封閉獨立的第一部分及第二部分，質量流量控制器的輸出端分為兩路、分別與氣體管路的第一、二部分相連接；質量流量控制器與氣體管路連接的每一路均設有電磁閩；氣體管路中的第一部分與 干式真空泵的一級腔體相連接，第二部分分別與干式真空泵的二 五 腔體連接。其中所述氣體管路中的第一部分上連接有連接管，連接管的另 一端通過氣路頭、通孔螺釘與干式真空泵的一級腔體相連接，在連接 管上設有單向閩；單向閥為單向節流閥；所述氣體管路中的第二部分 上連接有四根連接管，每根連接管的另一端均通過氣路頭、通孔螺釘 與干式真空泵的二 五腔體連接，在每根連接管上均設有單向閥；單 向閥為單向節流閥；所述氣體管路中設有封堵，將氣體管路分為封閉獨立的第一部分及第二部分；所述減壓閥通過快卸接頭與氣體輸入端 相連接。本技術的優點與積極效果為1. 本技術與多級干式真空泵的每一級腔體均有連接，對每 一級腔體均起到了清洗作用，清洗徹底。2. 本技術釆用質量流量控制器的輸出信號來時時顯示能入 干式真空泵腔體Nr流量的數值，釆用減壓閥調節Nr流量大小，采用 電磁閥控制N2的通斷，控制簡單、準確。3. 本技術對應不同的真空級腔體充入的Nr流量不同，防止 了由于充入N2而造成真空底降低。4. 本技術在管路上設置了單向閩，防止氣體返流；單向閥可為單向節流閥，釆用限流的方式來控制通入每一級腔體內的N2大5.本技術釆用電氣控制Nr流量，對于真空度影響極小。附圖說明圖i為本技術的結構示意圖2為本技術質量流量檢測的電路原理圖3為本技術電磁閩控制的電路原理圖4為本技術的控制流程其中l為減壓閥，2為質量流量控制器，3為第一電磁閥，4為 氣體管路，5為單向閥，6為氣路頭，7為通孔螺釘，8為第二電磁閩， 9為封堵，IO為第一部分，ll為第二部分，12為連接管。具體實施方式以下結合附圖對本技術作進一步詳述。如圖1所示，本技術包括減壓閥1、質量流量控制器2、電磁閥及氣體管路4，減壓閥1的一端通過快卸接頭與N2輸入端相連， 另一端連接有質量流量控制器2;氣體管路4中設有封堵9，將氣體 管路4分為封閉獨立的第一部分10及笫二部分11;質量流量控制器 2的輸出端分為兩路、分別與氣體管路4的第一、二部分IO、 11相 連接；質量流量控制器2與氣體管路4連接的兩條管路上分別設有第 一、二電磁閥3、 8;氣體管路4中的第一部分10上連接有連接管12, 連接管12的另一端通過氣路頭6、通孔螺釘7與干式真空泵的一級 腔體A (低壓級腔體)相連接，在連接管12上設有單向閩5;氣體管 路4中的第二部分11上連接有四根連接管12,每根連接管12的另 一端均通過氣路頭6、通孔螺釘7與干式真空泵的二 五腔體B E 連接，可以起到稀釋毒害氣體的作用，在每根連接管12上均設有單 向閥5。本實施例的單向閥5為單向節流閥，可以在防止返流的同時對進入不同腔體的氣體進行節流，從高真空級開始，流量逐級增大。 由于針對不同的半導體工藝通入的N2吹掃量不相同，因此本實用 新型的N2通過減壓閥1來控制其流量。Nr流量的大小通過質量流量控 制器2傳輸的電信號通過干式真空泵的前控制面板來讀取。第一、二 電磁閥3、 8分別對兩路N2進行控制，對于相對較清潔的半導體工藝， 只需打開高真空級端的第一電磁閥3,通入N2對一級腔體A(軸封端) 進行清洗，保護軸承不被腐蝕。而對于較為苛刻的工藝需要同時打開 第一、二電磁閥3、 8進行&吹掃。為了防止通入干式真空泵腔體內 的N2返流，在通往各級腔體的連接管12上均安裝了單向閩5;為了 減小對真空度的影響，單向閥5為單向節流閥，采用限流的方式來控 制通入每一級腔體內的N2大小，從干式真空泵的高真空級(一級腔體 A)到低真空級(五級腔體E)，吹入的Nr流量依次增大。如圖2所示，N2流量檢測電路設計原理是釆用質量流量控制器，將氣體流量信號轉化成電信號，經過運算放大器進行增益調節后送 CPU的AD轉換通道，將模擬信號轉換成數字信號，最后通過顯示屏 進行流量顯示。如圖3所示，電磁閥控制電路的設計原理是通過前面板的按鍵傳 遞閥門開、關信息，當CPU的輸入端接收到相應的信息后，通過1/0 口輸出端給觸發器U7信號，再經驅動模塊U9觸發對應的電磁閥控制繼電器線圈，相應的繼電器接點閉合，電磁閥帶電，開、關相應的氣 體管路。如圖4所示，本技術的工作流程為通過快卸接頭接入N2供給系統，根據工藝環境選擇是否需要同時 開啟第一、二電磁閥3、 8;如果針對干凈清潔的工藝，可以不開啟 電磁閥；其它情況下軸封端的第一電磁閥3應該開啟，通入N2對軸封 端進行清洗。若工藝環境較為苛刻，則將第一、二電磁閥3、 8同時 開啟，再調節減壓閥1讀取流量示數,檢測N2流量是否達到規定要求， 若達到要求，進行&吹掃；若沒有達到要求，再重新調節減壓閥1 直至Nr流量達到規定要求。本技術在抽氣過程中可保持真空環境不受污染，適用于半導 體、石化、冶金、食品、醫藥、電子、包裝、印刷等行業。權利要求1. 一種多級干式真空泵的清洗裝置，其特征在于:包括減壓閥(1)、質量流量控制器(2)、電磁閥及氣體管路(4)，減壓閥(1)的一端與氣體輸入端相連，另一端連接有質量流量控制器(2)；氣體管路(4)分為封閉獨立的第一部分(10)及第二部分(11)，質量流量控制器(2)的輸出端分為兩路、分別與氣體管路(4)的第一、二部分(10、11)相連接；質量流量控制器(2)與氣體管路(4)連接的每一路均設有電磁閥；氣體管路(4)中的第一部分(10)本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種多級干式真空泵的清洗裝置，其特征在于：包括減壓閥（１）、質量流量控制器（２）、電磁閥及氣體管路（４），減壓閥（１）的一端與氣體輸入端相連，另一端連接有質量流量控制器（２）；氣體管路（４）分為封閉獨立的第一部分（１０）及第二部分（１１），質量流量控制器（２）的輸出端分為兩路、分別與氣體管路（４）的第一、二部分（１０、１１）相連接；質量流量控制器（２）與氣體管路（４）連接的每一路均設有電磁閥；氣體管路（４）中的第一部分（１０）與干式真空泵的一級腔體（Ａ）相連接，第二部分（１１）分別與干式真空泵的二～五腔體（Ｂ～Ｅ）連接。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：王光玉，秦佰林，房偉，劉在行，
申請(專利權)人：中國科學院沈陽科學儀器研制中心有限公司，
類型：實用新型
國別省市：89[中國|沈陽]