用于電子材料的清潔液組合物制造技術

本發明專利技術公開一種清潔液組合物，基于組合物的總重量，包含：0.05～20wt％堿性化合物、0.1～40wt％水溶性極性有機溶劑、0.01～10wt％有機磷酸化合物、0.01～10wt％聚羧酸類共聚物、0.001～10wt％烷醇胺鹽、0.001～10wt％唑類化合物，及其余為水。

【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本專利技術涉及一種用于平板顯示器(FPD)的基板的清潔液組合物，該平板顯示器包括液晶顯示器、等離子體顯示器、柔性顯示器等。本申請要求2010年5月19日遞交的韓國專利申請第10-2010-0046886號的權益， 在此其全部內容通過引用并入本申請中。
技術介紹
如同半導體裝置一樣，通常由液晶顯示器代表的FPD通過膜形成、曝光、線路蝕刻等制造。在這些步驟中，諸如各種有機或無機材料等尺寸不大于I U m的顆粒，本身可能附著在基板表面上，造成基板污染。如果基板以其上附著有這種污染物的狀態進行后續步驟，可能存在膜的針孔或坑、以及線路的切斷或橋接，大大地降低產品的生產率。因此在各個步驟之間進行用于除去污染物的清潔步驟，為此引入各種清潔液。韓國專利申請第10-2008-7003568號公開一種用于半導體裝置的清除劑組合物，該組合物包含有機胺、有機膦酸、線形糖醇，及其余為水。然而，所述清除劑有限地用于半導體裝置，因此難以應用于各種領域。此外，所述清除劑不能防止由銅(Cu)和Cu合金制成的線路被腐蝕，因此難以應用于包括由Cu或Cu合金制成的線路的FPD裝置。韓國專利第10-0503231號公開一種能夠防止諸如鋁(Al)、Cu等用于半導體和TFT-LCD的金屬被腐蝕的清潔劑組合物，該清潔劑組合物包含特定的烷醇胺化合物、有機溶齊U、螯合化合物、非離子型表面活性劑、及水。然而，該清潔劑組合物存在問題，因為在除去有機污染物和顆粒的能力方面，使用僅烷醇胺和有機溶劑的組合不理想，并且另外鄰苯二酚或五倍子酸，其為基于聚羥基苯的螯合化合物，長期使用時可能造成沉積問題。韓國專利申請第10-2006-7015165號公開一種用于半導體裝置的基板清潔液，該基板清潔液包含有機酸、有機堿組分、表面活性劑、及水，且PH為I. 5至小于6. 5。然而，因為所述清潔液為酸性溶液，在起始清潔階段不足以除去不大于I U m的非常小的有機或無機顆粒。
技術實現思路
因此本專利技術已切記相關技術遇到的上述問題，本專利技術的一個目的是提供一種清潔液組合物，所述清潔液組合物除去在制造FPD期間污染玻璃基板或金屬層的有機污染物或顆粒的能力高，并且防止在FPD的基板上形成的A1、A1合金、Cu、Cu合金等金屬線路腐蝕的能力高。本專利技術的一個方面為提供一種清潔液組合物，基于組合物的總重量，包含0. 05 20wt%堿性化合物、0. I 40被％水溶性極性有機溶劑、0. 01 IOwt %有機磷酸化合物、0. 01 IOwt %聚羧酸類共聚物、0. 001 IOwt %烷醇胺鹽、0. 001 IOwt %唑類化合物以及其余的水。本專利技術的另一方面為提供一種制造用于液晶顯示器的陣列基板的方法，所述方法包括使用上述清潔液組合物清潔基板。本專利技術提供一種用于半導體裝置的清潔液組合物。根據本專利技術，所述清潔液組合物能表現出從用于Fro的玻璃基板或金屬層的表面除去有機污染物的高能力，且還表現出防止在基板上形成的由A1、A1合金、Cu、Cu合金等制成的金屬線路腐蝕的高能力。此外,所述清潔液組合物包含大量的水，因此易于處理且環境友好。附圖說明圖I示出被有機污染物中的有機氈尖筆標記污染的玻璃基板在清潔前的照片；圖2示出被有機氈尖筆標記污染的玻璃基板在使用實施 例4的清潔液組合物在清潔后的照片；圖3示出被其他有機污染物中的人的指紋污染的玻璃基板在清潔前的照片；以及圖4示出被指紋污染的玻璃基板在使用實施例4的清潔液組合物在清潔后的照片。具體實施例方式根據本專利技術，一種清潔液組合物，基于組合物的總重量，包含0.05 20wt%堿性化合物、0. I 40被％水溶性極性有機溶劑、0. 01 IOwt %有機磷酸化合物、0. 01 IOwt %聚羧酸類共聚物、0. 001 IOwt %燒醇胺鹽、0. 001 IOwt %唑類化合物和其余的水。包含在根據本專利技術的清潔液組合物中的堿性化合物可包括季銨鹽化合物，如四甲基氫氧化銨(TMAH)、四乙基氫氧化銨(TEAH)、四丙基氫氧化銨(TPAH)、四丁基氫氧化銨(TBAH)等；有機堿性化合物，包括諸如甲胺、乙胺、單異丙胺等的伯胺，諸如二乙胺、二異丙胺、二丁胺等的仲胺，諸如三甲胺、三乙胺、三異丙胺、三丁胺等的叔胺；烷醇胺，如膽堿、單乙醇胺、二乙醇胺、2-氨基乙醇、2-(乙氨基)乙醇、2-(甲氨基)乙醇、N-甲基二乙醇胺、二甲氨基乙醇、二乙氨基乙醇、次氨基三乙醇(nitrilotriethanol)、2-(2-氨基乙氧基)乙醇、I-氨基-2-丙醇、三乙醇胺、單丙醇胺、二丁醇胺等，這些物質可單獨使用或以兩種或更多種的混合物使用。基于組合物的總重量，堿性化合物可以0. 05 20wt%，且優選以0. I 10界七％的量使用。如果堿性化合物的量小于0. 05wt%,則不能充分地除去細小的顆粒、有機污染物和無機污染物。相反，如果堿性化合物的量超過20wt%，則組合物的pH可能增加，由此對金屬線路的腐蝕可能增加。包含在根據本專利技術的清潔液組合物中的水溶性極性有機溶劑可包括N-甲基吡咯烷酮(NMP)、1，3-二甲基-2-咪唑啉酮(DMI)、二甲基亞砜(DMS0)、二甲基乙酰胺(DMAc)、二甲基甲酰胺(DMF)、四氫糠醇、異佛爾酮、己二酸二乙酯、戊二酸二甲酯(dimthylglutarate)、環丁砜、丁內酯(GBL)等,這些物質可單獨使用或以兩種或更多種的混合物使用。基于組合物的總重量，水溶性極性有機溶劑可以0. I 40wt%，且優選以0. 5 20wt%的量使用。如果水溶性極性有機溶劑的量小于0. lwt%，則不能期望因溶劑增加而清潔液組合物溶解污染物的能力增加。相反，如果水溶性極性有機溶劑的量超過40wt%，則減損經濟利益，且無法預期環境優點。包含在根據本專利技術的清潔液組合物中的有機磷酸化合物非常有效地從玻璃基板的上表面除去有機污染物或顆粒，且還控制清潔液組合物的總pH，由此在防止金屬被腐蝕及表現出清潔效果兩方面都起著重要的作用。有機磷酸化合物可包括氨基三(亞甲基膦酸)、乙叉二膦酸、I-羥基乙叉-I，I- 二膦酸、I-羥基丙叉-I，I- 二膦酸、I-羥基丁叉-I，I- 二膦酸、乙氨基二(亞甲基膦酸)、I，2-丙二胺四(亞甲基膦酸)、十二烷氨基二(亞甲基膦酸)、硝基三(亞甲基膦酸)、乙二胺二(亞甲基膦酸)、乙二胺四(亞甲基膦酸)、己二胺四(亞甲基膦酸)、二乙撐三胺五(亞甲基膦酸)、環己烷二胺四(亞甲基膦酸)、羥基膦酰基乙酸、以及2-膦酰基-丁烷-1，2，4-三羧酸，這些物質可單獨使用或以兩種或更多種的混合物使用。基于組合物的總重量，有機磷酸化合物以0. 01 10wt%，且優選以0. 05 5wt%的量使用。如果有機磷酸化合物的量小于0. 01wt%，則可能降低清潔液組合物除去污染物顆粒的能力，且難以控制清潔液組合物的pH。相反，如果有機磷酸化合物的量超過10wt%，則可能降低組合物的PH，因而降低除去顆粒的能力且增加對金屬線路的腐蝕。包含在根據本專利技術的清潔液組合物中的聚羧酸類共聚物在金屬表面上形成保護層以抑制金屬與堿離子之間的過度反應，由此防止金屬被腐蝕，且發揮著PH控制劑的作用。聚羧酸共聚物可包含由下式I表示的單體。[式I]本文檔來自技高網...

【技術保護點】

【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】2010.05.19 KR 10-2010-00468861.一種清潔液組合物，基于組合物的總重量，包含0. 05 20被％堿性化合物、O. I 40Wt%水溶性極性有機溶剤、O. 01 IOwt^有機磷酸化合物、O. 01 IOwt^聚羧酸類共聚物、O. 001 10wt%烷醇胺鹽、O. 001 10 丨％唑類化合物和其余的水。2.根據權利要求I所述的清潔液組合物，其中所述堿性化合物為選自由四甲基氫氧化銨(TMAH)、四こ基氫氧化銨(TEAH)、四丙基氫氧化銨(TPAH)、四丁基氫氧化銨(TBAH)、甲胺、こ胺、單異丙胺、ニこ胺、ニ異丙胺、ニ丁胺、三甲胺、三こ胺、三異丙胺、三丁胺、膽堿、單こ醇胺、ニこ醇胺、2-氨基こ醇、2-(こ氨基)こ醇、2-(甲氨基)こ醇、N-甲基ニこ醇胺、ニ甲氨基こ醇、ニこ氨基こ醇、次氨基三こ醇、2- (2-氨基こ氧基)こ醇、I-氨基-2-丙醇、三こ醇胺、單丙醇胺和ニ丁醇胺組成的組中的ー種或多種。3.根據權利要求I所述的清潔液組合物，其中所述水溶性極性有機溶劑為選自由N-甲基吡咯烷酮(NMP)、1，3_ ニ甲基-2-咪唑啉酮(DMI)、ニ甲基亞砜(DMSO)、ニ甲基こ酰胺(DMAc)、ニ甲基甲酰胺(DMF)、四氫糠醇、異佛爾酮、己ニ酸ニこ酷、戊ニ酸ニ甲酷、環丁砜和Y-丁內酯(GBL)組成的組中的ー種或多種。4.根據權利要求I所述的清潔液組合物，其中所述有機磷酸化合物為選自由氨基三(亞甲基膦酸)、こ叉ニ膦酸、I-羥基こ叉-I，I-ニ膦酸、I-羥基丙叉-I，I-ニ膦酸、I-羥基丁叉-1，I-ニ膦酸、こ氨基ニ(亞甲基膦酸)、1，2_丙ニ胺四(亞甲基膦酸)、十二烷氨基ニ(亞甲基膦酸)、硝基三(亞甲基膦酸)、こニ胺ニ(...

【專利技術屬性】
技術研發人員：房淳洪，尹嚆重，洪憲杓，金炳默，
申請(專利權)人：東友FINECHEM股份有限公司，
類型：
國別省市：