一種濕式硅片噴砂機制造技術

本實用新型專利技術公開了一種濕式硅片噴砂機，包括相鄰設置的噴砂室體和清洗室體，所述噴砂室體的入口處設置有送片段和忘帶輸送機，噴砂室體內設置有噴槍往復系統，噴砂室體的底部安裝有丸料循環及攪拌裝置；所述清洗室體內安裝有清水清洗裝置和吹清裝置，清洗室體的出口端安裝有取片段。本實用新型專利技術的有益效果在于：主要用于對硅片表面的雜物進行自動清理，不需要用人工進行放片及取片作業，避免了人工取片可能導致工件正返兩面搞錯，提高了生產的效率，降低了硅片的碎片程度。（*該技術在2022年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

本技術涉及硅片制造領域，特別涉及到一種濕式硅片噴砂機。
技術介紹
如今全球都對資源節約與新能源的開發問題甚為關注，面對資源短缺的狀況，世界各國都在開發新能源領域，如今在新能源領域，主要體現在風能和太陽能方面，面代太陽能行業的硅片巨大需求量。噴砂行業中的濕噴砂工藝對切割后的硅片表面進行清理。原來的硅片清理采用的是機械磨片工藝，生產效率低，碎片程度高
技術實現思路
本技術的目的在于提供一種濕式硅片噴砂機，通過采用自動化的設計理念，并采用風能清洗裝置，克服了傳統技術中的不足，從而實現本技術的目的。本技術所解決的技術問題可以采用以下技術方案來實現一種濕式硅片噴砂機，包括相鄰設置的噴砂室體和清洗室體，其特征在于，所述噴砂室體的入口處設置有送片段和忘帶輸送機，噴砂室體內設置有噴槍往復系統，噴砂室體的底部安裝有丸料循環及攪拌裝置；所述清洗室體內安裝有清水清洗裝置和吹清裝置，清洗室體的出口端安裝有取片段。在本技術的一個實施例中，所述送片段包括左右的兩臺升降機構、換位機構、中間過渡段，升降平移吸附機構。在本技術的一個實施例中，所述網帶輸送機含滾筒，輸送網帶，同步帶輪，同步帶，減速電機。在本技術的一個實施例中，所述噴槍往復裝置包括若干噴槍、槍架、往復機構和動力驅動裝置。在本技術的一個實施例中，所述丸料循環及攪拌裝置包括耐磨循環水泵、耐磨攪拌泵以及連接兩者的管路系統。在本技術的一個實施例中，所述取片段包括左右兩臺升降機構、升降吸附平移機構、插板分路裝置、導流槽和導流泵。本技術的有益效果在于主要用于對硅片表面的雜物進行自動清理，不需要用人工進行放片及取片作業，避免了人工取片可能導致工件正返兩面搞錯，提高了生產的效率，降低了硅片的碎片程度。附圖說明圖I為本技術所述的濕式硅片噴砂機的結構示意圖。具體實施方式為使本技術實現的技術手段、創作特征、達成目的與功效易于明白了解，下面結合具體實施方式，進一步闡述本技術。如圖I所示，本技術所述的濕式硅片噴砂機，主要包括送片段、網帶輸送機、噴槍及往復裝置、噴砂室、丸料循環系統、清洗室、吹清、清水清洗、排風、取片段、及電控等系統。送片段由左右兩臺升降機構、換位機構、中間過渡段，升降平移吸附機構組成。升降機構用于硅片的上線，由調速電機及多頭絲桿，導向桿、輸出裝置及機架組成，通過步進方式，使硅片從硅片盒中一片片輸出，輸出至中間過渡段，硅片被平移機構移至網帶輸送機上，硅片的送片電機采用的是伺復控制，定位精確，可靠，穩定性好。換位機構，是讓兩套升降機構進行換位，一套升降機構在線，另外一套升降機構可讓工人進行裝盒。設備由無桿氣缸，機架，直線導軌等組成。中間過渡段是由機架，輸送機構，電機等組成，用于工件的停屯，便于工件的吸附。 升降平移吸附機構由升降氣缸、旋轉氣缸，真空吸附及機架組成。網帶輸送機含滾筒，輸送網帶，同步帶輪，同步帶，減速電機等網帶輸送機采用網帶輸送，輸送網帶無接頭，網帶材料聚胺脂，耐磨不損硅片，噴砂處理段采用直徑為15mm間距IOOmm托輥支撐(托輥采用不銹鋼圓鋼)，保證輸送帶的平整，以確保硅片噴砂處理時將外力均勻地分布在網帶上，防止硅片因受沖擊時過度彎曲而折斷。其驅動系統采用變頻器控制，速度可在0-2m/min調節，以適應不同工件的噴砂處理，有效帶寬為250mm。網帶輸送帶的張緊度可調，采用全封閉無接頭形式。滾筒是采用不銹鋼制成，外包5-10mm聚胺脂。噴槍及往復裝置主要由4只噴槍、槍架、往復機構(往復速度均勻、無振動)和動力驅動等組成。槍架用于固定噴槍，同時可調節噴槍到工件的間距，以適合不同的噴砂處理；往復機構采用直線滑軌帶動槍架來回行走，同時控制噴槍組的研掃幅寬，初設為200mm ;動力驅動采用變頻器控制，其擺動頻率在10-50次/min內可調，以適應不同工件的噴砂處理。噴槍所有的連接的接頭均采用對硅片無害且耐磨材料。其動力功耗為0. 37KW。丸料循環系統主要由一臺耐磨循環水泵、一臺耐磨攪拌泵及管路系統組成。通過循環泵對噴砂室體內的丸料進行循環噴砂，一臺攪拌泵使噴砂室水箱的砂水混合均勻，確保噴砂的質量，在不噴時可定時起動，防止磨料沉淀；通過丸料輸送管路將丸料送至噴槍進行噴砂處理；通過排污閥進行污水排泄，同時通過循環泵上的純水加入閥，加入清水更換污水(并設置廢砂更換的抽出口)。耐磨泵采用耐磨材料陶瓷制成。取片段由左右兩臺升降機構、升降吸附平移機構、插板分路裝置(硅片分路、入盒順暢)和導流槽及泵等組成。升降機構用于硅片的下線，硅片盒的升降機構其下件采用步進方式，取片電機采用的是伺復控制，定位精確，可靠，穩定性好。導流槽采用PP板或4氟板及不銹鋼型材焊接而成。噴砂室體及清洗室體噴砂室體上部室體采用不鋼板折邊及不銹鋼型材焊接而成尺寸(長X寬X高)視具體要求而定。噴砂室體內尺寸(長X寬X高)視具體要求而定。清洗室體內尺寸(長X寬X高)視具體要求而定。噴砂室體的側面設動力排風口，對室體進行抽風，以確保觀察的能見度；室體觀察窗口設雨刷機構，確保觀察窗的清潔。室體進出口處盡可能小，門體密封性好，無液體流出。室體內貼聚脂吸音材料，即可降低噪音，又保護室體耐磨。噴砂室體底部設丸料箱，回收砂料。在丸料箱內裝設網孔板(Φ5)，用于加砂時篩分雜物。室體照明采用2 X 100W只鹵素燈，照明亮度達到240勒克斯，共2只。噴砂室體需固定在堅固的基礎上。吹清采用風刀對工件及輸送帶進行快速吹清。其氣源采用來于潔凈的壓縮空氣，在尾部連設兩組對上輸送帶及娃片進行吹清，功耗為lm3/min,3. 0Kg/cm2。清水清洗是采用扁平噴嘴對進行噴砂處理后的硅片和輸送帶進行清水清洗。清洗后的混合物直接排出室外。排風系統由風機及風管組成，用以排出噴砂過程中的水汽，控制系統采用手動+自動，PLC及變頻器，電控系統采用模板式觸摸屏集中控制，輸送線速度可視，噴不同規格的工件均只需選擇工件的規格即可。動力配制電功率9KW(不含空壓機)壓縮空氣源6m3/min，6. 0Kg/cm2(需經精密過濾器、調壓閥和油霧器三大件處理)。本技術的所述的濕式硅片噴砂機的工藝流程如下開啟機器前30分鐘，應先通入壓縮空氣，讓室體內由于長時間未使用而沉積的磨料懸浮起來，以便于開機時可以直接使用合上斷路器，打開面板上電源開關，然后開啟送砂磨料泵和除霧風機，下片臺，打到手動狀態，點動上升鍵，使硅片盒架升到位，放上一個空盒，然后打到自動狀態，按一下開始鍵，片架下降到開始位置，等待片子狀態，然后打開架子下方的水泵使水平緩的流下。上片臺，打到停止狀態，用手動方法，把片子上升到位，放上裝滿片子的盒子，關閉停止狀態。上片臺，點動開始鍵，機器處于自動運行狀態?？吹谝惶柵_，片子差不多發完，把裝滿片子的盒放到第二臺發片臺下片處，空盒放到第二號接片處，機器會自動轉換調節。根據實際需要，可調節發片的時間，傳輸的速度可調節機箱內的變頻器，可根據頻率和線速度的對照表看出線速度，為達到噴砂的效果，可調節噴砂壓力和機器擺動的速度，也可調節機器內的變頻器。當機器發完I號架時，2號有滿盒機器會自動轉換(反之其處于等待狀態)，I號臺自動上升到發片的初始位，拿掉空盒，放上滿片盒。下片處用手動時，上升到位，處于自動狀態，必須按對本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種濕式硅片噴砂機，包括相鄰設置的噴砂室體和清洗室體，其特征在于，所述噴砂室體的入口處設置有送片段和網帶輸送機，噴砂室體內設置有噴槍往復系統，噴砂室體的底部安裝有丸料循環及攪拌裝置；所述清洗室體內安裝有清水清洗裝置和吹清裝置，清洗室體的出口端安裝有取片段。

【技術特征摘要】
1.一種濕式硅片噴砂機，包括相鄰設置的噴砂室體和清洗室體，其特征在于，所述噴砂室體的入口處設置有送片段和網帶輸送機，噴砂室體內設置有噴槍往復系統，噴砂室體的底部安裝有丸料循環及攪拌裝置；所述清洗室體內安裝有清水清洗裝置和吹清裝置，清洗室體的出口端安裝有取片段。2.根據權利要求I所述的一種濕式硅片噴砂機，其特征在于，所述送片段包括左右的兩臺升降機構、換位機構、中間過渡段，升降平移吸附機構。3.根據權利要求I所述的一種濕式硅片噴砂機，其特征在于...

【專利技術屬性】
技術研發人員：趙大喜，
申請(專利權)人：上海良時噴涂設備有限公司，
類型：實用新型
國別省市：