【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及一種。
技術(shù)介紹
鋁或者鋁合金具有密度小、熱膨脹系數(shù)低、比剛度高、比強(qiáng)度高、易加工成型等優(yōu)異的物理、化學(xué)性能。但是鋁或鋁合金存在耐磨性差和易產(chǎn)生塑性變形，大大限制了鋁或鋁合金的應(yīng)用范圍，因此表面強(qiáng)化是改善鋁或者鋁合金性能的有效方法。目前，陽極處理是鋁或者鋁合金最常用的表面強(qiáng)化技木，它是以鋁或鋁合金制品為陽極置于電解質(zhì)溶液中，利用電解作用，使其表面形成氧化鋁薄膜的過程。陽極氧化膜由兩層組成，多孔且較厚的外層是在具有介電性質(zhì)的致密的內(nèi)層上生長起來，該內(nèi)層也稱為 阻擋層(或活性層)。然而陽極氧化膜在硬度上很難與金屬陶瓷膜相比，因此常常導(dǎo)致其很容易被撞傷，導(dǎo)致表面強(qiáng)化效果差。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
有鑒于此，提供ー種具有良好的硬度及裝飾性外觀的殼體。另外，還提供ー種上述殼體的制備方法。ー種殼體，包括鋁或鋁合金基體及形成于該鋁或鋁合金基體表面的陽極氧化層，所述殼體還包括形成于該陽極氧化層表面的硬質(zhì)層，所述硬質(zhì)層包括依次形成于陽極氧化層表面的鋁層、氮氧化鋁層及氧化硅層。一種殼體的制備方法，包括以下步驟 提供鋁或鋁合金基體； 于該鋁或鋁合金基體上形成陽極氧化層； 于該陽極氧化層上磁控濺射硬質(zhì)層，所述硬質(zhì)層包括依次形成于該陽極氧化層表面的鋁層、氮氧化鋁層及氧化硅層。本專利技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)在于通過磁控濺射的方法在鋁或鋁合金基體上形成陽極氧化層，之后，在該陽極氧化層上再通過磁控濺射形成層硬質(zhì)膜，解決了陽極氧化層硬度不足的問題。另外，在該硬質(zhì)層中設(shè)置一位于基體與氮氧化鋁層之間的鋁層，能起到一個(gè)過渡緩沖的作用，降低了基體與氮氧化鋁層之間的晶格畸變應(yīng)力，增強(qiáng)了各膜層之間的結(jié)合力...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種殼體，包括鋁或鋁合金基體及形成于該鋁或鋁合金基體表面的陽極氧化層，其特征在于：所述殼體還包括形成于該陽極氧化層表面的硬質(zhì)層，所述硬質(zhì)層包括依次形成于陽極氧化層表面的鋁層、氮氧化鋁層及氧化硅層。
【技術(shù)特征摘要】
1.ー種殼體，包括鋁或鋁合金基體及形成于該鋁或鋁合金基體表面的陽極氧化層，其特征在于所述殼體還包括形成于該陽極氧化層表面的硬質(zhì)層，所述硬質(zhì)層包括依次形成于陽極氧化層表面的鋁層、氮氧化鋁層及氧化硅層。2.如權(quán)利要求I所述的殼體，其特征在于所述鋁層的厚度為O.2^0. 5 μ m03.如權(quán)利要求I所述的殼體，其特征在于所述氮氧化鋁層的厚度為O.5^1. O μ m04.如權(quán)利要求I所述的殼體，其特征在于所述氧化硅層的厚度為O.5-1. O μ m。5.如權(quán)利要求I所述的殼體，其特征在于所述硬質(zhì)層以磁控濺射鍍膜法形成。6.如權(quán)利要求I所述的殼體，其特征在于所述硬質(zhì)層為透明膜層。7.一種殼體的制備方法，包括以下步驟 提供鋁或鋁合金基體； 于該鋁或鋁合金基體上形成陽極氧化層； 于該陽極氧化層上磁控濺射硬質(zhì)層，所述硬質(zhì)層包括依次形成于該陽極氧化層表面的鋁層、氮氧化鋁層及氧化硅層。8.如權(quán)利要求7所述的殼體的制備方法，其特征在于磁控濺射所述鋁層的エ藝參數(shù)為以氬氣為工作氣體，其流量...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：陳正士，李聰，王瑩瑩，張成，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：鴻富錦精密工業(yè)深圳有限公司，鴻海精密工業(yè)股份有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：
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