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    殼體用高光澤鋁涂裝材料及其制造方法技術(shù)

    技術(shù)編號:8133658 閱讀:192 留言:0更新日期:2012-12-27 08:52
    本發(fā)明專利技術(shù)為一種具有由鋁合金構(gòu)成的基材(2)和在該基材表面形成的涂膜(3)的殼體用高光澤鋁涂裝材料(1)及其制造方法。在殼體用高光澤鋁涂裝材料(1)中,在表面粗糙度Ra為0.001~0.05μm的基材(2)上通過電泳涂裝形成有涂膜(3)。在其制造時(shí),進(jìn)行基材制作工序和電泳涂裝工序。在基材制作工序中,通過利用軋制的復(fù)制、化學(xué)拋光、電解拋光、或機(jī)械拋光的任一種,制作由表面粗糙度Ra為0.001~0.05μm的鋁合金構(gòu)成的基材(2)。在電泳涂裝工序中,在基材(2)的表面通過電泳涂裝形成涂膜(3)。

    【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
    【國外來華專利技術(shù)】
    本專利技術(shù)涉及電子設(shè)備等的殼體使用的鋁涂裝材料及其制造方法。
    技術(shù)介紹
    個(gè)人電腦、手機(jī)等電子設(shè)備具備容納電子部件的金屬制的殼體。對殼體要求高強(qiáng)度,并且要求可以使內(nèi)部容納的電子部件產(chǎn)生的熱高效地散發(fā)的優(yōu)異的散熱性。另外,對手機(jī)或筆記本電腦等攜帯用的電子設(shè)備用的殼體要求輕量性。因而,由金屬中輕量且傳熱性優(yōu)異的鋁合金材料構(gòu)成的殼體備受關(guān)注。另外,殼體是用戶直接看到并觸摸的部件。以往,殼體所使用的鋁合金材料為了避免被手觸摸時(shí)殘留指紋,使用采用噴丸等將表面粗糙化為柚子皮狀后實(shí)施鋁陽極化處理(アルマイ卜(注冊商標(biāo)))的材料。 但是,近年來,表面光滑且具有光澤感的殼體的具有高級感的圖案性備受關(guān)注。具有光澤感的鋁材可以通過軋制來制造。具體地說,已開發(fā)了例如在最終的軋制加工中使用鏡面輥?zhàn)鳛檐堓?,并且使表面形成有粘接層的粘接輥與鏡面輥或鋁材接觸進(jìn)行軋制加工而獲得高光澤的鋁材的方法(參照引用文獻(xiàn)I)。在這種方法中,能夠進(jìn)行利用硬質(zhì)、和鋁的親和性弱且無方向性的鏡面輥的軋制,進(jìn)而可利用粘接輥除去異物。因此,能夠制造無方向性的高光澤的鋁材。另外,已開發(fā)了進(jìn)行冷軋時(shí),通過使用粗糙度逐漸減小的輥并且在加工途中實(shí)施濕度調(diào)節(jié)處理而獲得高光澤的鋁材的方法(參照專利文獻(xiàn)2)。另外,已開發(fā)了表面的平均粗糙度Ra為O. 20 O. 60 μ m、凹凸的平均間隔Rsm為O. 030mm以上,峰計(jì)數(shù)Pc (±0. 05 μ m)為250個(gè)/cm以下,且表面分布的O. 5 30 μ m大小的油坑為5 X IO3個(gè)/mm2以下的高光澤鋁板(參照專利文獻(xiàn)3)。現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)I :特開平2-41705號公報(bào)專利文獻(xiàn)2 :特開平2-217448號公報(bào)專利文獻(xiàn)3 :特開2002-143904號公報(bào)
    技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
    專利技術(shù)所要解決的課題但是,近年來,對殼體要求更接近鏡面的非常高的光澤感,以往的鋁材是不夠的。另外,對殼體要求兼?zhèn)涓吖鉂傻慕饘俚馁|(zhì)感和色彩的圖案性,需要在殼體用的鋁材上通過涂裝形成涂膜。以往所開發(fā)的鋁材不能獲得兼?zhèn)渥銐虻墓鉂筛泻蜕实臍んw。本專利技術(shù)是鑒于這種問題點(diǎn)而完成的,目的在于提供ー種兼?zhèn)渑c鏡面相匹敵的高的光澤感和色彩的。用于解決課題的手段本專利技術(shù)的第一方面提供一種殼體用高光澤鋁涂裝材料,其具有由鋁合金構(gòu)成的基材和在該基材表面形成的涂膜,其特征為,在表面粗糙度Ra為O. 001 O. 05 μ m的所述基材上,通過電泳涂裝形成有所述涂膜。本專利技術(shù)的第二方面提供一種殼體用高光澤鋁涂裝材料的制造方法,其為制造具有由鋁合金構(gòu)成的基材和在該基材表面形成的涂膜的殼體用高光澤鋁涂裝材料的方法,其特征在于,具有 基材制作エ序,通過利用軋制的復(fù)制、化學(xué)拋光、電解拋光、或機(jī)械拋光的任ー種,制作由表面粗糙度Ra為O. 001 O. 05 μ m的鋁合金構(gòu)成的所述基材;和 電泳涂裝エ序,在所述基材的表面通過電泳涂裝形成涂膜。專利技術(shù)效果本專利技術(shù)的第一方面的殼體用高光澤鋁涂裝材料,在表面粗糙度Ra為0.001 O. 05 μ m的所述基材上,通過電泳涂裝形成所述涂膜。因此,所述殼體用高光澤鋁涂裝材料能夠兼?zhèn)湎耒R面那樣的非常高的光澤感和涂膜帶來的色彩感。即,在所述殼體用高光澤鋁涂裝材料中,在O. 001 O. 05 μ m這樣的表面粗糙度Ra非常小、光澤感高的所述基材的表面通過電泳涂裝形成有所述涂膜。因此,所述基材顯示的高光澤性由于所述涂膜而幾乎不被損壞。所以,所述殼體用高光澤鋁涂裝材料能夠發(fā)揮與鏡面相匹敵的高的光澤感和色彩感。另外,由于是通過電泳涂裝形成所述涂膜,因此對于如上所述具有非常小的表面粗糙度的所述基材,也能夠密合性良好地形成涂膜。在本專利技術(shù)的第二方面中,通過進(jìn)行所述基材制作エ序和所述電泳涂裝エ序,制造所述殼體用高光澤鋁涂裝材料。在所述基材制作エ序中,通過利用軋制的復(fù)制、化學(xué)拋光、電解拋光、或機(jī)械拋光的任ー種,制作由表面粗糙度Ra為O. 001 O. 05 μ m的鋁合金構(gòu)成的基材。這樣操作,能夠獲得具有像鏡面那樣的非常高的光澤感的基材。在所述電泳涂裝エ序中,在所述基材的表面通過電泳涂裝形成涂膜。由于所述涂膜是通過電泳涂裝形成在所述基材的表面,因此利用所述涂膜能夠防止所述基材具有的優(yōu)異的光澤感被損壞。另外,對于如上所述具有非常小的表面粗糙度的所述基材,也能夠密合性良好地形成所述涂膜。因此,能夠制作兼?zhèn)渑c鏡面相匹敵的高的光澤感和色彩的殼體用高光澤鋁涂裝材料。附圖說明圖I是表示實(shí)施例涉及的殼體用高光澤鋁涂裝材料的截面的說明圖。具體實(shí)施例方式本專利技術(shù)的殼體用高光澤鋁涂裝材料,具有由鋁合金構(gòu)成的表面粗糙度Ra為O. 001 O. 05 μ m的基材。在此,“鋁合金”的概念不僅包含含有Al和Al以外的金屬元素的鋁合金,而且還包含純鋁。在所述基材的表面粗糙度Ra超過O. 05 μ m的情況下,涂裝后的光澤性有可能不充分。另外,從光澤性的觀點(diǎn)出發(fā),所述表面粗糙度Ra越小越好,但Ra不足O. 001 μ m的基材,エ業(yè)上難以生產(chǎn)。另外,所述基材優(yōu)選由純度99. 5質(zhì)量%以上的純鋁、或至少含有O. 5 6質(zhì)量%的Mg的鋁合金構(gòu)成。在該情況下,能夠進(jìn)ー步提高所述基材的光澤性。另外,在采用由純鋁構(gòu)成的所述基材的情況下,不僅可以通過利用軋制的復(fù)制或機(jī)械拋光,而且可以通過化學(xué)拋光或電解拋光將表面粗糙度Ra調(diào)整為O. 001 O. 05 μ m。在所述基材含有大量鋁以外的雜質(zhì)的情況下,有可能在制造過程中,金屬間化合物在材料中大量結(jié)晶或析出,研磨時(shí),材料中的金屬間化合物溶解或脫落。其結(jié)果是,有可能產(chǎn)生微小的凹凸,難以使表面粗糙度充分地降低。在不需要材料自身強(qiáng)度的情況下,也可以采用純·度99. 7質(zhì)量%以上的純鋁。在該情況下,通過增大例如大型的殼體用的基材的厚度也可以確保剛性。另外,在用于像攜帯用的電子設(shè)備等那樣小型的殼體的情況下,優(yōu)選采用如上所述由至少含有O. 5 6質(zhì)量%的Mg的鋁合金構(gòu)成的基材。Mg由于在鋁中容易固溶,因而起到使固溶體硬化的作用,能夠提高材料強(qiáng)度。具體地說,作為鋁合金可以采用例如AA5252、或AA5657。在Mg的含量不足O. 5質(zhì)量%的情況下,有可能不能充分獲得材料強(qiáng)度的提高效果。另ー方面,在Mg的含量超過6質(zhì)量%的情況下,有可能在鑄造時(shí)生成粗大的Al-Mg-Si系結(jié)晶物,基材的表面光澤劣化。更優(yōu)選Mg含量為O. 5 3質(zhì)量%。所述基材的厚度優(yōu)選為O. I 2mm。在基材的厚度不足O. Imm的情況下,作為殼體用有可能難以發(fā)揮足夠的強(qiáng)度。另一方面,在基材的厚度超過2_的情況下,有可能損壞成形性。更優(yōu)選所述基材的厚度為O. 3 Imm0所述涂膜通過電泳涂裝來形成。作為所述電泳涂裝,可以采用陽離子電泳涂裝或陰離子電泳涂裝。優(yōu)選陰離子電泳涂裝。在該情況下,涂料的附著均勻性(付きまゎり)良好,能夠獲得鮮明且多種的色調(diào)。所述涂膜的厚度優(yōu)選5 50 μ m。在涂膜的厚度不足5 μ m的情況下,難以獲得涂膜產(chǎn)生的表面保護(hù)效果,耐損傷性有可能劣化。另ー方面,在涂膜的厚度超過50μπι的情況下,光澤性有可能降低。更優(yōu)選所述涂膜的厚度為10 20 μ m。所述殼體用高光澤鋁涂裝材料可以通過進(jìn)行基材制作エ序和電泳涂裝エ序來制造。在所述基材制作エ序中,通過利用軋制的復(fù)制、化學(xué)拋光、電解拋光本文檔來自技高網(wǎng)
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    【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

    【技術(shù)特征摘要】
    【國外來華專利技術(shù)】2010.01.19 JP 2010-0091741.一種殼體用高光澤鋁涂裝材料,其具有由鋁合金構(gòu)成的基材和在該基材表面形成的涂膜,其特征在干, 在表面粗糙度Ra為O. OOl O. 05 μ m的所述基材上通過電泳涂裝形成有所述涂膜。2.權(quán)利要求I所述的殼體用高光澤鋁涂裝材料,其特征在于,所述基材由純度99.5質(zhì)量%以上的純招、或至少含有O. 5 6質(zhì)量%的Mg的招合金構(gòu)成。3.權(quán)利要求I或2所述的殼體用高光澤鋁涂裝材料,其特征在于,所述基材的厚度為O. I 2mmο4.權(quán)利要求I 3任一項(xiàng)所述的殼體用高光澤鋁涂裝材料,其特征在于,所述涂膜的厚度為5 50 μ m。5.一種殼體用高光澤鋁涂裝材料的制造方法,其為制造具有由鋁合金構(gòu)成的基材和...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:米光誠,細(xì)見和弘
    申請(專利權(quán))人:住友輕金屬工業(yè)株式會(huì)社,
    類型:
    國別省市:

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