本實用新型專利技術(shù)提供一種具有超聲波除塵功能的光學(xué)鍍膜裝置,包括:真空間、用于承載待鍍件的轉(zhuǎn)盤、與所述待鍍件相對設(shè)置的蒸發(fā)源、支撐桿、通過所述支撐桿位于所述轉(zhuǎn)盤和所述蒸發(fā)源之間的遮板組、超聲波發(fā)生器和超聲波換能器;其中,所述轉(zhuǎn)盤、所述蒸發(fā)源、所述支撐桿和所述遮板組均位于所述真空間內(nèi),所述超聲波發(fā)生器和所述超聲波換能器電連接,所述超聲波換能器和所述轉(zhuǎn)盤機械連接。使用本實用新型專利技術(shù)的具有超聲波除塵功能的光學(xué)鍍膜裝置,可以除去待鍍件清洗之后送入鍍膜裝置之前染上的灰塵,保證鍍膜的質(zhì)量。(*該技術(shù)在2022年保護過期,可自由使用*)
【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本技術(shù)涉及光學(xué)鍍膜領(lǐng)域,尤其涉及具有超聲波除塵功能的光學(xué)鍍膜裝置。
技術(shù)介紹
光學(xué)鍍膜在光學(xué)儀器上應(yīng)用非常廣泛,它是在光學(xué)零件表面上鍍上ー層或多層光學(xué)薄膜的エ藝過程,通過該エ藝過程可以改變照射在光學(xué)零件上的光波的傳輸特性。光學(xué)薄膜的制作通常采用物理蒸鍍法,就是將薄膜材料由固態(tài)轉(zhuǎn)化為氣態(tài)或離子態(tài),氣態(tài)或離子態(tài)的薄膜材料從蒸發(fā)源到達待鍍件,在待鍍件上沉積而形成薄膜。并且,為了制作高純度的光學(xué)薄膜,通常采用真空鍍膜。所以,一般地,光學(xué)鍍膜的過程是清洗待鍍件,將待鍍件放置在支撐待鍍件的物體上,送入鍍膜裝置,然后將鍍膜裝置抽成真空,在真空環(huán)境下對待鍍件進行鍍膜。上述的技術(shù)方案存在的缺點是,清洗待鍍件的環(huán)境不是真空環(huán)境,清洗后的待鍍件被送入鍍膜裝置之前會與外界環(huán)境接觸,這樣有可能使得待鍍件再度染上灰塵?!す_于該技術(shù)
技術(shù)介紹
部分的信息僅僅g在加深對本技術(shù)的一般
技術(shù)介紹
的理解,而不應(yīng)當被視為承認或以任何形式暗示該信息構(gòu)成已為本領(lǐng)域技術(shù)人員所公知的現(xiàn)有技術(shù)。
技術(shù)實現(xiàn)思路
針對上述缺陷,本技術(shù)提供ー種具有超聲波除塵功能的光學(xué)鍍膜裝置。本技術(shù)的具有超聲波除塵功能的光學(xué)鍍膜裝置包括真空間、用于承載待鍍件的轉(zhuǎn)盤、與所述待鍍件相對設(shè)置的蒸發(fā)源、支撐桿、通過所述支撐桿位于所述轉(zhuǎn)盤和所述蒸發(fā)源之間的遮板組、超聲波發(fā)生器和超聲波換能器;其中,所述轉(zhuǎn)盤、所述蒸發(fā)源、所述支撐桿和所述遮板組均位于所述真空間內(nèi),所述超聲波發(fā)生器和所述超聲波換能器電連接,所述超聲波換能器和所述轉(zhuǎn)盤機械連接。如上所述的具有超聲波除塵功能的光學(xué)鍍膜裝置,其中,所述遮板組包括多個具有不同形狀的遮板,所述支撐桿伸出所述真空間。如上所述的具有超聲波除塵功能的光學(xué)鍍膜裝置,其中,還包括用于帶動所述支撐桿旋轉(zhuǎn)以在所述遮板組中選擇具有特定形狀的遮板的第一電機。如上所述的具有超聲波除塵功能的光學(xué)鍍膜裝置,其中,還包括用于帶動所述轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)的第二電機,所述第二電機位于所述真空間外,并與所述轉(zhuǎn)盤機械連接。如上所述的具有超聲波除塵功能的光學(xué)鍍膜裝置,其中,所述轉(zhuǎn)盤位于所述真空間的上部,所述待鍍件位于所述轉(zhuǎn)盤的底面。如上所述的具有超聲波除塵功能的光學(xué)鍍膜裝置,其中,所述超聲波發(fā)生器和所述超聲波換能器都在真空間外。使用本技術(shù)的具有超聲波除塵功能的光學(xué)鍍膜裝置,可以除去待鍍件清洗之后送入鍍膜裝置之前染上的灰塵,保證鍍膜的質(zhì)量。通過納入本文的附圖以及隨后與附圖一起用于說明本技術(shù)的某些原理的具體實施方式,本技術(shù)的裝置所具有的其它特征和優(yōu)點將變得清楚或更為具體地得以闡明。附圖說明圖I為本技術(shù)具有超聲波除塵功能的光學(xué)鍍膜裝置的一實施例的結(jié)構(gòu)圖;圖2為本技術(shù)具有超聲波除塵功能的光學(xué)鍍膜裝置的另ー實施例中遮板組的放大圖;圖3為本技術(shù)具有超聲波除塵功能的光學(xué)鍍膜裝置的另ー實施例的結(jié)構(gòu)圖;圖4為本技術(shù)具有超聲波除塵功能的光學(xué)鍍膜裝置的另ー實施例的結(jié)構(gòu)圖。應(yīng)當了解,所附附圖并非按比例地顯示了本技術(shù)的基本原理的圖示性的 各種特征的略微簡化的畫法。本文所公開的本技術(shù)的具體設(shè)計特征包括例如具體尺寸、方向、位置和外形將部分地由具體所要應(yīng)用和使用的環(huán)境來確定。在這些圖形中,貫穿附圖的多幅圖形,附圖標記引用本技術(shù)的同樣的或等同的部分。具體實施方式
技術(shù)介紹
中提到現(xiàn)有技術(shù)中光學(xué)鍍膜的技術(shù)方案存在缺陷待鍍件送入鍍膜裝置之前,會被輕度再污染,影響鍍膜的質(zhì)量。因此,本技術(shù)設(shè)計了具有超聲波除塵功能的光學(xué)鍍膜裝置以克服現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷。圖I為本技術(shù)具有超聲波除塵功能的光學(xué)鍍膜裝置的一實施例的結(jié)構(gòu)圖,如圖I所示,該裝置包括真空間I、用于承載待鍍件3的轉(zhuǎn)盤2、與待鍍件3相對設(shè)置的蒸發(fā)源4、支撐桿5、通過支撐桿5位于轉(zhuǎn)盤2和蒸發(fā)源4之間的遮板11遮板11組6、超聲波發(fā)生器7和超聲波換能器8。其中,轉(zhuǎn)盤2、蒸發(fā)源4、支撐桿5和遮板11遮板11組6均位于真空間I內(nèi),超聲波發(fā)生器7和超聲波換能器8電連接,超聲波換能器8和轉(zhuǎn)盤2機械連接。由于需要在真空環(huán)境中進行光學(xué)鍍膜,所以需要ー個封閉的環(huán)境,本技術(shù)中真空間I就起到這樣的作用。轉(zhuǎn)盤2可以轉(zhuǎn)動,由于轉(zhuǎn)盤2承載待鍍件3,待鍍件3也是可以轉(zhuǎn)動的。待鍍件3隨轉(zhuǎn)盤2轉(zhuǎn)動的同吋,對蒸發(fā)源4進行加熱使蒸發(fā)源4蒸發(fā)并最終沉積在待鍍件3的表面形成薄膜。遮板11遮板11組6可以控制待鍍件3上的鍍膜形狀,并且必須位于轉(zhuǎn)盤2和蒸發(fā)源4之間,才能起到上述的作用,本技術(shù)中,支撐桿5使得遮板11遮板11組6可以位于轉(zhuǎn)盤2和蒸發(fā)源4之間。超聲波發(fā)生器7發(fā)出高頻振蕩信號,超聲波換能器8將高頻振蕩信號轉(zhuǎn)換成高頻機械震蕩。由于超聲波換能器8與轉(zhuǎn)盤2機械連接,轉(zhuǎn)盤2也會震蕩。在震蕩的作用下,承載在轉(zhuǎn)盤2上的待鍍件3上的灰塵會被除棹。圖I中示出的情況是,轉(zhuǎn)盤2在真空間I的上部,當然,轉(zhuǎn)盤2可以在真空間I的其他部位,只要遮板11遮板11組6處于待鍍件3和蒸發(fā)源4之間;超聲波發(fā)生器7和超聲波換能器8都在真空間I外部,當然兩者也都可以在真空間I內(nèi)部。下面介紹使用本技術(shù)的光學(xué)鍍膜裝置進行鍍膜的過程。在真空間Iタト,清洗待鍍件3,并將待鍍件3放置在轉(zhuǎn)盤2上。然后將轉(zhuǎn)盤2安裝在真空間I內(nèi),并打開本技術(shù)的具有超聲波除塵功能的光學(xué)鍍膜裝置的除塵功能,對待鍍件3進行除塵。除塵之后將真空間I抽成真空,然后打開本技術(shù)的具有超聲波除塵功能的光學(xué)鍍膜裝置的鍍膜功能,最終完成對待鍍件3高質(zhì)量的鍍膜。由上述的技術(shù)方案可知,使用本技術(shù)的具有超聲波除塵功能的光學(xué)鍍膜裝置,可以除去待鍍件清洗之后送入鍍膜裝置之前染上的灰塵,保證鍍膜的質(zhì)量。進ー步地,遮板組6包括多個具有不同形狀的遮板11,支撐桿5伸出真空間I。對于待鍍件3,很多時候都希望在待鍍件3上鍍上多層不同形狀的膜,此時就需要多種具有不同形狀的板作為遮板,通過扭動支撐桿5就可實現(xiàn)選擇具有特定形狀的遮板。遮板組6可以采用四遮板結(jié)構(gòu),圖2為本技術(shù)具有超聲波除塵功能的光學(xué)鍍膜裝置的另ー實施例中遮板組的放大圖,如圖2所示,遮板組6呈十字形結(jié)構(gòu),且由四個遮板11構(gòu)成,每個遮板11的形狀可以根據(jù)鍍膜需要而設(shè)。優(yōu)選地,采用電機驅(qū)動支撐桿5,此時本技術(shù)的裝置還包括用于帶動支撐桿5旋轉(zhuǎn)以在遮板11遮板11組6中選擇具有特定形狀的遮板11的第一電機9,以提高該裝置的自動化程度,具體可以參見圖3,圖3為本技術(shù)具有超聲波除塵功能的光學(xué)鍍膜裝置的另ー實施例的結(jié)構(gòu)圖。優(yōu)選地,本技術(shù)的裝置還可以包括用于帶動轉(zhuǎn)盤2旋轉(zhuǎn)的第二電機10,第二電機10位于真空間Iタト,并與轉(zhuǎn)盤2機械連接,以提高該裝置的自動化程度,具體可以參見圖4,圖4為本技術(shù)具有超聲波除塵功能的光學(xué)鍍膜裝置的另ー實施例的結(jié)構(gòu)圖??蛇x地,轉(zhuǎn)盤2位于真空間I的上部,待鍍件3位于轉(zhuǎn)盤2的底面。進ー步地,超聲波發(fā)生器7和超聲波換能器8都在真空間Iタト,這樣,可以減小真空間I的體積,以減少抽真空的工作量。權(quán)利要求1.一種具有超聲波除塵功能的光學(xué)鍍膜裝置,其特征在于,包括真空間、用于承載待鍍件的轉(zhuǎn)盤、與所述待鍍件相對設(shè)置的蒸發(fā)源、支撐桿、通過所述支撐桿位于所述轉(zhuǎn)盤和所述蒸發(fā)源之間的遮板組、超聲波發(fā)生器和超聲波換能器; 其中,所述轉(zhuǎn)盤、所述蒸發(fā)源、所述支撐桿和所述遮板組均本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護點】
一種具有超聲波除塵功能的光學(xué)鍍膜裝置,其特征在于,包括:真空間、用于承載待鍍件的轉(zhuǎn)盤、與所述待鍍件相對設(shè)置的蒸發(fā)源、支撐桿、通過所述支撐桿位于所述轉(zhuǎn)盤和所述蒸發(fā)源之間的遮板組、超聲波發(fā)生器和超聲波換能器;其中,所述轉(zhuǎn)盤、所述蒸發(fā)源、所述支撐桿和所述遮板組均位于所述真空間內(nèi),所述超聲波發(fā)生器和所述超聲波換能器電連接,所述超聲波換能器和所述轉(zhuǎn)盤機械連接。
【技術(shù)特征摘要】
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:詹君,孫鳴洋,劉艾河,
申請(專利權(quán))人:湖北山鷹光學(xué)有限公司,
類型:實用新型
國別省市:
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