本發明專利技術涉及鍍膜玻璃技術領域，尤其涉及一種可鋼化的、鍍有低輻射鍍膜的玻璃制品；本發明專利技術包括玻璃基片層和鍍膜層，結構依次為Glass/Si3N4/NiCr/Ag/NiCr/Si3N4；本發明專利技術對于可見光波段具有較高的透過率，能保證良好的自然采光，但同時又能有效限制太陽熱輻射的透過，尤其是近紅外熱輻射的透過；本發明專利技術不僅保證了鍍膜具有良好的耐磨耐刮傷特性、優良的抗酸堿耐腐蝕特性，而且保證了在相同的可見光透過率和輻射率下，光的反射率更加低、光的污染更小、抗氧化性能增強、耐氧化的時間更長。
【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及玻璃
，尤其涉及一種可鋼化的、鍍有低輻射鍍膜的玻璃制品。
技術介紹
市面上已有多種鍍膜玻璃產品出現，但是這些鍍膜玻璃產品所使用的鍍膜材料都不能耐高溫，對于需要鋼化的玻璃，鍍膜過程必須在鋼化以后進行。對一些有特殊形狀要求的玻璃，鋼化以后定型為曲面，而曲面玻璃鍍膜時很難保證膜層均勻。另外由于玻璃的鋼化過程必須在被切割成所需尺寸后進行，因此將鋼化后的玻璃進行鍍膜時，工作臺面上的玻璃也是按照切割后的尺寸來放置的。這樣，那些不規則形狀的玻璃使得工作臺面的裝載率低下，鍍膜的效率也很低。為此，人們對鍍膜進行了大量研究，希望能得到可以耐高溫的鍍膜，以便能在鍍膜后進行玻璃鋼化工藝。申請號為200920068698. 5的專利文獻就公開了一種可鋼化雙銀復合結構低輻射鍍膜玻璃，該膜層結構自玻璃向外層依次為玻璃、包含吸收層的基層復合 電介質層、銀層、阻隔層、包含吸收層的中層復合電介質層、銀層、阻隔層、頂層電介質層，該技術通過選擇各層的厚度和膜層成分，生產出可以進行高溫熱處理的雙銀結構低輻射鍍膜玻璃。這對于鍍膜后再進行鋼化是一個突破，但是，該技術的層結構復雜，成本高，而且其性能單一，只是為了可以進行高溫處理的性能。
技術實現思路
針對上述現有技術的不足，本專利技術的目的在于提供了一種結構簡單，成本低廉，性能多元化的可鋼化的、鍍有低輻射鍍膜的玻璃制品。為了實現上述目的，本專利技術的技術方案如下一種可鋼化的、鍍有低輻射鍍膜的玻璃制品，包括玻璃基片層和鍍膜層，所述鍍膜層自玻璃基片層向外，依次包括Si3N4層、NiCr層、Ag層、NiCr層、和Si3N4層，所述玻璃制品結構為 Glass/Si3N4/NiCr/Ag/NiCr/Si3N40較佳地，所述鍍膜層還包括Si3N4層和NiCr層，所述玻璃制品結構為=Glass/S i 3N4/NiCr/Si 3N4/NiCr/Ag/NiCr/Si 3N4較佳地，所述鍍膜層還包括ZnO層、Si3N4層和TiO2層，所述玻璃制品結構為Glass/S i 3N4/Ni Cr/ZnO/Ni Cr/Ag/Ni Cr/S i 3N4/T i O2。較佳地，所述鍍膜層結構為S i3N4/Ni Cr/S i3N4/Ni Cr/Ag/Ni Cr/S i3N4/Ti O2。較佳地，所述NiCr層單層的厚度為I IOnm;所述Si3N4層單層的厚度為5 60nm ;所述Ag層單層的厚度為5 20nm ;所述Si3N4層單層的厚度為30 60nm ;所述TiO2層單層的厚度為2 15nm ;所述ZnO層單層的厚度為5 40nm。本專利技術包括玻璃基片層和鍍膜層，鍍膜層自玻璃基片向外，依次包括Si3N4層、NiCr 層、Ag層、NiCr 層、和 Si3N4層，所述玻璃制品結構為 Glass/Si3N4/NiCr/Ag/NiCr/Si3N4 ；在此基礎上，本專利技術還包括多一 Si3N4/NiCr層結構，相對現有技術的多層結構節約成本，工序簡單。其中Ag層為功能層，其對于可見光波段具有較高的透過率，能保證自然采光良好，但同時又能有效限制太陽熱輻射的透過、尤其是近紅外熱輻射的透過。Si3N4層是硅氮復合物層，其結構致密、硬度高、防水性好。在高溫條件下底層的Si3N4層能夠阻止玻璃的Na離子穿透，避免對Ag功能層造成影響。而位于外層的Si3N4層由于其具有高硬度，保證了膜層具有良好的耐磨耐刮傷特性。NiCr層為保護層，其具有優良的抗酸堿耐腐蝕特性，能夠保護Ag功能層不被氧化。本專利技術還可以包括，ZnO層、Si3N4層和TiO2層在相同的可見光透過率和輻射率下，光的反射率更加低，光的污染更小。在最外層增加了一層TiO2，抗氧化性能增強，耐氧化的時間更長。本專利技術通過對每層的厚度及其材質選擇，使得本專利技術不僅結構簡單，成本低廉，而且性能多元化，它對于可見光波段具有較高的透過率，能保證自然采光良好，但同時又能有 效限制太陽熱輻射的透過、尤其是近紅外熱輻射的透過；本專利技術不僅保證了鍍膜具有良好的耐磨耐刮傷特性、優良的抗酸堿耐腐蝕特性，而且保證了在相同的可見光透過率和輻射率下，光的反射率更加低、光的污染更小、抗氧化性能增強、耐氧化的時間更長。附圖說明圖I為本專利技術5層膜的結構示意圖；圖2為本專利技術7層膜的結構示意圖；圖3為本專利技術8層膜的結構示意圖。具體實施例方式下面結合附圖對本專利技術的具體實施方式作進一步的詳細說明。實施例I見圖1，一種可鋼化的、鍍有低輻射鍍膜的玻璃制品，包括玻璃基片O層和鍍膜層，鍍膜層有五層，從基片開始，依次為厚度為5nm的Si3N4層I、厚度為Inm的NiCr層2、厚度為5nm的Ag層3、厚度為5nm的NiCr層4、和厚度為IOnm的Si3N4層5。玻璃制品結構為Glass/Si3N4/NiCr/Ag/NiCr/Si3N4。經檢測，可見光透過率58%，反射14%，遮陽系數O. 56，傳熱系數3. 4W/M2*K。實施例2見圖2，一種可鋼化的、鍍有低輻射鍍膜的玻璃制品，包括玻璃基片層O和鍍膜層，鍍膜層有七層，從基片開始，依次為厚度為IOnm的Si3N4層I、厚度為2nm的NiCr層2、厚度為5nm的Si3N4層3、厚度為IOnm的NiCr層4、厚度為20nm的Ag層5、厚度為8nm的NiCr層6、和厚度為5nm的Si3N4層7。玻璃制品結構為Glass/Si3N4/NiCr/Si3N4/NiCr/Ag/NiCr/Si3N4。經檢測，可見光透過率62%，反射10%，遮陽系數O. 56，傳熱系數3. 4W/M2*K。實施例3見圖3，一種可鋼化的、鍍有低輻射鍍膜的玻璃制品，包括玻璃基片層O和鍍膜層，鍍膜層有八層，從基片開始，依次為厚度為15nm的Si3N4層I、厚度為2nm的NiCr層2、厚度為5nm的ZnO層3、厚度為2nm的NiCr層4、厚度為20nm的Ag層5、厚度為4nm的NiCr層6、厚度為30nm的Si3N4層7、厚度為2nm的TiO2層8。玻璃制品結構為Glass/Si3N4/NiCr/Zn0/NiCr/Ag/NiCr/Si3N4/Ti02o經檢測，可見光透過率61%，反射10%，遮陽系數O. 57，傳熱系數3. 4W/M2*K。實施例4見圖3，一種可鋼化的、鍍有低輻射鍍膜的玻璃制品，包括玻璃基片層O和鍍膜層，鍍膜層有八層，從基片開始，依次為厚度為5nm的Si3N4層I、厚度為IOnm的NiCr層2、厚度為5nm的ZnO層3、厚度為8nm的NiCr層4、厚度為IOnm的Ag層5、厚度為Inm的NiCr層6、厚度為30nm的Si3N4層7、厚度為15nm的TiO4層8。 玻璃制品結構為Glass/Si3N4/NiCr/Zn0/NiCr/Ag/NiCr/Si3N4/Ti02o經檢測，可見光透過率63%，反射11%，遮陽系數O. 58，傳熱系數3. 4W/M2*K。實施例5見圖3，一種可鋼化的、鍍有低輻射鍍膜的玻璃制品，包括玻璃基片層O和鍍膜層，鍍膜層有八層，從基片開始，依次為厚度為IOnm的Si3N4層I、厚度為5nm的NiCr層2、厚度為8nm的ZnO層3、厚度為5nm的NiCr層4、厚度為20nm的Ag層5、厚度為5nm的NiCr層6、厚度為50nm的Si3N4層7、厚度為IOnm的TiO2層8。玻璃制品結構為本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種可鋼化的、鍍有低輻射鍍膜的玻璃制品，包括玻璃基片層和鍍膜層，其特征在于：所述鍍膜層自所述玻璃基片層向外，依次包括Si3N4層、NiCr層、Ag層、NiCr層和Si3N4層，所述玻璃制品結構為：Glass/Si3N4/NiCr/Ag/NiCr/Si3N4。
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員：余華駿，黃穎，崔平生，
申請(專利權)人：東莞南玻工程玻璃有限公司，
類型：發明
國別省市：
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