本發明專利技術涉及一種用于基底(12)處理尤其涂層的設備，包括過程室(1)，包括至少一個通過裝料口(6、7)與過程室(1)連接的儲存室(2、3)，用于存放要在過程室(1)中處理的基底(12)或處理時要使用的掩模(10、10′、10″、10″′)，包括輸送裝置(13)，用于通過裝料口(7)為過程室(11)進行基底或掩模(10、10′、10″、10″′)的裝料和卸料，包括溫度可調的進氣機構(4)，用于將原材料與載氣一起引入過程室(1)，包括與進氣機構對置的接受器(5)，用于承接要處理的基底(12)，包括護板(11)，它處于進氣機構(4)與接受器(5)或掩模(10)之間的防護位置，防止基底(12)或掩模(10)受進氣機構(4)的溫度影響，包括護板移動裝置(15、16)，用于在基底(12)處理前將護板(11)從在進氣機構(4)前的防護位置移到存放位置，而在基底(12)處理后將護板(11)從存放位置移回防護位置。關鍵是，護板(11)處于儲存室(2、3)之一內部的存放位置。
【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】本專利技術涉及一種用于給基底涂層的設備，包括過程室，溫度可調的用于將原材料與載氣一起引入過程室的進氣機構和用于承接要處理的基底的接受器處于過程室內，還包括通過裝料口與過程室連接用于存放基底的儲存室，以及為過程室進行基底裝料和卸料的輸送裝置。此外本專利技術還涉及這種設備的工作方法。DE10159702A1介紹了一種設備，它由一個具有進氣機構和接受器的過程室組成，過程室可以借助機械手進行由機械手從基底儲存室取出的基底的裝料。在過程室內部實施涂層過程。為此，氣態原材料借助載氣通過進氣機構送入過程室。在基底表面上沉積一個薄層。在這方面可涉及一種化學或物理的涂層法。DE102008026974A1例如介紹了一種設備，它有一個汽化器用于汽化固體或液體原材料。汽化后的原材料與載氣一起經由載氣管送入熱解室內。原材料可涉及聚合的Paraxylylene (聚對苯二亞甲基)。汽化的二聚物在熱解室內分解為單體。單體與載氣一起送入進氣機構。進氣機構處于對外氣密封閉的過程室內，以及有一個包括許多排列成篩狀的孔的氣體出口面，輸送原材料的載氣通過這些孔流入過程室中。進氣機構是可調溫的。在那里加熱進氣機構。冷卻的接受器處于進氣機構下方。基底，例如玻璃板可安放在接受器冷卻的基底支承面上。通過送入過程室內的氣態聚合物在那里冷卻，用聚合物層為基底涂層。DE102008037387介紹了一種掩模裝置。在那里說明的遮蔽掩模安放在要涂層的基底表面上，使基底的涂層具有某種結構。DE10232731A1介紹了一種涂層裝置，借助它可沉積由IV，III - IV，II - VI族元素組成的以及有機物質的半導體層。本專利技術的目的是，將上述類型的設備設計得更有效。通過在權利要求中說明的專利技術達到此目的，其中每項權利要求表示達到所述目的一種獨立的技術方案并可與其他任一權利要求組合。按本專利技術的設備特別適用于沉積Paraxylylene或多種成分的涂層，例如OLEDs (有機發光二極體)或半導體層。原材料在設在過程室外部的氣體混合系統或氣體制備裝置中預處理，以及通過一個尤其可調溫的輸入管進入加熱的進氣機構中。后者有一個空心體，它具有至少一個腔室，其中引入輸送原材料的載氣。進氣機構有一個氣體出口面，它有圓形的，但優選矩形，尤其正方形的輪廓形狀。所述輪廓形狀與基底的表面基本一致。在氣體出口面上有許多排列成篩狀的出氣孔，過程氣體通過它們流入過程室，過程室的底由接受器構成。具有淋浴頭形狀的進氣機構加熱到溫度為200°C至400°C。過程室借助真空設備在O. Imbar與2mbar之間的壓力范圍內工作。接受器涉及一種具有基底支承面的冷卻體。支承面選擇為可實施從基底到接受器方向的熱量輸出。接受器將溫度調節在_30°C至80°C之間。涂層過程在基底有效冷卻的情況下進行，所以原材料在那里可以在低的溫度下沉積。在按本專利技術的方法中規定，在加熱進氣機構的同時進行過程室的裝料和卸料。為了避免基底安放在接受器上前被加熱，在裝料或卸料前將護板置于進氣機構與接受器之間。按另一種選擇，護板也可以用于保護掩模，防止被加熱，掩模安放在基底上用于使要沉積的涂層具有其種結構。護板直接處于進氣機構氣體出口面的下面。護板有一個強反射表面，從而使基底或掩模屏蔽進氣機構的輻射。護板可以兩側強反射性鍍層。優選地，護板由兩塊互相平行延伸的玻璃或石英板組成，在它們之間放置一個金屬薄膜。它可以涉及一種由INVAR (因瓦合金)、金或鋁組成的100 μ m厚的薄膜。薄膜可浮動地安放在玻璃板與石英玻璃板之間。薄膜有發射率ε〈0. I。為了在涂層過程期間將護板貯藏在過程室外部，設另一個儲存室，護板存放在其中。所述儲存室可涉及一個掩模儲存室，其中存放至少一個放置在基底表面上使基底表面的涂層具有其種結構的掩模。按本專利技術一項優選的設計，護板是輸送機構，它將掩模從掩模儲存室送入過程室內。為此，護板有固定裝置。固定裝置可以安裝在護板下側以及形狀配合式嚙合在掩模相應的相配固定裝置內。借助護板可將掩模從掩模儲存室的掩模料匣中取出。在掩模傳輸期間，掩模借助護板相對于加熱的進氣機構屏蔽。由此保護掩模防止溫度升高。也就是說，借助護板不僅可以保護基底，而且還可以保護掩模，防止其溫度升高。掩模料匣可類似于升降機在掩模儲存室內部垂直移動。在料匣中可以在垂直地上下疊置的分層內儲存不同類型設計的掩模。料匣也可以有一個護板可插入其中的機柜。優選地，護板插入掩模也存放在其中的料匣的每一個料匣機柜內。在料匣儲存室內部可以設護板移動裝置。在這里它可以涉及一種軌道系統。此軌道系統可以有兩對軌道， 其中一對軌道安裝在料匣內，以及第二對軌道安裝在過程室內。護板可以有滑輪導向裝置，護板借助它在軌道對上導引。用于使護板在其在進氣機構下方的防護位置與其在料匣內的存放位置之間移動的水平移動驅動器，可以是一種氣動驅動器或一種電動直線驅動器。在這里它也可以涉及一種主軸驅動器。基底儲存室同樣可以有料匣，在料匣中上下垂直排列的分層內放置不同的基底。基底可安放在尤其叉形的基底支架上，它還利用于將基底送入過程室內。兩個儲存室分別借助可氣密封閉的裝料/卸料口與過程室連接。裝料口可以用氣密的門關閉。不僅掩模儲存室，而且基底儲存室，均可借助真空設備抽成真空。為了從整個設備取出基底，基底儲存室可以置于大氣壓力下。接受器可以水冷。接受器可以沿垂直方向移動。在裝料/卸料位置，接受器有下降的位置。在此位置支承銷從接受器的基底支承面伸出。在支承銷上可借助輸送裝置，例如叉形的基底支架安放一個基底。這穿過裝料口實施。事先借助上面已說明的護板移動裝置將護板置于加熱的進氣機構下方。通過提升接受器，使之與基底下側進入面接觸。但也可以借助能下降的支承銷，將基底安放在位置固定的接受器上。在按本專利技術的方法中，給過程室裝卸一個或多個基底，在進氣機構加熱和接受器冷卻的同時進行。在裝料/卸料階段中，只將載氣通過進氣機構進入過程室。在開始時，未裝料的接受器離進氣機構距離最遠。通向料匣儲存室的裝料門打開。借助護板移動裝置將護板移入過程室并定位在進氣機構下方，使它反射由進氣機構發出的熱輻射。護板有隔離效果。借助它切斷，但至少阻攔，從進氣機構向基底的熱流。然后將料匣置于一個垂直位置，在此位置使一個要使用的掩模直接處于裝料口前。借助護板移動裝置將護板移回料匣中，確切地說直接在要使用的掩模上面或固定該掩模的掩模框架上面。所述掩模框架或掩模借助固定裝置固定在護板下側并被護板送入過程室內。接著，通向基底儲存室的裝料口打開以及借助輸送裝置將基底置于上面已提及的支承銷上。現在基底處于接受器與護板之間。基于護板的反射或隔離作用，不會使基底被進氣機構散出的熱量有害地加熱。通過下降支承銷或提升接受器，將基底安放在接受器的基底承接面上，從而使基底被接受器冷卻。然后掩模或通過接受器向上移動或通過護板向下移動安放在基底上。接著，護板重新移回掩模儲存室的料匣內。在裝料口的門氣密地關閉后，將過程氣體引入過程室，從而可以在基底上沉積一個涂層。在將基底安放在接受器上之前，接受器也可以與基底及掩模一起下降。在接受器下降時，掩模不與接受器接觸。作為原材料可以使用上述有機或無機化合物。優選地，借助此設備在基底上沉積Paraxylylene0但也可以沉積OLED層。本文檔來自技高網...
【技術保護點】
【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】...
【專利技術屬性】
技術研發人員：GK斯特勞克，W弗蘭肯，M科爾伯格，F基特爾，M格斯多夫，J凱佩勒，
申請(專利權)人：艾克斯特朗歐洲公司，
類型：
國別省市：
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