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本發明涉及一種用于基底(12)處理尤其涂層的設備，包括過程室(1)，包括至少一個通過裝料口(6、7)與過程室(1)連接的儲存室(2、3)，用于存放要在過程室(1)中處理的基底(12)或處理時要使用的掩模(10、10′、10″、10″′)，包...
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