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    感光性導(dǎo)電薄膜、導(dǎo)電膜的形成方法和導(dǎo)電圖案的形成方法技術(shù)

    技術(shù)編號(hào):8165799 閱讀:171 留言:0更新日期:2013-01-08 12:30
    本發(fā)明專利技術(shù)的感光性導(dǎo)電薄膜(10)具有將薄膜支撐體(1)、含有有機(jī)導(dǎo)電材料的導(dǎo)電層(2)、和感光性樹脂層(3)依次層疊而成的結(jié)構(gòu)。感光性導(dǎo)電薄膜(10)中,有機(jī)導(dǎo)電材料優(yōu)選為噻吩衍生物的聚合物,感光性樹脂層(3)優(yōu)選由含有粘合劑聚合物、具有乙烯性不飽和鍵的光聚合性化合物和光聚合引發(fā)劑的感光性樹脂組合物形成。

    【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
    【國(guó)外來(lái)華專利技術(shù)】
    本專利技術(shù)涉及一種,特別是涉及一種形成在液晶顯示元件等的平板顯示器、觸摸屏、太陽(yáng)能電池、有機(jī)EL等裝置中設(shè)置的電極布線等的導(dǎo)電圖案的方法。
    技術(shù)介紹
    在個(gè)人電腦、電視等大型電子設(shè)備、汽車導(dǎo)航、手機(jī)、電子詞典等小型電子設(shè)備、OA · FA設(shè)備等顯示設(shè)備中,具有液晶顯示元件、觸摸屏的產(chǎn)品正在普及。液晶顯示元件、觸摸屏中,在透明電極等要求透明性的地方利用了透明的導(dǎo)電膜。太陽(yáng)能電池等也同樣。作為能形成透明的導(dǎo)電膜的材料,已知ITO (氧化銦錫、Indium-Tin-Oxide)、氧化銦、氧化錫等。這些材料對(duì)可見光顯示高透過(guò)率,作為形成液晶顯示元件用基板等的透明電極的材料已成為主流。 在液晶顯示裝置中,有時(shí)用透明導(dǎo)電膜來(lái)形成布線、像素電極、端子等的一部分。此時(shí),必須將透明導(dǎo)電膜制成一定的形狀。作為透明導(dǎo)電膜的圖案形成方法,可使用在形成透明導(dǎo)電膜后,在其上通過(guò)光刻法形成抗蝕圖案,并通過(guò)濕蝕刻對(duì)導(dǎo)電膜進(jìn)行圖案形成的方法。作為蝕刻液,對(duì)于ITO膜、氧化銦膜,常使用鹽酸和氯化鐵這2液構(gòu)成的混合液。另一方面,研究了使用ITO以外的材料來(lái)形成透明的導(dǎo)電膜。例如在下述專利文獻(xiàn)I中公開了通過(guò)在基材表面上涂布含有聚噻吩、聚苯胺等有機(jī)導(dǎo)電性聚合物的放射線固化型導(dǎo)電性組合物并固化,從而形成具有導(dǎo)電性且透明的固化覆膜的方法。另外,下述專利文獻(xiàn)2中公開了在支撐體上涂布重氮锍系等的抗蝕劑材料,進(jìn)而在其上涂布噻吩系有機(jī)導(dǎo)電材料,然后通過(guò)曝光和顯影形成導(dǎo)電性圖案的方法?,F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)I :日本特開2005 - 170996號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2 日本特表2004 - 504693號(hào)公報(bào)專
    技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
    專利技術(shù)要解決的課題可是,ITO膜、氧化錫膜一般是通過(guò)濺射法形成的,但根據(jù)濺射方式的不同、濺射功率、氣壓、基板溫度、氛圍氣體種類等,膜的性質(zhì)容易發(fā)生改變。因?yàn)R射條件的變動(dòng)而引起的透明導(dǎo)電膜的膜質(zhì)的不同會(huì)成為對(duì)膜進(jìn)行濕蝕刻時(shí)蝕刻速度偏差的原因,容易發(fā)生透明導(dǎo)電膜的圖案形成不良而導(dǎo)致產(chǎn)品的成品率降低。為此,使用ITO等的方法中,濺射和抗蝕劑形成及蝕刻的工序長(zhǎng),在成本方面也成為大的負(fù)擔(dān)。另外,該方法難以獲得圖案形成精度的均勻性。另一方面,關(guān)于用有機(jī)導(dǎo)電材料的導(dǎo)電圖案形成,存在如下問題。上述專利文獻(xiàn)I中沒有公開關(guān)于導(dǎo)電圖案的形成??紤]通過(guò)使用掩膜的蝕刻來(lái)形成圖案,但是因?yàn)闆]有合適的蝕刻液,因此必須使用等離子蝕刻、激光進(jìn)行加工。專利文獻(xiàn)2中提出了如下方法在支撐體上涂布混合有機(jī)導(dǎo)電材料和重氮化合物的感光材料而成的液體來(lái)形成圖案的方法;在由支撐體與有機(jī)導(dǎo)電材料以及感光材料構(gòu)成的層之間進(jìn)一步配置感光材料的方法。但是,這些方法中,對(duì)于想要在期望的基板上設(shè)置導(dǎo)電圖案時(shí)導(dǎo)電圖案與基板的粘接性并未加以考慮,必須進(jìn)行基板的表面處理等。本專利技術(shù)是鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)所存在的問題而作出的專利技術(shù),其目的在于提供一種感光性導(dǎo)電薄膜、以及使用該感光性導(dǎo)電薄膜的導(dǎo)電膜的形成方法和導(dǎo)電圖案的形成方法,所述感光性導(dǎo)電薄膜能夠在基板上以充分的分辨率簡(jiǎn)便地形成與基板的粘接性充分、包含有機(jī)導(dǎo)電材料的導(dǎo)電圖案。解決課題的方法為了解決上述課題,本專利技術(shù)提供一種感光性導(dǎo)電薄膜,其具有將支撐體、含有有機(jī)導(dǎo)電材料的導(dǎo)電層和感光性樹脂層依次層疊而成的結(jié)構(gòu)。根據(jù)本專利技術(shù)的感光性導(dǎo)電薄膜,通過(guò)具有上述構(gòu)成,能夠以在基板上按照感光性 樹脂層密合的方式粘貼感光性導(dǎo)電薄膜并對(duì)其曝光、顯影的簡(jiǎn)便工序容易地形成與基板的粘接性充分、具有充分的透明性的期望的導(dǎo)電圖案。另外,根據(jù)本專利技術(shù)的感光性導(dǎo)電薄膜,通過(guò)在基板上以感光性樹脂層密合的方式粘貼感光性導(dǎo)電薄膜,并對(duì)其曝光,能夠形成兼具充分的透明性和對(duì)基材的良好的粘接性的導(dǎo)電膜。對(duì)于本專利技術(shù)的感光性導(dǎo)電薄膜,從透明性和導(dǎo)電性的觀點(diǎn)出發(fā),上述有機(jī)導(dǎo)電材料優(yōu)選為噻吩衍生物的聚合物。另外,為了進(jìn)一步提高導(dǎo)電膜的圖案形成性和對(duì)基材的粘接性,上述感光性樹脂層優(yōu)選由含有粘合劑聚合物、具有乙烯性不飽和鍵的光聚合性化合物和光聚合引發(fā)劑的感光性樹脂組合物形成。從防止制造到使用期間的異物附著、損傷的觀點(diǎn)考慮,本專利技術(shù)的感光性導(dǎo)電薄膜優(yōu)選在上述感光性樹脂層的與導(dǎo)電層側(cè)相反的一側(cè)進(jìn)一步層疊有保護(hù)薄膜。該保護(hù)薄膜可以在使用感光性導(dǎo)電薄膜時(shí)除去。本專利技術(shù)還提供一種導(dǎo)電膜的形成方法,其特征在于,將上述本專利技術(shù)的感光性導(dǎo)電薄膜的上述感光性樹脂層粘貼在基材上,從而在基材上至少依次層疊感光性樹脂層和導(dǎo)電層,并對(duì)層疊的上述感光性樹脂層曝光。根據(jù)本專利技術(shù)的導(dǎo)電膜的形成方法,能夠以通過(guò)在基材上粘貼本專利技術(shù)的感光性導(dǎo)電薄膜的感光性樹脂層而在基材上依次設(shè)置感光性樹脂層和導(dǎo)電層并對(duì)其曝光這樣的簡(jiǎn)便工序容易地在基材上形成由上述導(dǎo)電層構(gòu)成的導(dǎo)電膜。通過(guò)對(duì)上述感光性樹脂層曝光而進(jìn)行固化,該導(dǎo)電膜可充分地粘接在基材上。本專利技術(shù)還提供一種導(dǎo)電圖案的形成方法,其特征在于,在基材上粘貼上述本專利技術(shù)的感光性導(dǎo)電薄膜的上述感光性樹脂層,從而在基材上至少依次層疊感光性樹脂層和導(dǎo)電層,并對(duì)層疊的感光性樹脂層曝光、顯影。根據(jù)本專利技術(shù)的導(dǎo)電圖案的形成方法,能夠以通過(guò)在基材上粘貼本專利技術(shù)的感光性導(dǎo)電薄膜的感光性樹脂層而在基材上依次設(shè)置感光性樹脂層和導(dǎo)電層并對(duì)其曝光、顯影這樣的簡(jiǎn)便工序容易地在基材上形成對(duì)上述導(dǎo)電層進(jìn)行圖案形成而得的導(dǎo)電圖案。通過(guò)對(duì)上述感光性樹脂層曝光而進(jìn)行固化,該導(dǎo)電圖案可充分地粘接在基材上。本專利技術(shù)還提供一種導(dǎo)電膜基板,其具備基板和通過(guò)上述本專利技術(shù)的導(dǎo)電膜的形成方法在該基板上形成的導(dǎo)電膜。此外,本專利技術(shù)還提供一種導(dǎo)電膜基板,其具備基板和通過(guò)上述本專利技術(shù)的導(dǎo)電圖案的形成方法在該基板上形成的導(dǎo)電圖案。專利技術(shù)效果 根據(jù)本專利技術(shù),能夠提供一種感光性導(dǎo)電薄膜、以及使用其的導(dǎo)電膜的形成方法和導(dǎo)電圖案的形成方法,所述感光性導(dǎo)電薄膜能夠以充分的分辨率在基板上簡(jiǎn)便地形成與基板的粘接性充分、含有有機(jī)導(dǎo)電材料的導(dǎo)電圖案。附圖說(shuō)明圖I是表示本專利技術(shù)的感光性導(dǎo)電薄膜的一個(gè)實(shí)施方式的示意剖面圖。圖2是用于說(shuō)明本專利技術(shù)的導(dǎo)電圖案的形成方法的一個(gè)實(shí)施方式的示意剖面圖。具體實(shí)施例方式下面,詳細(xì)地說(shuō)明本專利技術(shù)的優(yōu)選實(shí)施方式。另外,本說(shuō)明書中的“(甲基)丙烯酸酯”是指“丙烯酸酯”和與其對(duì)應(yīng)的“甲基丙烯酸酯”。同樣地,“(甲基)丙烯酸”是指“丙烯酸”和與其對(duì)應(yīng)的“甲基丙烯酸”,“(甲基)丙烯?;笔侵浮氨;焙团c其對(duì)應(yīng)的“甲基丙烯酰基”。圖I是表示本專利技術(shù)的感光性導(dǎo)電薄膜的優(yōu)選的一個(gè)實(shí)施方式的示意剖面圖。圖I所示的感光性導(dǎo)電薄膜10是將薄膜狀的支撐體I、含有有機(jī)導(dǎo)電材料的導(dǎo)電層2、感光性樹脂層3和保護(hù)薄膜4依次層疊而成的。下面,對(duì)構(gòu)成本實(shí)施方式的感光性導(dǎo)電薄膜10的薄膜狀的支撐體(以下也有時(shí)稱為“薄膜支撐體”。)、導(dǎo)電層、感光性樹脂層和保護(hù)薄膜分別進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。作為薄膜支撐體1,優(yōu)選為透明的支撐薄膜。這里透明是指對(duì)轉(zhuǎn)印到基材上后的曝光工序中的曝光光線具有透過(guò)性,本實(shí)施方式中優(yōu)選在紫外線(300 400nm)區(qū)域中具有透過(guò)性。作為透明的支撐薄膜,例如可列舉聚對(duì)苯二甲酸乙二酯薄膜、聚丙烯薄膜、聚碳酸酯薄膜等具有耐熱性和耐溶劑性的聚合物薄膜。其中,從透明性、耐熱性的觀點(diǎn)考慮,優(yōu)選使用聚對(duì)苯二甲酸乙二酯薄膜。另外,對(duì)于這些聚合物薄膜而言,由于在其后對(duì)感光性樹脂層3顯影時(shí)、為了使形成的導(dǎo)電膜露出而會(huì)被除去,因此不可采用實(shí)本文檔來(lái)自技高網(wǎng)
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    【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

    【技術(shù)特征摘要】
    【國(guó)外來(lái)華專利技術(shù)】...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:山崎宏,五十嵐由三,
    申請(qǐng)(專利權(quán))人:日立化成工業(yè)株式會(huì)社
    類型:
    國(guó)別省市:

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