【技術實現步驟摘要】
本技術涉及化工設備，具體地說是涉及一種氯化汞觸媒反應釜。
技術介紹
現有技術中，氯化汞觸媒反應釜都是將釜體安裝在地下的，這樣的反應釜具有占用空間少的優點，但是它有在滲漏損壞的情況下人們不易察覺的缺點，以至于滲漏時容易造成污染，還會造成損失。
技術實現思路
本技術的目的就是針對上述缺點，提供一種容易發現損泄露或損壞，進而減 少污染、減少損失的氯化汞觸媒反應爸——上置式氯化汞觸媒反應釜。本技術的技術方案是這樣實現的上置式氯化汞觸媒反應釜，包括反應釜體，其特征是所述的反應釜本體下面有一個架子，架子放置在地面上。較佳的,在架子上有一個承接盤,承接盤在反應釜體外圍的下方,承接盤是一個具有環形的凹槽。本技術的有益效果是這樣的氯化汞觸媒反應釜具有容易發現損壞或泄漏，進而減少污染、減少損失的優點。附圖說明圖I為本技術反應釜釜的結構示意圖。其中I、反應釜體 2、架子 3、承接盤。具體實施方式以下結合附圖對本技術作進一步說明。如圖I所示，上置式氯化汞觸媒反應釜，包括反應釜體1，其特征是所述的反應釜本體I下面有一個架子2，架子2放置在地面上。較佳的，在架子2上有一個承接盤3，承接盤3在反應釜體I外圍的下方，承接盤3是一個環形的凹槽。設置凹槽可以在加料時承接著，減少浪費。權利要求1.上置式氯化汞觸媒反應釜，包括反應釜體，其特征是所述的反應釜本體下面有一個架子，架子放置在地面上。2.根據權利要求I所述的反應釜，其特征是在架子上有一個承接盤，承接盤在反應釜體外圍的下方，承接盤是一個具有環形的凹槽。專利摘要本技術涉及化工設備，具體地說，涉及上置式氯化汞觸媒反應釜，包括反應釜體，所述的反應...
【技術保護點】
上置式氯化汞觸媒反應釜，包括反應釜體，其特征是：所述的反應釜本體下面有一個架子，架子放置在地面上。
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員：盛占峰，
申請(專利權)人：長葛市九州化工有限公司，
類型：實用新型
國別省市：
還沒有人留言評論。發表了對其他瀏覽者有用的留言會獲得科技券。