型砂的壓縮方法技術(shù)

一種將型砂（Ｓ）充填到由模板（１０ａ）、下部輔助框（１６ｂ）、砂箱（１８）、余砂框（２０）、及多塊方式的壓實(shí)觸頭（３６ａ）限定的造型空間內(nèi)進(jìn)行壓縮的方法。首先，將型砂充填到造型空間。接著，在至少下部輔助框（１６ａ）不能下降的狀態(tài)下使壓實(shí)觸頭（３６ａ）下降，對造型空間內(nèi)的型砂（Ｓ）進(jìn)行１次壓縮。接著，在下部輔助框（１６ｂ）、砂箱（１８）、及余砂框可下降的狀態(tài)下使壓實(shí)觸頭（３６ａ）下降，對鑄型造型空間內(nèi)的型砂（Ｓ）進(jìn)行２次壓縮。（*該技術(shù)在2021年保護(hù)過期，可自由使用*）

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)一般地涉及一種鑄型造型，更為詳細(xì)地說，涉及對充填于造型空間的型砂進(jìn)行壓縮的方法及其裝置。另外，本專利技術(shù)涉及對鑄型進(jìn)行拔模的方法。
技術(shù)介紹
對于現(xiàn)有鑄型造型，在對由模板、砂箱、及觸頭限定的造型空間的型砂進(jìn)行壓縮的1個(gè)方法中，使模板和觸頭相互接近，進(jìn)行型砂的壓縮。這樣的方法為了使模板升降需要大型的流體缸。結(jié)果，鑄型造型裝置的高度變得較高，為了對其進(jìn)行設(shè)置必須例如在地面設(shè)置凹坑。過去，在帶下部輔助框的狀態(tài)下的壓實(shí)造型已為公知技術(shù)。在該壓實(shí)造型中，將型砂充填到由砂箱、模型、及下部輔助框限定的造型空間，然后，利用分別由缸驅(qū)動(dòng)的上部壓頭和下部壓頭對造型空間內(nèi)的型砂進(jìn)行壓縮。在用于該造型的拔模方法中，先使下部壓頭下降，從鑄型拔取模型，并且，使上部壓頭上升。接著，由固定和解除機(jī)構(gòu)解除砂箱的固定，由輸送裝置將完成造型的砂箱送到下一工序。拔模在下部壓頭的缸伸長的狀態(tài)下進(jìn)行。然而，在該拔模方法中，當(dāng)從鑄型拔取模型時(shí)，存在拔模精度較差的問題。為此，鑄表面產(chǎn)生損壞，從而導(dǎo)致鑄件缺陷。其它現(xiàn)有的拔模方法一般也使用缸，在該缸的伸長狀態(tài)下拔模。在該場合，跟隨缸的導(dǎo)向銷的剛性不足可能導(dǎo)致拔模不良。然而，具有足夠剛性的導(dǎo)向銷的直徑非常大，價(jià)格昂貴。在砂箱內(nèi)對砂型進(jìn)行造型的現(xiàn)有造型裝置在將砂箱和余砂框重合到模板的上部形成的空間中充填型砂，刮平該充填的型砂后，由平板狀的壓實(shí)板或分塊方式的壓實(shí)觸頭進(jìn)行壓縮。然而，型砂的刮平帶來較多的散落砂。另外，在使用平板狀的壓實(shí)板的型砂壓縮中，在模板的模型高的部分與低的部分壓縮不均勻，特別是模型較低的部分的壓縮不夠。另外，在由分塊方式的壓實(shí)觸頭壓縮型砂的方式中，由于造型的砂型的上面平坦，所以，造型后必須切削凹凸面，型砂浪費(fèi)較多。專利技術(shù)的公開本專利技術(shù)的一個(gè)目的在于提供一種型砂的壓縮方法及其裝置，該型砂的壓縮方法及其裝置不需要為了模板的升降而設(shè)置大型(例如設(shè)置需要凹坑那樣的高度)的缸，可將充填到由模板、砂箱、及壓縮器限定的鑄型造型空間的型砂大體沿全體壓縮到所希望的硬度。本專利技術(shù)的另一目的在于提供一種在從鑄型拔取模板時(shí)拔模精度優(yōu)良的拔模方法。本專利技術(shù)的另一目的在于提供一種鑄型的造型方法及其裝置，鑄型的造型方法及其裝置可大幅度減少散落砂和切削砂的發(fā)生，同時(shí)，可使型砂的壓縮在鑄型全體均勻，可確保足夠的剛性，拔模精度優(yōu)良，并且可降低成本。按照本專利技術(shù)的1個(gè)方面，提供一種將型砂充填到用于對鑄型進(jìn)行造型的造型空間內(nèi)將其壓縮的裝置。該裝置包含具有模型的模板、可圍住該模板升降的下部輔助框、可升降地配置于該下部輔助框上方并圍住上述模型的砂箱、可升降地配置于該砂箱上方的余砂框、及可升降地配置于上述砂箱的上方并且下部可自由進(jìn)入到上述余砂框內(nèi)的壓縮器，以對造型空間進(jìn)行限定。該裝置還包含用于將型砂充填到造型空間內(nèi)的機(jī)構(gòu)。上述壓縮器首先至少在上述下部輔助框不能下降的狀態(tài)下下降，對上述造型空間內(nèi)的型砂進(jìn)行壓縮(1次壓縮)。在該1次壓縮之后，上述壓縮器在上述余砂框、上述下部輔助框、及上述砂箱可下降的狀態(tài)下下降，進(jìn)一步對上述造型空間的型砂進(jìn)行壓縮(2次壓縮)。2次壓縮的壓縮力最好比1次壓縮的壓縮力大。上述壓縮器也可為多塊方式的壓實(shí)觸頭。本專利技術(shù)的拔模方法對由這樣的方法造型的鑄型進(jìn)行拔模，即，造型時(shí)，由水平固定并且具有模型的模板、可圍住該模板升降的下部輔助框、可升降地配置于該下部輔助框上方并圍住上述模型的砂箱、可升降地配置于該砂箱上方的余砂框、及安裝于上述砂箱上方的可升降的支承機(jī)構(gòu)并且下部可自由進(jìn)入到上述余砂框內(nèi)的壓縮器對造型空間進(jìn)行限定，由上述壓縮器對充填到該造型空間內(nèi)的型砂進(jìn)行第1壓縮和第2壓縮這樣2個(gè)階段的壓縮。該拔模方法包含分離階段和提升階段，在該分離階段，以設(shè)定速度使上述下部輔助框上升，通過上述余砂框?qū)ι鲜鲋С袡C(jī)構(gòu)朝上加力，同時(shí)，使已完成上述鑄型造型的砂箱與上述壓縮器和上述余砂框一體上升，從上述模板分離，在該提升階段，將該分離了的上述砂箱提起。該方法也可適用于利用松砂充填造型的鑄型。在本說明書中，“松砂”指為了充填到上述造型空間內(nèi)，由壓縮空氣流使型砂流動(dòng)化。另外，“松砂充填”指由更強(qiáng)的壓縮空氣流將由松砂流動(dòng)化了的型砂充填到造型空間內(nèi)。本專利技術(shù)對鑄型進(jìn)行造型的裝置包含實(shí)質(zhì)上為矩形橫斷面的機(jī)座和立設(shè)于該機(jī)座上的至少3根桿狀機(jī)構(gòu)。至少3根的桿狀機(jī)構(gòu)中的至少2根為分別具有活塞桿的朝上缸。至少3根的桿狀機(jī)構(gòu)的前端(包含2根朝上缸的活塞桿的前端)安裝有可由上述朝上缸的驅(qū)動(dòng)自由升降的支承機(jī)構(gòu)。在該支承機(jī)構(gòu)支承儲存型砂的砂斗。該砂斗具有由壓縮空氣流使儲存的型砂進(jìn)行松砂的松砂機(jī)構(gòu)和由更強(qiáng)的壓縮空氣噴射該進(jìn)行了松砂的型砂的多個(gè)射砂頭。在該砂斗下端的上述射砂頭的近旁安裝多塊式壓實(shí)觸頭。裝置還包含可圍住上述射砂頭和壓實(shí)觸頭升降的余砂框和送入/送出機(jī)構(gòu)。余砂框具有排出從上述射砂頭與型砂一起射出的壓縮空氣的排出口。送入/送出機(jī)構(gòu)包含分別支承具有模型的模板的一對模板托架，相對與上述機(jī)座上的上述余砂框相配的位置，交替地將上述一對模板托架的一方和另一方送入和送出。從上述射砂頭射出的型砂充填到由上述模板、上述余砂框、及上述壓實(shí)觸頭限定的造型空間，由上述壓實(shí)觸頭壓縮。2根上述朝上缸也可配置于上述機(jī)座上的一方的對角線的角部。在該場合，也可在上述機(jī)座上的另一方的對角線上的角部同樣地配置2根朝上缸，采用4根朝上缸作為上述桿狀機(jī)構(gòu)?；蛘?，也可在另一方的對角線上的角部配置可分別上下滑動(dòng)地嵌合導(dǎo)向銷的一對支架。上述桿狀機(jī)構(gòu)也可為以三角形配置于上述機(jī)座上的3根上述朝上缸。在該場合，上述送入/送出機(jī)構(gòu)也可為轉(zhuǎn)臺，該轉(zhuǎn)臺以構(gòu)成三角形的頂部的缸為回轉(zhuǎn)軸在水平面內(nèi)回轉(zhuǎn)。在所有實(shí)施形式中，也可使用能夠相互獨(dú)立地升降的多個(gè)壓實(shí)觸頭作為對型砂進(jìn)行壓縮的壓縮器。另外，該多個(gè)壓實(shí)觸頭的下端構(gòu)成的壓實(shí)面也可在造型空間形成時(shí)具有凹凸?fàn)畹妮喞趬嚎s結(jié)束時(shí)具有平坦的輪廓。附圖的簡單說明包含于本說明書中構(gòu)成其中一部分的附圖為本專利技術(shù)優(yōu)選實(shí)施形式的示意圖，用于進(jìn)行上述一般的說明和以下優(yōu)選實(shí)施形式的詳細(xì)說明，以及本專利技術(shù)的上述和此外的目的和優(yōu)點(diǎn)的說明。附圖說明圖1為示出適用本專利技術(shù)裝置的第1實(shí)施形式的示意縱斷面圖。圖2-圖6為用于說明圖1的裝置的動(dòng)作的示意縱斷面圖。圖2示出限定用于對鑄型進(jìn)行造型的造型空間的階段。圖3示出將型砂充填到造型空間內(nèi)的階段。圖4示出對造型空間內(nèi)的型砂進(jìn)行1次壓縮的階段。圖5示出對造型空間內(nèi)的型砂進(jìn)行第2壓縮的階段。圖6示出從模板分離鑄型的階段。圖7為示出應(yīng)用了本專利技術(shù)的裝置的第2實(shí)施形式的示意縱斷面圖。圖8為說明圖7裝置的動(dòng)作的示意縱斷面圖，示出用于對鑄型進(jìn)行造型的造型空間受到限定的階段。圖9為說明圖7裝置的動(dòng)作的示意縱斷面圖，示出型砂的松砂充填狀態(tài)。圖10為說明圖7裝置的動(dòng)作的示意縱斷面圖，示出對造型空間內(nèi)的型砂進(jìn)行1次壓縮的階段。圖11為說明圖7裝置的動(dòng)作的示意縱斷面圖，示出對造型空間內(nèi)的型砂進(jìn)行2次壓縮的階段。圖12為說明圖7裝置的動(dòng)作的示意縱斷面圖，示出鑄型的拔模和型砂的補(bǔ)充階段。圖13為說明圖7裝置的動(dòng)作的示意縱斷面圖，示出更換模型的階段。圖14為示出另一模板托架的示意縱斷面圖。圖15為示出應(yīng)用了本專利技術(shù)裝置的第3實(shí)施形式的示意縱斷面圖。圖16為說明圖15的裝置的動(dòng)作的示意縱斷面圖，示本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種將型砂充填并壓縮到造型空間以對砂型進(jìn)行造型的方法，其特征在于，所述造型空間由下述部件限定：固定成水平狀的具有模型的模板（１０ａ，１０ｂ），可圍住所述模板升降的下部輔助框（１６ａ，１６ｂ），可升降地配置于所述下部輔 助框上方并圍住所述模型的砂箱（１８），可升降地配置于所述砂箱上方的余砂框（２０），可升降地配置于所述余砂框的上方并且下部可自由進(jìn)入到所述余砂框內(nèi)的壓縮機(jī)構(gòu)（２２）；所述方法包括以下步驟：將型砂注入所述造型空間 ；下降所述壓縮機(jī)構(gòu)（２２），以壓縮在所述造型空間中的型砂，從而在至少所述下部輔助框（１６ａ，１６ｂ）不可下降的狀態(tài)下進(jìn)行第一次壓實(shí)；　進(jìn)一步下降所述壓縮機(jī)構(gòu)（２２），以進(jìn)一步壓縮在所述造型空間中的所述型砂，從而在所述下部輔助 框（１６ａ，１６ｂ）和所述砂箱（１８）可下降的狀態(tài)下進(jìn)行第二次壓實(shí)；再進(jìn)一步下降所述壓縮機(jī)構(gòu)（２２），以進(jìn)一步壓縮在所述造型空間中的所述型砂，從而在所述下部輔助框（１６ａ，１６ｂ）達(dá)到其在所述第二次壓實(shí)的最低位置而所述壓實(shí)的壓力沒有 達(dá)到所述第二次壓實(shí)的設(shè)定壓力時(shí)進(jìn)行第三次壓實(shí)。...

【技術(shù)特征摘要】
JP 2000-4-13 2000-111700;JP 2000-5-19 2000-149055;1.一種將型砂充填并壓縮到造型空間以對砂型進(jìn)行造型的方法，其特征在于，所述造型空間由下述部件限定固定成水平狀的具有模型的模板(10a，10b)，可圍住所述模板升降的下部輔助框(16a，16b)，可升降地配置于所述下部輔助框上方并圍住所述模型的砂箱(18)，可升降地配置于所述砂箱上方的余砂框(20)，可升降地配置于所述余砂框的上方并且下部可自由進(jìn)入到所述余砂框內(nèi)的壓縮機(jī)構(gòu)(22)；所述方法包括以下步驟將型砂注入所述造型空間；下降所述壓縮機(jī)構(gòu)(22)，以壓縮在所述造型空間中的型砂，從而在至少所述下部輔助框(16a，16b)不可下降的狀態(tài)下進(jìn)行第一次壓實(shí)；進(jìn)一步下降所述壓縮機(jī)構(gòu)(22)，以進(jìn)一步壓縮在所述造型空間中的所述型砂，從而在所述下部...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：金藤公一，平田實(shí)，波多野豐，
申請(專利權(quán))人：新東工業(yè)株式會社，
類型：發(fā)明
國別省市：JP[日本]