本發(fā)明專利技術提供了一種支架保持器,其用于在使用干粉顆粒涂覆支架的過程中安裝支架并為支架充電,所述顆粒包括惰性聚合物,藥物或生物制劑。提供了一種組件,其用于在使用干粉顆粒涂覆支架的過程中支撐支架并為支架充電,所述顆粒包括惰性聚合物,藥物或生物制劑。提供了一種腔室,其用于在支架周圍產生電場,支撐支架,為支架充電,并將支架暴露在干粉顆粒下,所述顆粒包括惰性聚合物,藥物或生物制劑。提供了一種方法,其用于在支架周圍產生電場,支撐支架,為支架充電,并將支架暴露在干粉顆粒下,所述顆粒包括惰性聚合物,藥物或生物制劑。
【技術實現(xiàn)步驟摘要】
用于在涂覆過程中為基底充電的保持器 本申請是2007年10月23日提交的、名稱為“用于在涂覆過程中為基底充電的保持器”、申請?zhí)枮?00780047425. 6的中國專利申請的分案申請,該在先中國專利申請是申請?zhí)枮镻CT/US2007/082275的國際專利申請進入中國國家階段的申請。
技術介紹
在基底(或稱襯底)上進行涂覆通常是有益的,這使得該基底表面具有所需的性質或效果。例如,為了良好的治療或預防效果,涂覆生物醫(yī)學植入物對于提供藥物或生物制劑向體內特殊位置的定位遞送是有用的。具體益處的一個方面是Ong和Serruys最近在Nat. Clin. Pract. Cardiovasc. Med., (Dec2005), Vol2, No. 12,647 中討論的藥物洗脫支架(DES)。典型地,這種藥物或生物制劑與聚合物共沉積。這種藥劑的定位遞送避免了全身給 藥的問題,所述問題在于全身給藥可能伴隨有身體其他部位的不希望的效果,或者由于對患病身體部位的給藥需要高濃度的藥物或生物制劑,這可能不能由全身給藥實現(xiàn)。可為藥物或生物制劑的控制釋放(包括長期或持久釋放)提供涂覆。另外,生物醫(yī)學植入物可涂覆材料來提供有益表面性質,例如增強的生物相容性或光滑性。傳統(tǒng)的溶劑基噴霧涂覆工藝由于與在基底上的涂覆組分采集相關的低效率和最終涂覆稠度而受到限制。隨著基底尺寸的減小,并隨著機械復雜性的增加,逐漸提高了在基底所有表面均勻涂覆的難度。一種在基底上沉積惰性聚合物和藥物或生物制劑的效率高成本低的方法,其中采集工藝是高效率的,產生的涂覆是共形,大致無缺陷且均勻的。涂覆的組分可被調節(jié),藥物或生物制劑的形態(tài)和/或二級結構可被控制,這在PCT/US06/027,321進行了描述,其通過引用被全文并入本文。該方法允許在涂覆工藝過程中沉積藥劑的結構和形態(tài)保存。在PCT/US06/027, 321中描述的該方法考慮了在涂覆方法中為支架充電并在支架和支架保持器周圍產生電場。因此,需要安裝支架并為支架充電的支架保持器。
技術實現(xiàn)思路
本專利技術涉及在涂覆工藝工程中安裝支架并為支架充電的保持器;耦接、支撐支架保持器并為支架保持器充電的組件;控制支架周圍電場并提供涂覆支架平臺的腔室;以及使用充電的保持器、充電的組件和腔室涂覆支架的方法。—方面,本專利技術提供了在涂覆工藝工程中可移除地保持支架的支架保持器,其中在涂覆工藝工程中支架保持器為支架充電。在一個實施例中,保持器在支架周圍形成電場。在另一個實施例中,保持器包括遮蔽支架的至少一部分的遮擋件。在另一個實施例中,保持器包括用于與支撐件界面連接的支撐件界面連接部分,其中支撐件支撐所述支撐件界面連接部分并為其充電。在另一個實施例中,支架保持器包括為支架充電的支架安裝部分。在另一個實施例中,支架安裝部分具有一定結構,其中支架在支架保持器的橢圓部分上滑動。在另一個實施例中,支架安裝部分具有塌陷和擴張狀態(tài)用于在支架的安裝和移除過程中最小化涂覆損傷。在另一個實施例中,支架位于支架安裝部分的可充電部段上。在另一個實施例中,支架安裝部分包括彈簧部段。在另一個實施例中,支架安裝部分包括圍繞一中心軸線盤繞的螺紋。在另一個實施例中,螺紋為不導電的。在另一個實施例中,螺紋為可充電的。在另一個實施例中,保持器進一步包括操縱支架周圍電場的構件。在其他實施例中,保持器呈能夠安裝支架并為支架充電以及在支架周圍產生電場的各種結構。一方面,本專利技術提供了一種組件,包括在涂覆工藝工程中可移除地保持支架的至少一個支架保持器,其中所述支架保持器在涂覆工藝工程中為支架充電;用于支撐至少一個支架保持器的支撐件,其中所述支撐件為支架保持器充電。在一個實施例中,組件的支架保持器包括用于與支撐件界面連接的支撐件界面連接部分,其中所述支撐件支撐支撐件界面連接部分并為支撐件界面連接部分充電。在另一個實施例中,組件的支撐件包括電耦接到支架保持器的支撐件界面連接部分的至少一個耦接部分。在另一個實施例中,組件的支撐件包括連接到電源的充電部分。在其他實施例中,耦接部分呈能夠為保持器充電并支撐保持器的各種結構。一方面,本專利技術提供了用于支架涂覆工藝的腔室,其中所述腔室包括 包括第一孔的基體; 組件,包括用于在涂覆工藝工程中可移除地保持支架的至少一個支架保持器,其中所述支架保持器在涂覆工藝工程中為支架充電,用于支撐至少一個支架保持器的支撐件,其中所述支撐件為支架保持器充電;和 用于涂覆由組件保持的支架的涂覆噴嘴,其中組件位于基體上,其中第一基體孔提供了通向腔室用于涂覆支架的涂覆噴嘴,并且其中涂覆噴嘴可移除地裝配在第一基體孔中。在一個實施例中,腔室進一步包括連接到地源的至少一個接地構件。在另一個實施例中,接地構件可移除地裝配在第一基體孔或第二基體孔中,在另一個實施例中,腔室進一步包括用于吹掃腔室的吹掃噴嘴,其中吹掃噴嘴裝配在第一、第二或第三基體孔中。在另一個實施例中,腔室進一步包括用于使基體與組件的電荷絕緣的絕緣座,其中組件位于絕緣座上,絕緣座位于基體上,其中絕緣座具有與第一、第二、第三或第四基體孔對齊的至少一個孔。在另一個實施例中,腔室進一步包括蓋子,其在組件上方裝配并位于基體上。在另一個實施例中,腔室進一步包括在蓋子外的至少一個絕緣接地構件,其中絕緣接地構件連接到地源并可移除地位于基體上。在其他實施例中,蓋子是透明的,包括絕緣材料,和/或是一次性使用的,在其他實施例中,基體具有不導電的性質,和/或是熱塑性部件。在另一個實施例中,腔室包括連接到組件的支撐件的電源。在另一個實施例中,腔室的組件包括以環(huán)形結構布置的多個支架保持器,其中涂覆噴嘴位于由保持器形成的環(huán)形結構內。一方面,本專利技術提供了涂覆多個支架的一種方法,其中該方法包括 提供包括支撐件和多個支架保持器的組件,其中所述支架保持器以環(huán)形結構布置,其中涂覆噴嘴位于由支架保持器形成的環(huán)形結構內; 將支架安裝到支架保持器上; 通過為支撐件充電而為支架充電,所述支撐件為支架保持器充電,所述支架安裝在支架保持器上;和將充電的支架從涂覆噴嘴暴露在涂覆顆粒下,其中充電的支架吸引涂覆顆粒,其中在涂覆過程中在維持支架穩(wěn)定的同時所述涂覆顆粒沉積在支架上。 參考文件的并入在此通過引用方式將說明書中提到的所有公開和專利申請并入本文,這等效于特別地、單獨地聲明通過引用方式將每個單獨的公開或專利申請并入本文。附圖說明利用所附權利要求特別地闡述了本專利技術中新穎的特征。后文的詳細描述將闡述了一些說明性實施例和附圖,通過參考這些詳細描述將能更好地理解本專利技術的特征和優(yōu)點,其中圖IA至IB示出了涂覆系統(tǒng)內本專利技術的腔室。 圖IC示出了本專利技術的腔室。圖2A示出了在腔室內充電時在支架和支架保持器周圍的電場。圖2B示出了在腔室內充電時圖2A的電場包圍支架和支架保持器時橫跨腔室長度的電勢。圖2C示出了在腔室內充電時在支架和支架保持器周圍的電場。圖2D示出了在腔室內充電時圖2C的電場包圍支架和支架保持器時橫跨腔室長度的電勢。圖2E和2F示出了在腔室內充電時在多個支架和支架保持器周圍的電場的俯視圖。圖3A和3B示出了根據(jù)本專利技術的一個實施例的支架保持器和支架,所述支架保持器具有呈結構A的支架安裝部分和支撐件界面連接部分;圖4A和4B示出了根據(jù)本專利技術的一個實施例的本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術保護點】
一種組件,包括:在涂覆工藝工程中可移除地保持支架的至少一個支架保持器,其中,所述支架保持器在涂覆工藝工程中為所述支架充電;用于支撐所述至少一個支架保持器的支撐件,其中,所述支撐件為所述支架保持器充電,而且,所述組件包括在涂覆工藝工程中可移除地保持支架的2個或更多個支架保持器,其中,所述支架保持器在涂覆工藝工程中為所述支架充電。
【技術特征摘要】
...
【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員:J·B·麥克萊恩,D·泰勒,E·迪金遜,S·沃姆,
申請(專利權)人:米歇爾技術公司,
類型:發(fā)明
國別省市:
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