【技術實現步驟摘要】
本技術涉及的是一種用于硅片光刻膠的雙面曝光機。
技術介紹
在現有技術中，公知的技術是在生產二極管的過程中，需要對硅片表面的光刻膠進行光照，通過光照讓負性光刻膠產生膠鏈變硬，產生一層保護層，現在使用的曝光機大多都是單面曝光，這樣在曝光另一面時候，極易使硅片受到污染，增加了二極管的生產成本，這是現有技術所存在的不足之處。
技術實現思路
本技術的目的，就是針對現有技術所存在的不足，而提供一種用于硅片光刻 膠的雙面曝光機的技術方案，該方案的雙面曝光機，可以提高生產效率，設計簡單，操作方便，便于清潔，減少灰塵物的產生，減少設備造成的衛生死角對無塵室的影響，減少空間占有面積。本方案是通過如下技術措施來實現的一種用于硅片光刻膠的雙面曝光機，包括帶有控制面板的殼體，所述的殼體固定在工作臺上，本方案的特點是所述的殼體內設置有兩個曝光燈，所述的兩個曝光燈分別設置在殼體的上部和下部，在兩個曝光燈之間設置有活動擋板，所述的活動擋板到兩個曝光燈的距離相同。工作臺中部設置用于固定所述殼體的固定口。本方案的有益效果可根據對上述方案的敘述得知，由于在該方案中有控制面板可以控制曝光燈的開和關，曝光燈為兩個，可以一次進行雙面曝光；活動擋板利于曝光的進行，還可以對下面的曝光燈進行遮擋，對一些需要單面曝光的硅片光刻膠進行曝光，要雙面曝光時，可以將活動擋板收起。由此可見，本技術與現有技術相比，具有實質性特點和進步，其實施的有益效果也是顯而易見的。附圖說明圖I為本技術具體實施方式的結構示意圖。圖2為工作臺的俯視圖。圖中，I為殼體，2為控制面板，3為工作臺，4為曝光燈，5為活動擋板，6為固定口。具體實施...
【技術保護點】
一種用于硅片光刻膠的雙面曝光機，包括帶有控制面板的殼體，所述的殼體固定在工作臺上，其特征是：所述的殼體內設置有兩個曝光燈，所述的兩個曝光燈分別設置在殼體的上部和下部，在兩個曝光燈之間設置有活動擋板，所述的活動擋板到兩個曝光燈的距離相同。
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員：陳思太，盛春芳，李修強，
申請(專利權)人：淄博晨啟電子有限公司，
類型：實用新型
國別省市：
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