本發明專利技術實施例公開了一種圖案匹配方法，用于線寬測量機的測量過程中，包括如下步驟：讀取測量樣本上的至少一預定位置上的用于匹配的標準圖案；將所述測量樣本上的所述每一標準圖案分別與預存的與所述標準圖案對應的多個設計原圖進行對比；如果所述測量樣本上的標準圖案與至少一個設計原圖比對成功，則判定所述圖案匹配成功，進行后續的線寬測量過程；否則判定所述圖案匹配失敗。本發明專利技術實施例還公開了相應的圖案匹配方法以及線寬測量機。根據本發明專利技術的實施例，可以提高進行線寬測量時的圖案匹配的準確性和成功率。
【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及用于測量液晶面板的制造過程，特別是涉及一種圖案匹配方法、裝置及線寬測量機。
技術介紹
在液晶顯示器的制造過程中，需要對已經鍍膜的玻璃基本上的鍍膜的線寬進行測量，以判斷鍍膜是否成功。此時首先需要將測量樣品與設計的圖案進行圖案匹配的步驟，以進行樣品的定位。一般來說，測量樣品為在透明玻璃基板經過鍍膜工藝形成多個圖案，在圖案中包含了很多線段。線寬測量機需要對所述線段的寬度進行測量。為了進行圖案的匹配，在該測量樣品上的預定位置處進一步鍍膜有至少一個用于匹配的標準圖案，處于不同位置的標·準圖案所包含的圖案可以不同。相應地，在線寬測量機(或電腦)中存儲有該標準圖案的設計圖案，此處所說的圖案匹配，即指將測量樣品上的標準圖案與對應的已預先存儲的設計圖案進行比較。如果比較結果為兩者相同或達到一定的相似度，則匹配成功。匹配成功后，即可以將測量樣品上的圖案移至中間位置，進行線寬的測量。但是，在現有技術中，一旦液晶面板的制程出現不穩定時，則在測量樣品上通常顯現出一定的灰度，如圖I所示，其中A表示測量樣品上的標準圖案，B表示，預先存儲的與其對應的設計圖案，其中，標準圖案A存在一定的灰度，其與設計圖案B存在灰度上的差異，在這種情況下，則常常會導致圖案匹配失敗。而實際上，這種灰度的差異在液晶面板的制造過程中是可以接受的，故現有的這種情形，容易導致線寬無法進行測量，而延緩進度。
技術實現思路
本專利技術所要解決的技術問題在于，提供一種圖案匹配方法、裝置及線寬測量機，可以提高圖案匹配的準確性和成功率。為了解決上述技術問題，本專利技術的實施例的一方面提供一種圖案匹配方法，用于線寬測量機的測量過程中，包括如下步驟 讀取測量樣本上的至少一預定位置上的用于匹配的標準圖案，所述測量樣本為鍍膜有多個圖案的透明基板； 將所述測量樣本上的所述每一標準圖案分別與預存的與所述標準圖案對應的多個設計原圖進行對比，所述多個設計原圖差別在于圖案灰度不同； 如果所述測量樣本上的標準圖案與至少一個設計原圖比對成功，則判定所述圖案匹配成功，進行后續的線寬測量過程；否則判定所述圖案匹配失敗。其中，進一步包括預先在測量樣本的至少一個預定位置上鍍膜形成標準圖案。其中，進一步包括預先存儲每一預定位置上的設計原圖，每一位置上的標準圖案所對應的設計原圖為多個，所述每一設計原圖所對應的圖案灰度不同。其中，如果所述測量樣本上的標準圖案與至少一個設計原圖比對成功，則判定所述圖案匹配完成的步驟具體為 將所述測量樣本上的標準圖案與對應的設計原圖進行比較，如果相似度達到預定比值，則判定所述測量樣本上的標準圖案與所述設計原圖比對成功，所述相似度達到預定比值可以預先設定。相應地，本專利技術的實施例的另一方面提供一種圖案匹配裝置，用于線寬測量機中，其中，包括 圖像擷取單元，用于讀取測量樣本上的至少一預定位置上的用于匹配的標準圖案，所述測量樣本為鍍膜有多個圖案的透明基板； 匹配處理單元，將所述圖像擷取單元讀取的測量樣本上的每一標準圖案分別與預存的與所述標準圖案對應的多個設計原圖進行對比，所述多個設計原圖差別在于圖案灰度不同；如果所述測量樣本上的標準圖案與至少一個設計原圖比對成功，則判定所述圖案匹配完成。其中，進一步包括存儲單元，用于存儲每一預定位置上的設計原圖，每一位置上的標準圖案所對應的設計原圖為多個，所述每一設計原圖所對應的圖案灰度不同。其中，所述匹配處理單元進一步包括 獲取子單元，從所述存儲單元獲取所述測量樣本上的標準圖案所對應的多個設計原 匹配子單元，將所述標準圖案分別與所述獲取子單元獲取的多個設計原圖進行對比；匹配結果判定單元，用于在所述標準圖案與其中一個設計原圖相似度達到預定比值時，則判定所述測量樣本上的標準圖案與所述設計原圖比對成功，否則判定比對失敗。其中，進一步包括 設定單元，用于設定標準圖案與設計原圖之間比對的相似度的比值，供所述匹配結果判定單元進行比對判定。相應地，本專利技術實施例的再一方面提供一種線寬量測機，包括 圖像擷取單元，用于讀取測量樣本上的至少一預定位置上的用于匹配的標準圖案，所述測量樣本為鍍膜有多個圖案的透明基板； 匹配處理單元，將所述圖像擷取單元讀取的測量樣本上的每一標準圖案分別與預存的與所述標準圖案對應的多個設計原圖進行對比，所述多個設計原圖差別在于圖案灰度不同；如果所述測量樣本上的標準圖案與至少一個設計原圖比對成功，則判定所述圖案匹配成功； 線寬測量單元，用于在所述匹配處理單元判定圖案匹配成功后，對所述測量樣本上的線寬進行測量。其中，進一步包括存儲單元，用于存儲每一預定位置上的設計原圖，每一位置上的標準圖案所對應的設計原圖為多個，所述每一設計原圖所對應的圖案灰度不同。其中，匹配處理單元進一步包括 獲取子單元，從所述存儲單元獲取所述測量樣本上的標準圖案所對應的多個設計原 匹配子單元，將所述標準圖案分別與所述獲取子單元獲取的多個設計原圖進行對比； 匹配結果判定單元，用于在所述標準圖案與其中一個設計原圖相似度達到預定比值時，則判定所述測量樣本上的標準圖案與所述設計原圖比對成功，否則判定比對失敗。實施本專利技術實施例，具有如下有益效果 根據本專利技術的實施例，通過為測量樣本上的每一標準圖案對應預存有多個設計原圖，所述多個設計原圖差別在于圖案灰度不同；只要所述測量樣本上的標準圖案與至少一個設計原圖比對成功，就判定所述圖案匹配成功，可以直接進行后續的線寬測量過程，這樣可以提高圖案匹配的準確性和成功率。附圖說明為了更清楚地說明本專利技術實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本專利技術的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以·根據這些附圖獲得其他的附圖。圖I示出了現有的技術中進行圖案匹配時，一種測量樣品上的標準圖案與其對應的設計圖案的對比 圖2是本專利技術的一個實施例中的線寬測量機的部份功能模塊示意 圖3為本專利技術的一個實施例中測量樣品的局部示意 圖4是圖2中匹配處理單元的一個實施例的結構示意 圖5是本專利技術的一個實施例中進行圖案匹配時，測量樣品上的標準圖案與其對應的設計圖案的對比圖。具體實施例方式下面參考附圖對本專利技術的優選實施例進行描述。請參照圖3至圖5所示，示出了本專利技術的線寬測量機的第一實施例。從中可以看出，該線寬測量機4包括 圖像擷取單元40，用于讀取測量樣本上的至少一預定位置上的用于匹配的標準圖案，所述測量樣本為鍍膜有多個圖案的透明基板，所述測量樣品為在透明玻璃基板I經過鍍膜工藝形成多個圖案2，在圖案2中包含了很多線段20。線寬測量機需要對所述線段20的寬度進行測量。為了進行圖案的匹配，在該測量樣品上的預定位置處進一步鍍膜有所述標準圖案3，處于不同位置的標準圖案3所包含的圖案可以不同； 存儲單元48，用于存儲每一預定位置上的標準圖案30對應的設計原圖，每一位置上的標準圖案所對應的設計原圖為多個，所述每一設計原圖所對應的圖案灰度不同； 匹配處理單元42，將所述圖像擷取單元40讀取的測量樣本的每一標準圖案30分別與預存的與所述標準圖案對應的設計原圖進行對比，所述多個設計原圖差別在于圖案灰度不同；如果所述測量樣本上的標準圖案與至本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種圖案匹配方法，用于線寬測量機的測量過程中，其特征在于，包括如下步驟：讀取測量樣本上的至少一預定位置上的用于匹配的標準圖案，所述測量樣本為鍍膜有多個圖案的透明基板；將所述測量樣本上的所述每一標準圖案分別與預存的與所述標準圖案對應的多個設計原圖進行對比，所述多個設計原圖差別在于圖案灰度不同；如果所述測量樣本上的標準圖案與至少一個設計原圖比對成功，則判定所述圖案匹配成功，進行后續的線寬測量過程；否則判定所述圖案匹配失敗。
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員：林勇佑，
申請(專利權)人：深圳市華星光電技術有限公司，
類型：發明
國別省市：
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