【技術實現步驟摘要】
【技術保護點】
一種雙色陽極鈦膜形成方法,其特征在于,包括下列的步驟:提供一基材;清洗該基材;沉積一鈦膜于該基材上;形成一遮罩于該基材上;將具有該鈦膜的該基材作為陽極,浸入電解液;通入第一直流電壓以氧化該鈦膜的表面,并產生第一氧化鈦薄層于該基材上;移除該遮罩;將該基材作為陽極,浸入電解液;通入比該第一直流電壓低的第二直流電壓以氧化該鈦膜的表面,并產生第二氧化鈦薄層于該基材上;以及清洗該基材。
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員:鄧建龍,
申請(專利權)人:可成科技股份有限公司,
類型:發明
國別省市:
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