用于檢測玻璃襯底的表面缺陷的設備和方法技術

本發明專利技術涉及一種用于檢測玻璃襯底的表面缺陷的設備和方法用于檢測玻璃襯底的表面缺陷的設備，包含：第一照相裝置，安置在玻璃襯底上方以便拍攝玻璃襯底上的表面缺陷的第一圖像；第二照相裝置，安置在玻璃襯底上方以便拍攝玻璃襯底上的表面缺陷的第二圖像；暗場照明系統，安置在玻璃襯底下方以充當朝向第一照相裝置和第二照相裝置而穿透玻璃襯底的暗場照明；以及檢測信號處理器，其操作第一圖像上的缺陷位置的坐標和第二圖像上的缺陷位置的坐標，其中第一照相裝置和第二照相裝置形成呈不平行于玻璃襯底的至少轉移方向的線形狀的照相區域，形成針對玻璃襯底的頂部表面的將彼此重疊的照相區域，且形成針對玻璃襯底的底部表面的彼此不同的照相區域。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及一種，且更特定來說，涉及一種用于檢測玻璃襯底的表面缺陷的設備及其方法，其中經由兩個照相裝置和表面缺陷的A/B表面根據相應圖像中顯示的表面缺陷的長度的差異而獲得兩個圖像。
技術介紹
平板顯示器中所使用的玻璃襯底僅在其在玻璃工業中稱為“表面A”的一個表面上沉積有微型電路圖案(micro circuit pattern)，且在其在玻璃工業中稱為“表面B”的另 一表面上未沉積微型電路圖案。當玻璃襯底的表面A上存在缺陷時，如果微型電路圖案沉積在所述缺陷上，那么微型電路圖案的有缺陷的比例可能增加。因此，有必要在沉積微型電路圖案之前精確地檢測玻璃襯底(特定來說，上面將沉積微型電路圖案的表面A)上是否存在缺陷。為了參考，下文使用的術語“缺陷”是指各種類型的表面缺陷，例如劃痕(scratches)的產生、污垢粘附(dirt adhering)、表面隆起(surface protrusion)、泡沫產生等。對于用于檢測透明板狀主體上的缺陷的檢查裝置，廣泛采用BF(明場(BrightField))光學系統(optical system)和DF(暗場(Dark Field))光學系統。本專利技術是關于用于使用DF(暗場)光學系統來檢測玻璃襯底的表面缺陷的設備和方法。暗場光學系統將簡要描述如下。圖I顯示用于檢測透明板狀主體上存在的缺陷的暗場光學系統。參看圖I，在暗場光學系統中，傳感器相機(sensor camera) 5安置在透明板狀主體I的頂部表面上，且光源6安置在透明板狀主體I的底部表面上，借此通過使用透射光而非反射光來拍攝圖像。換句話說，暗場光學系統通過收集透射光束(transmittedlight beams) 7中的暗場分量來檢測透明板狀主體I上存在的例如雜質、劃痕等缺陷4。暗場光學系統具有比明場光學系統高的測試功率，使得暗場光學系統可精確且靈敏地檢測透明板狀主體的表面缺陷。然而，暗場光學系統在關于表面缺陷相對于表面A/B的位置的信息方面具有限制，因為用于表面A上存在的缺陷與表面B上存在的缺陷的信號幾乎無任何差異。同時，平板顯示器中所使用的玻璃襯底在表面A和B各別所需的質量方面具有巨大差異。舉例來說，表面A對隆起缺陷和劃痕缺陷非常敏感，進而需要高質量規格。相反，表面B不敏感，從而需要低質量規格。當在玻璃襯底工藝中轉移襯底時，使表面B與轉移構件接觸，使得可在表面B上產生細微劃痕且致使雜質粘附到表面B。然而，此類缺陷在表面B上是可容許的。如果在表面A上產生此類缺陷，那么將對應的玻璃襯底分類為“NG”且不允許其在平板顯示器的制造中使用。因此，使用具有高測試功率的暗場光學系統并進行表面缺陷檢查是有利的。同時，暗場光學系統具有不能將表面A/B彼此辨別的缺點。因此，暗場光學系統檢測缺陷的存在(不包含關于具有所產生的污染的表面A/B的信息)，并將簡單檢測結果提供給檢查者，使得可完全依賴于檢查者的手工工作來辨別“缺陷對應于哪一表面”。因此，盡管特定玻璃襯底具有對于平板顯示器的制造是適當的擁有良好質量的表面A和擁有可容許的細微劃痕的表面B，但暗場光學系統將玻璃襯底辨認為具有表面缺陷且將缺陷圖像提供給檢查者，使得檢查者必須辨別缺陷圖像對應于表面A/B中的哪一表面。因此，進一步需要手工辨別的額外步驟，從而減小工藝生產量和可加工性。另外，表面A上間歇地產生的細微劃痕被錯誤地確定為對應于表面B，從而導致在大規模生產中使用不適當的玻璃襯底的問題。
技術實現思路
因此，已努力作成本專利技術以解決相關技術中出現的問題，且本專利技術的目的是提供一種，其中可取得暗場光學系統的高測試功率的優點以及A/B表面辨別功能，使得針對表面缺陷來辨別表面A/B所需的循環時間得以縮短，且檢查者僅必須檢查具有高NG可能性的表面缺陷，進而使檢查配合度(inspectionengagement)達到最大化。為了實現本專利技術的以上目的，一種具有暗場光學系統的用于檢測玻璃襯底的表面缺陷的設備包括第一照相裝置(photographing device),其安置在玻璃襯底上方以用于拍攝玻璃襯底上的表面缺陷的第一圖像；第二照相裝置，其安置在玻璃襯底上方以用于拍攝玻璃襯底上的表面缺陷的第二圖像；暗場照明系統(dark field illuminationsystem)，其安置在玻璃襯底下方以用于充當朝向第一照相裝置和第二照相裝置而穿透玻璃襯底的暗場照明；以及檢測信號處理器(detection signal processor),其操作第一圖像上的缺陷位置的坐標和第二圖像上的缺陷位置的坐標，其中第一照相裝置和第二照相裝置形成呈不平行于玻璃襯底的至少轉移方向的線形狀的照相區域，形成針對玻璃襯底的頂部表面的將彼此重疊的照相區域，且形成針對玻璃襯底的底部表面的彼此不同的照相區域。此外，一種用于檢測玻璃襯底的表面缺陷的方法包括以下步驟通過合成由第一照相裝置獲得的第一圖像與由第二照相裝置獲得的第二圖像而產生第三圖像；以及根據第三圖像中對應于第一圖像的缺陷和對應于第二圖像的缺陷所形成的距離差而辨別在哪一表面上產生表面缺陷。根據所述用于檢測玻璃襯底的表面缺陷的設備，可取得作為暗場光學系統的優點的高測試功率，且同時可辨別在哪一表面上產生表面缺陷，進而展現如下效果。(I)可在短時間內容易地過濾表面B上所產生的大量表面缺陷，使得檢查者的檢查負擔可減少且工藝效率可增加。(2)表面A上所產生的表面缺陷的檢查工作的精度和配合度可得到改進，因為待檢查的圖像量減少，使得可完全避免在大規模生產中使用不適當的玻璃襯底。(3)玻璃襯底產品的保修等級(warranty level)可增加，因為可獲得關于細微表面缺陷的位置的信息。附圖說明圖I是顯示用于檢測透明板狀主體上存在的缺陷的常規暗場光學系統的視圖。圖2是顯示根據本專利技術的用于檢測玻璃襯底的表面缺陷的設備的結構的構造圖。圖3是根據圖2的本專利技術的用于檢測玻璃襯底的表面缺陷的設備的側視圖。圖4是顯示根據本專利技術的第一和第二照相裝置的錯誤布置狀態的實例視圖。圖5a和圖5b是分別顯示根據本專利技術的第一和第二照相裝置的各種布置形狀的側視圖。 圖6是顯示根據本專利技術的第一和第二照相裝置的最優選布置形狀的側視圖。圖7a是用于描述根據本專利技術的用于檢測玻璃襯底的表面缺陷的設備的用于檢測玻璃襯底的頂部表面上產生的表面缺陷的方法的闡釋性視圖。圖7b顯示用于顯示在圖7a的檢查過程中獲得的第一和第二圖像的實驗數據。圖8a是用于描述根據本專利技術的用于檢測玻璃襯底的表面缺陷的設備的用于檢測玻璃襯底的底部表面上產生的表面缺陷的方法的闡釋性視圖。圖Sb顯示用于顯示在圖8a的檢查過程中獲得的第一和第二圖像的實驗數據。圖9是根據本專利技術的一個實施例的用于檢測玻璃襯底的表面缺陷的設備的構造圖。圖10是圖9的側視圖。圖11是用于檢測玻璃襯底的表面缺陷的設備的修改的側視圖，其中圖9的照相裝置的位置有所改變。圖12是當暗場照明系統在與圖10中相同的條件下照明玻璃襯底時光路徑的寬度(Φ)設定為等于玻璃襯底的厚度(t)的設備的側視圖。附圖標記說明I :玻璃襯底8、9 :表面缺陷10 :第一照相裝置20 :第二照相裝置30:照明系統40 :檢測信號處理器Pl :第一和第二照相裝置的照相區域P2 :第二照相裝置的照相區域P3 :本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種發光二極管點燈裝置，其特征在于包括：發光二極管點燈電路；以及發光二極管負載，將并聯連接有多個發光二極管元件的多個并聯電路串聯連接、并且連接于所述發光二極管點燈電路的輸出端，所述各并聯電路在1個發光二極管元件成為開放故障模式時，剩余的發光二極管元件繼續點燈，在2個以上的發光二極管元件成為開放故障模式時，剩余的發光二極管元件是利用過電流而成為開放故障模式，從而所有的發光二極管元件熄滅。

【技術特征摘要】
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【專利技術屬性】
技術研發人員：黃圭弘，金泰皓，鄭址和，權載勛，馬克·肯曼，瑪寇·瓦泰爾，艾瑞克·路赫斯，安捷斯·博克，
申請(專利權)人：三星康寧精密素材株式會社，寶斯拉視覺技術股份有限公司，
類型：發明
國別省市：