接近式曝光裝置及接近式曝光方法制造方法及圖紙

本發明專利技術涉及一種接近式曝光裝置及曝光方法，其能以簡單結構對掩模撓曲進行修正并保持掩模，以高精度進行曝光復制。該掩模載置臺（1）具有：將掩模（M）真空吸附并保持于其下表面的掩模保持架（26）；保持于掩模保持架（26）上表面側的玻璃蓋片（32）；對由掩模保持架（26）、掩模（M）及玻璃蓋片（32）界定的空間（33）內的空氣進行抽吸，使空間（33）內部減壓的抽吸機構（40）；和從外部向減壓空間（33）內供給空氣的至少一條空氣導入槽（35）。在將掩模（M）真空吸附并保持于掩模保持架（26）的下表面，并由抽吸機構（40）抽吸空間（33）內壓力的狀態下，經空氣導入槽（35）向空間（33）供給外部空氣，將空間（33）內壓力調節為規定壓力。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及一種，更詳細而言，涉及適于在將掩模的圖案曝光復制在例如液晶顯示器和等離子顯示器等大型平板顯示器等的基板上時所使用的。
技術介紹
接近式曝光是將表面上涂布有感光劑的透光性基板(被曝光件)保持在曝光裝置的工作臺上，并且使該基板接近于保持在掩模載置臺的掩模保持架上的掩模，使兩者的間隔為例如數十ym 數百μ m，通過照射裝置，從掩模的與基板相反的一側向掩模照射曝光用光，由此將繪制在掩模上的圖案曝光復制在基板上。另外，盡管接近式曝光中存在將掩模做成與基板相同的大小而一次性曝光的方式，但在該方式下，在將掩模的圖案曝光復制在大型基板上時，掩模趨于大型化，將在掩模的撓曲導致對圖案的精度的影響和成本等方面出現問題。由于這樣的原因，迄今為止，在將掩模的圖案曝光復制在大型基板上的情況下，有時會采用所謂步進式的接近式曝光方式，即，使用比基板小的掩模，使工作臺相對于掩模步進移動，在每一步中，在將掩模配置在接近基板的狀態下，照射圖案曝光用光，由此，將繪制在掩模上的多個圖案曝光復制在基板上。掩模的撓曲對曝光精度有著很大的影響，特別是在大型掩模方面，掩模的撓曲有增大的趨勢，因此優選極力減小撓曲。迄今為止，作為修正掩模撓曲的掩模保持裝置，已知有，通過掩模保持架上形成的掩模吸附路將掩模吸附保持，并且，將掩模、掩模保持架和上蓋所構成的空間與空氣抽吸通路及空氣導入通路相連接，調節該空間內部的壓力到與掩模的自重相平衡的壓力，從而使掩模向與重力方向相反的方向撓曲，抵消掩模的自重撓曲的裝置(例如，參照專利文獻I)。另外，還公開了如下曝光裝置將掩模、透明板和框架體所圍成的空間與連接于排氣裝置的排氣管及連接于空氣導入裝置的導入管相連接，將該空間內部的空氣排出或將空氣導入，從而修正掩模的撓曲(例如，參考專利文獻2)。另外，還有將透明玻璃板固定配置在真空吸附掩模的真空吸附框架的框架內，通過真空抽吸透明玻璃板和掩模之間的空氣，由真空吸附框架及透明玻璃板將掩模真空吸附，提高掩模的保持力，從而防止掩模的錯動的裝置(例如，參照專利文獻3)。 專利文獻I :日本特開2009-277900號公報專利文獻2 :日本特開平8-82919號公報專利文獻3 日本特開2006-93604號公報
技術實現思路
專利技術要解決的課題但是，根據專利文獻1，因為從空氣導入通路供給的空氣經由掩模保持架與掩模的接合面供給到空氣抽吸通路及掩模吸附通路，所以從接合面上只能供給極少的空氣。因此，上蓋和掩模很快向掩模保持架內部ー側撓曲，掩模和上蓋有折損的可能。另外，專利文獻2中，因為將連接于排氣裝置的排氣管及連接于空氣導入裝置的導入管與空間相連接，通過將空氣排出或導入來控制空間內部的壓カ，所以，真空發生裝置周邊需要很多的控制裝置。另外，由于使用橡膠墊將掩模安裝在框架體上，成本有可能會變高。而依照專利文獻3，由于沒有從外部導入空氣的機構，空間內部變得負壓過剩，有可能損傷掩模及透明玻璃板。本專利技術是鑒于上述課題而提出，其目的在于，提供ー種，其能夠以比較簡單的結構對掩模的撓曲進行修正并將掩模保持，從而能夠以高精度進行曝光復制。解決課題的手段通過下述結構來達到本專利技術的上述目的。·(I) ー種接近式曝光裝置，其具有基板載置臺，其保持作為被曝光件的基板；掩模載置臺，其保持具有應曝光圖案的掩模；以及照射単元，其借助上述掩模對上述基板照射圖案曝光用光，該接近式曝光裝置在上述掩模與上述基板接近并以規定的曝光間隙對向配置的狀態下，將上述掩模的圖案曝光復制在上述基板上，其特征在于，上述掩模載置臺具有掩模保持架，其將上述掩模真空吸附在下表面并保持；玻璃蓋片，其被保持在上述掩模保持架的上表面ー側；抽吸機構，其抽吸至少由上述掩模保持架、上述掩模及上述玻璃蓋片界定的空間內部的空氣，使該空間內部減壓；以及空氣導入通路，其從外部向被減壓的上述空間內部供給空氣，且至少有一條。(2)根據上述(I)所述的接近式曝光裝置，其特征在干，上述的空氣導入通路是配置于上述玻璃蓋片與上述掩模保持架的接合部的空氣導入槽。(3)根據上述(I)或(2)所述的接近式曝光裝置，其特征在于，上述掩模載置臺還具有掩模框架，其將上述掩模保持架真空吸附并保持在下表面，且由掩模驅動部來驅動。(4)根據上述(3)所述的接近式曝光裝置，其特征在干，上述掩模保持架的上表面具有突起部或凹部，上述掩模框架的下表面具有凹部或突起部，上述掩模保持架的上述突起部或凹部與上述掩模框架的上述凹部或突起部卡合，將上述掩模保持架保持在上述掩模框架的下表面。(5)根據上述(3)或(4)所述的接近式曝光裝置，其特征在于，上述掩模框架還具有掩模保持架支承機構，其支承上述掩模保持架，防止上述掩模保持架從上述掩模框架脫落。(6)根據上述(I) (3)中任意一項所述的接近式曝光裝置，其特征在干，上述掩模保持架具有保持機構，其將上述玻璃蓋片保持在上述掩模保持架的規定的位置。( 7)根據(6)所述的接近式曝光裝置，其特征在干，上述掩模保持架選擇其表面密度高于掩模M的表面密度的構件。(8)根據上述(I)所述的接近式曝光裝置，其特征在干，上述掩模載置臺具有掩模框架，其下表面安裝有上述掩模保持架，并且將上述玻璃蓋片真空吸附并保持在下表面，上述空間由上述掩模框架、上述掩模保持架、上述掩模及上述玻璃蓋片所界定，上述空氣導入通路是配置在上述掩模框架與掩模保持架的接合部的空氣導入槽。(9)根據上述(8)所述的接近式曝光裝置，其特征在干，上述空氣導入通路設置在掩模保持架的中央部。 (10)—種接近式曝光方法，其利用上述(I) (9)中任意一項所述的接近式曝光裝置，在上述掩模與上述基板接近并以規定的曝光間隙對向配置的狀態下，將上述掩模的圖案曝光復制在上述基板上，其特征在于，其具有將上述掩模真空吸附在上述掩模保持架的下表面，并將掩模保持的エ序；及在由上述抽吸機構抽吸上述空間內部的壓カ的同時，經由上述空氣導入通路向上述空間供給上述外部的空氣，從而將上述空間內部的壓カ調節為規定的壓カ的エ序。專利技術效果根據本專利技術的接近式曝光裝置以及接近式曝光方法，掩模載置臺具有掩模保持架，其將掩模真空吸附在下表面并保持；玻璃蓋片，其被保持在掩模保持架的上表面ー側；抽吸機構，其抽吸至少由掩模保持架、掩模及玻璃蓋片所界定的空間內部的空氣，使該空間內部減壓；以及空氣導入通路，其從外部向被減壓的空間內部供給空氣，且至少有ー個。而且，將掩模真空吸附在掩模保持架的下表面，并將掩模保持，另外，在由抽吸機構抽吸空間內部的壓カ的同時，經由空氣導入通路向空間供給外部的空氣，從而將空間內部的壓カ調節為規定的壓力。因此，掩模載置臺能夠以比較簡單的結構對掩模的撓曲進行修正并將掩模保持，因而能夠以高精度將掩模的圖案曝光復制在基板上。附圖說明圖I為用于說明本專利技術第一實施方式的接近式曝光裝置的局部剖視主視圖。圖2為圖I所示的掩模載置臺的簡要結構的剖視示意圖。圖3為掩模框架以短跨度將掩模保持架保持的掩模載置臺的剖視圖。圖4為圖2所示的掩模載置臺的分解剖視示意圖。圖5為第I實施方式的接近式曝光裝置的第I變形例，為掩模框架的凹部與掩模保持部的突起部卡合狀態的掩模載置臺的主要部分的剖視示意圖。圖6為第I實施方式的接近式曝光裝置的第2變形例，為掩模保持架支承機構的機理說明示本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種接近式曝光裝置，其特征在于，具有：基板載置臺，其保持作為被曝光件的基板；掩模載置臺，其保持具有需曝光圖案的掩模；以及照射單元，其借助所述掩模對所述基板照射圖案曝光用光，所述接近式曝光裝置在所述掩模與所述基板接近，并以規定的曝光間隙對向配置的狀態下，將所述掩模的圖案曝光復制在所述基板上，所述掩模載置臺具有：掩模保持架，其將所述掩模真空吸附保持于其下表面；玻璃蓋片，其被保持在所述掩模保持架的上表面側；抽吸機構，其抽吸至少由所述掩模保持架、所述掩模及所述玻璃蓋片所界定的空間內部的空氣，使所述空間內部減壓；以及空氣導入通路，其從外部向被減壓的空間內部供給空氣，且所述空氣導入通路至少有一條。

【技術特征摘要】
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【專利技術屬性】
技術研發人員：湯口悟，佐藤雅之，
申請(專利權)人：恩斯克科技有限公司，
類型：發明
國別省市：