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    一種電容膜制造技術

    技術編號:8474446 閱讀:169 留言:0更新日期:2013-03-24 19:17
    一種電容膜,包括芯層,所述芯層為高分子材料制成,芯層上涂覆有抗靜電層。本實用新型專利技術的目的在于提供一種具良好絕緣性能和良好的耐磨損性能。(*該技術在2022年保護過期,可自由使用*)

    【技術實現步驟摘要】

    一種電容膜
    本技術涉及高分子膜領域,特別是一種電容膜。
    技術介紹
    電容膜主要應用于交流電機、家用電器、電力電容器等電子產品,電容膜對絕緣性的要求十分高,需要采用電工級原料,嚴格助劑母料的選擇,確保原料的純度。同時原料出力及輸送過程不收污染。電暈處理必須均勻可靠,收卷張力平穩合適。現有的電容膜在抗絕緣性方面及耐磨損性方面尚效果較差。
    技術實現思路
    本技術的目的在于提供一種具良好絕緣性能和良好的耐磨損性能。本技術通過以下方式實現一種電容膜,包括芯層,所述芯層為高分子材料制成,芯層上涂覆有抗靜電層。所述高分子材料優選選用電工級原料。進一步的,所述高分子材料采用聚丙烯,特別是電工級聚丙烯更佳。進一步的,所述芯層厚度為5-12 μ m和抗靜電層厚度在5-15 μ m。在此厚度下,電耗散性能最好。進一步的,所述抗靜電層上復合有保護層。優選的,所述保護層由丙烯酸聚合物及金屬氧化物共混制成,保護層能增加電容膜的耐磨損度。本技術的有益效果是提供一種電容膜,具有良好的絕緣性能和耐磨性能,符合電容膜的使用需求。附圖說明圖I為本技術結構示意圖。具體實施方式一種電容膜,包括芯層I,所述芯層I為高分子材料制成,芯層I上涂覆有抗靜電層 2。所述高分子材料選用電工級聚丙烯原料。進一步的,所述芯層厚度為5 μ m和抗靜電層厚度在5 μ m。在此厚度下,電耗散性能良好。進一步的,所述抗靜電層上復合有保護層3。優選的,所述保護層由丙烯酸聚合物及金屬氧化物共混制成,保護層能增加電容膜的耐磨損度。經檢測,所述電容膜符合以下技術指標厚度:10 μ m ;熔點1690C ;抗拉強度=MD150 ;潤濕張力>38mN/m ;熱收縮率MD3% ; 體積電阻率1. 6X1016 ;介電常數2. 15 ;空隙率=IO0本文檔來自技高網...

    【技術保護點】
    一種電容膜,其特征在于,包括芯層,所述芯層為高分子材料制成,芯層上涂覆有抗靜電層。

    【技術特征摘要】
    1.一種電容膜,其特征在于,包括芯層,所述芯層為高分子材料制成,芯層上涂覆有抗靜電層。2.根據權利要求I所述電容膜,其特征在于,所述高分子材料采用聚丙烯。3.根據權利要求I所述電容膜,其特征在于,芯層厚度為5-12ym。4...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:杜煥平
    申請(專利權)人:廣東中炬塑膠有限公司
    類型:實用新型
    國別省市:

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