本發明專利技術公開了一種低折射率二氧化鈦減反射增透光觸控屏鍍膜玻璃，包括由觸控屏玻璃基材及多孔性結構低折射率二氧化鈦減反射增透光鍍膜，在觸控屏玻璃基材的表面涂布有一層低折射率二氧化鈦溶膠，該涂層經干燥固化后可于觸控屏玻璃表面形成一層多孔性結構低折射率二氧化鈦減反射增透光鍍膜，該低折射率二氧化鈦減反射鍍膜與觸控屏玻璃形成緊密結構。通過上述方式，本發明專利技術能夠具有減反射及增透光的特點，具有更佳的耐老化特性，其中二氧化鈦含有銳鈦型晶型，故具光觸媒的光催化效能，可大大提升觸控屏玻璃光穿透率。
【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及玻璃鍍膜
，特別是涉及一種低折射率二氧化鈦減反射增透光觸控屏鍍膜玻璃。
技術介紹
觸控屏幕是1960年代后期于學術與企業研究實驗室崛起的技術。現今，許多人還認為觸控屏幕屬于尖端技術，而實際上我們大多數人已使用觸控屏幕達25年之久，當今應用于手機、個人計算機與顯示器的觸控屏幕技術就達十余種之多。其中一些覺的觸控技術有電阻式、電容式、表面聲波和紅外線矩陣等。 其中表面聲波技術可提供良好的影像清晰度，因為其使用純玻璃結構，可提供絕佳的影像清晰度、分辨率及較高的透光性。不過純玻璃透過的光源不夠均勻，透光度不夠，影響了影像清晰度效果。二氧化鈦薄膜有折射率高的特性，其中金紅石型結晶折射率約2. 71，銳鈦型結晶折射率約2. 55，因此，二氧化鈦薄膜具有較大的反射和散射光的能力。當入射光通過玻璃表面鍍膜時，有折射及反射產生，折射的光線抵達玻璃界面時，也會有折射與反射。第二道反射光R2比第一道反射光Rl多走了兩次鍍膜層厚度距離。假設鍍膜的光學厚度為山則Rl與R2的光程差為2d，當光程差2d等于半個波長的奇數倍時，兩道反射光的相位差將為180°，產生破壞性干涉而互相抵消。從能量守恒定律，降低反射光則能增加穿透光。所以當鍍膜的光學厚度為光波長的四分之一奇數倍時，就可使其波長的光的反射率趨近為零。對一固定鍍膜的厚度只能對固定波長的光產生干涉效果，不同于此波長的光會有較高的反射率。除了鍍膜的厚度，鍍膜的材質也是很重要的，薄膜的理想折射率# = 'lNair* WgJms ,其中Nair為空氣折射率，Nglass為玻璃折射率。減反射薄膜的做法分成兩大類，第I類是用不同折射率的物質互相堆棧在一起形成多層結構，或藉由控制堆棧的厚度及材料的折射率。當兩個相差四分之一波長的光波碰在一起時，就會產生完全破壞性干涉，把反射的光抵銷掉。因此，只要把鍍膜的厚度控制在可見光波長的四分之一，即能達到減反射效果。第2大類稱為低反射膜，當光線由空氣進入玻璃基板時，已知空氣的折射率GVair=I)及玻璃的折射率(NglaSS:\· 52)，從空氣及基板界面發生反射，則雙面玻璃造成的反射大約是71%。低折射率減反射增透光二氧化鈦光學鍍膜為多孔性結構，具有較低的折射率特性，其原理因空氣的折射率是1，想要得到較低折射率材料的方法可以把材料做成多孔結構，孔洞處的折射率則是空氣的折射率I和所使用材料的折射率的比例組合。由于尚未有多孔性結構低折射率二氧化鈦減反射增透光觸控頻鍍膜玻璃的技術產品，而低折射率二氧化鈦薄膜在減反射應用領域為一重要技術突破，因此，開發出多孔性結構低折射率二氧化鈦減反射增透光觸控頻鍍膜玻璃是本專利技術的主要目的
技術實現思路
本專利技術主要解決的技術問題是提供一種低折射率二氧化鈦減反射增透光觸控屏鍍膜玻璃，能夠具有減反射及增透光的特點，具有更佳的耐老化特性，其中二氧化鈦含有銳鈦型晶型，故具光觸媒的光催化效能，可大大提升觸控屏玻璃光穿透率。為解決上述技術問題，本專利技術采用的一個技術方案是提供一種低折射率二氧化鈦減反射增透光觸控屏鍍膜玻璃，包括觸控玻璃基材，所述觸控玻璃基材表面覆有二氧化鈦鍍膜。優選的是，所述二氧化鈦鍍膜是低折射率二氧化鈦減反射鍍膜。 ·優選的是，所述低折射率二氧化鈦溶膠合成于觸控玻璃基材表面形成薄膜。優選的是，所述薄膜表面為多孔結構，薄膜厚度為100 200nm。本專利技術的有益效果如下1、本專利技術一種低折射率二氧化鈦減反射增透光觸控屏鍍膜玻璃，其二氧化鈦鍍膜層具有減反射及增透光的特點。2、本專利技術一種低折射率二氧化鈦減反射增透光觸控屏鍍膜玻璃具有更佳的耐老化特性。3、本專利技術一種低折射率二氧化鈦減反射增透光觸控屏鍍膜玻璃，其中二氧化鈦含有銳鈦型晶型，故具光觸媒的光催化效能，可大大提升觸控屏玻璃光穿透率。附圖說明圖1為本專利技術一種低折射率二氧化鈦減反射增透光觸控屏鍍膜玻璃的結構示意 圖2為現有技術純玻璃與本專利技術一種低折射率二氧化鈦減反射增透光觸控屏鍍膜玻璃的光透過率光譜對比圖。具體實施例方式下面結合附圖對本專利技術的較佳實施例進行詳細闡述，以使本專利技術的優點和特征能更易于被本領域技術人員理解，從而對本專利技術的保護范圍做出更為清楚明確的界定。參見圖1，一種低折射率二氧化鈦減反射增透光觸控屏鍍膜玻璃，包括由觸控屏玻璃基材I及多孔性結構低折射率二氧化鈦減反射增透光鍍膜2，在觸控屏玻璃基材I的表面涂布有一層低折射率二氧化鈦溶膠，該涂層經干燥固化后可于觸控屏玻璃表面形成一層多孔性結構低折射率二氧化鈦減反射增透光鍍膜，該低折射率二氧化鈦減反射鍍膜與觸控屏玻璃形成緊密結構。涂布前，先經表面清潔程序清潔觸控屏玻璃基材I，再涂覆一層低折射率二氧化鈦溶膠2。涂布時，低折射率二氧化鈦減反射鍍膜2的干膜厚度控制在100 200nm。實施例1: 在反應槽中加入去離子水10公斤，取四氯化鈦500克加入反應槽中稀釋，形成約濃度5%的四氯化鈦水溶液，以氨水徐徐加入進行中和反應并有白色鈦的氫氧化物沈淀物析出，保持攪拌持續觀察PH值變化，至PH值在7. O時停止添加氨水。將上述沈淀物經過濾清洗純化后，形成白色鈦的氫氧化物約300克,將鈦的氫氧化物置入分散槽中，加入50%濃度過氧化氫878克保持攪拌充分反應，將2. 07公斤四甲基硅烷加入此分散液中并充分攪拌，將180克的草酸加入此分散液中并充分攪拌，將純水約95公斤加入此分散液中保持攪拌使鈦的氫氧化物充分分散，將分散液溫度加熱至55°C，在保持此溫度持續陳化48小時后即為低折射率二氧化鈦溶膠。將上述二氧化鈦溶膠以噴涂法涂布在平均可見光穿透率為91. 5%的觸控屏玻璃基材表面，并以500°C高溫固化薄膜5分鐘，可形成一平均可見光穿透率為93. 1%涂層，以X射線繞射儀檢測該薄膜材料其結晶形含有銳鈦形，以橢圓偏振光譜儀檢測該薄膜其折射率為1. 48，遠小于純銳鈦型二氧化鈦的折射率2. 55，測該薄膜厚度約103nm。實施例2 在反應槽中加入去離子水10公斤，取四氯化鈦5. 5公斤加入反應槽中稀釋，形成約濃度35%的四氯化鈦水溶液，以氫氧化鈉水溶液徐徐加入中和并有白色鈦的氫氧化物沈淀物析出，保持攪拌持續觀察PH值變化，至PH值在9. O時停止添加氫氧化鈉水溶液。將上述沈 淀物經過濾清洗純化后，形成白色鈦的氫氧化物約3. 3公斤，將鈦的氫氧化物置入分散槽中，將44. 872公斤高錳酸鉀水溶液加入此分散液中并充分攪拌，將118. 38公斤四乙基硅烷加入此分散液中并充分攪拌,將11. 368公斤的磷酸加入此分散液中并充分攪拌，將純水約5220公斤加入此分散液中保持攪拌使鈦的氫氧化物充分分散，將分散液溫度加熱至95°C，在保持此溫度持續陳化4小時后即為低折射率二氧化鈦溶膠。將上述二氧化鈦溶膠以提拉法涂布在平均可見光穿透率為91. 5%的觸控視頻屏玻璃基材表面，并以800°C高溫固化薄膜2分鐘，可形成一平均可見光穿透率為96. 8%涂層，以X射線繞射儀檢測該薄膜材料其結晶形含有銳鈦形，以橢圓偏振光譜儀檢測該薄膜其折射率為1. 33，遠小于純銳鈦型二氧化鈦的折射率2. 55，測該薄膜厚度約197nm。實施例三 在反應槽中加入去離子水9公斤，取硫酸鈦2. 5公斤加入反應槽中稀釋，形成約濃度20%的硫酸鈦水溶液，以氫氧化鉀水溶液本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種低折射率二氧化鈦減反射增透光觸控屏鍍膜玻璃，其特征在于：包括觸控玻璃基材，所述觸控玻璃基材表面覆有二氧化鈦鍍膜。
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員：賴文賢，
申請(專利權)人：泉耀新材料科技蘇州有限公司，
類型：發明
國別省市：
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