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    除蠟清洗劑制造技術

    技術編號:8484598 閱讀:228 留言:0更新日期:2013-03-28 03:55
    本發明專利技術涉及一種除蠟清洗劑,由以下重量百分比組分組成:7.6-10.3%辛基酚聚氧乙烯醚、3.5-6.7%水楊酸、1.5-5.2%乙酰胺、2.6-7.8%2-羥基膦酰基乙酸、4.1-8.3%硅酸鈉、3.7-5.8%葡萄糖酸鈉、5.1-9.2%乙醇、1.3-4.0%異丙醇、5.5-9.8%三氯乙烯、余量為去離子水。該清洗劑能快速去除物體表面的蠟質污垢,而且不會腐蝕物體表面,可使清洗后的物體清潔如新。

    【技術實現步驟摘要】

    本專利技術涉及一種除蠟清洗劑,屬于工業清潔

    技術介紹
    據申請人了解,現有技術中尚無針對性的除蠟清洗劑,很難將物體表面的蠟質污垢徹底清洗干凈。亟需一種針對性強的高效清洗劑。
    技術實現思路
    本專利技術所要解決的技術問題是克服現有技術存在的問題,提供一種除蠟清洗劑, 能快速去除物體表面的蠟質污垢,而且不會腐蝕物體表面,可使清洗后的物體清潔如新。本專利技術解決其技術問題的技術方案如下一種除蠟清洗劑,其特征是,由以下重量百分比的組分組成權利要求1 一種除蠟清洗劑,其特征是,由以下重量百分比的組分組成2.根據權利要求1所述的除蠟清洗劑,其特征是,由以下重量百分比的組分組成3.根據權利要求1所述的除蠟清洗劑,其特征是,由以下重量百分比的組分組成全文摘要本專利技術涉及一種除蠟清洗劑,由以下重量百分比組分組成7.6-10.3%辛基酚聚氧乙烯醚、3.5-6.7%水楊酸、1.5-5.2%乙酰胺、2.6-7.8%2-羥基膦酰基乙酸、4.1-8.3%硅酸鈉、3.7-5.8%葡萄糖酸鈉、5.1-9.2%乙醇、1.3-4.0%異丙醇、5.5-9.8%三氯乙烯、余量為去離子水。該清洗劑能快速去除物體表面的蠟質污垢,而且不會腐蝕物體表面,可使清洗后的物體清潔如新。文檔編號C11D10/02GK102994284SQ201210396540公開日2013年3月27日 申請日期2012年10月17日 優先權日2012年10月17日專利技術者張志明 申請人:張志明

    【技術保護點】
    一種除蠟清洗劑,其特征是,由以下重量百分比的組分組成:FDA00002264606700011.jpg

    【技術特征摘要】

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:張志明
    申請(專利權)人:張志明
    類型:發明
    國別省市:

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