本發明專利技術公開了一種清洗兆聲波換能器的裝置，該裝置包括清洗槽、擋流板和隔流板，所述清洗槽的兩側面對應設置有液體入口和液體出口，液體入口側設置有氣體入口，所述擋流板設置在清洗槽內液體入口前，所述擋流板底部設置多個排流孔，所述隔流板設置在清洗槽內液體出口前，所述隔流板底部與清水槽底面間存在間隙，所述隔流板上設置有用于排出清洗槽中過多液體的孔。采用本發明專利技術清洗兆聲波換能器的裝置能夠快速的對兆聲波換能器進行機械化清洗，清洗效率高，清洗均勻全面，清洗效果好。
【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及設備清洗領域，特別涉及一種清洗兆聲波換能器的裝置。
技術介紹
兆聲波換能器具有很多優點，被廣·泛用于半導體領域清洗設備中。在清洗過程中，兆聲波換能器的工作面與晶片表面的距離很小(約為Γ3_)，導致晶片表面的顆粒物質極易附著在兆聲波換能器的底面及底部側面。一個工作行程結束后，需要對其工作面進行沖洗，以免影響后續的清洗，進而保證下一晶片的清洗質量?，F有技術中采用簡單水槽對兆聲波換能器進行清洗，這種方法效率低，清洗速度慢，清洗質量差。
技術實現思路
(一)要解決的技術問題本專利技術要解決的技術問題是如何提供一種清洗兆聲波換能器的裝置使得對兆聲波換能器的清洗速度快，清洗質量好。(二)技術方案為解決上述技術問題，本專利技術提供了一種清洗兆聲波換能器的裝置，該裝置包括清洗槽(I)、擋流板(6)和隔流板(8)，所述清洗槽的兩側面對應設置有液體入口(2)和液體出口(3)，所述擋流板設置在清洗槽內液體入口前，所述擋流板底部設置多個排流孔(7)，所述隔流板設置在清洗槽內液體出口前，所述隔流板底部與清水槽底面(5)間存在間隙，所述隔流板上設置有用于排出清洗槽中過多液體的孔。優選的，所述清洗槽為四邊形槽式結構。優選的，所述清洗槽底面由液體入口側向液體出口側傾斜。優選的，所述液體出口大于或等于液體入口。優選的，所述多個排流孔沿擋流板底部橫向均勻分布。優選的，所述擋流板上部與清洗槽液體入口側面連接，擋流板底部與清洗槽底面接觸，擋流板下部與清洗槽液體入口側面之間存在間隙。優選的，所述液體入口側面設置有氣體入口(4)。優選的，所述隔流板底部間隙的截面積小于或等于擋流板底端排流孔面積之和。優選的，所述隔流板上用于排出清洗槽中過多液體的孔的位置根據兆聲波換能器的位置確定。優選的，所述清洗槽的尺寸與兆聲波換能器的尺寸相適應。(三)有益效果采用本專利技術清洗兆聲波換能器的裝置能夠快速的對兆聲波換能器進行機械化清洗，清洗效率高，清洗均勻全面，清洗效果好。附圖說明圖I是本專利技術實施例清洗兆聲波換能器的裝置清洗槽的立體圖。圖2是本專利技術實施例清洗兆聲波換能器的裝置擋流板的立體圖。圖3是本專利技術實施例清洗兆聲波換能器的裝置隔流板的立體圖。圖4是本專利技術實施例清洗兆聲波換能器的裝置的側視圖。圖5是本專利技術實施例清洗兆聲波換能器的裝置的工作示意圖。具體實施例方式下面結合附圖和實施例，對本專利技術的具體實施方式作進一步詳細描述。以下實施 例用于說明本專利技術，但不用來限制本專利技術的范圍。本專利技術實施例中采用槽式裝置清洗兆聲波換能器，該清洗裝置包括清洗槽、擋流 板和隔流板，擋流板和隔流板分別布置在清洗槽中液體入口側和液體出口側。清洗液體快 速流過兆聲波換能器使其得以清洗，此處清洗液體可以是純水。清洗槽為四邊形槽式結構，在清洗槽的一側及其對側開設液體入口和液體出口， 且使液體出口大于液體入口。為使液體順利流動，清洗槽的底面由液體入口側向液體出口 側傾斜一定角度。布置擋流板，使得其下端與清洗槽底面接觸，其下部內側面與清洗槽液 體入口側面存在一定間隙(大約幾個毫米)，其上部側面與清洗槽液體入口側面接觸。擋流 板平行于液體入口側面，且與清洗槽的寬度相等。在擋流板底端，沿著垂直于液體進、出口 方向，布置多個排流孔。這樣，進入清洗槽的液體經清洗槽側面和擋流板之間的間隙，由擋 流板底端的排流孔流過。擋流板上排流孔使得液體在清洗槽寬度方向較均勻分布，避免兆 聲波換能器邊緣清洗不佳。另外，為使液體快速流動，在清洗槽液體入口的上方布置氣體入 口，由此進入的氣體壓力可以加速液體流動。如圖I所示，液體入口 2、氣體入口 4和液體出口 3處可以連接接頭及供液、氣裝 置。底面5為傾斜面，由液體入口端向液體出口端傾斜。如圖2所示，在擋流板6接近下端面沿寬度方向處布置有多個排流孔7。將隔流板固定在距離清洗槽液體出口側一定距離的位置，隔流板與清洗槽寬度相 同，其底端面與清洗槽底面保持一間隙，該間隙的截面積小于或等于擋流板底端小孔面積 之和。在隔流板上部合適的位置開有較大的孔，用于清洗槽中液體積聚較多時的排放，該位 置根據兆聲波換能器的位置確定。如圖3所示，隔流板8上部的孔用于槽中液體較多時排流。兆聲波換能器的底面置于擋流板和隔流板之間，且與清洗槽底面有微小間距。由 排流孔流過的液體，沖洗兆聲波換能器的底面后經擋流板，由液體出口排出。如圖4所示，隔流板8的下端與清洗槽I的底面保持一定間隙，擋流板6的內側面 下部與清洗槽I液體入口內側有較小間隙，擋流板6內側面上部與液體入口內側接觸，擋流 板底面5與清洗槽I底面接觸。如圖5所示，兆聲波換能器9的前端置于清洗槽I中，其底面與清洗槽底面5保持 一定間距，擋流板6固定于清洗槽內側液體入口側，隔流板8固定于清洗槽I中靠近液體出 口的位置。工作時，清洗槽液體入口持續供給清洗液,氣體入口供入氣體，清洗液及氣體由擋 流板和清洗槽之間的間隙經排流孔流過，從兆聲波換能器的底部流過，通過隔流板和清洗槽底面之間間隙，由液體出口排出。清洗槽中的液體會逐漸增多時，液面達到一定高度，液體經由隔流板上部的孔流過。在液體的持續沖洗下，兆聲波換能器底面和底部側面得以清洗。以上實施方式僅用于說明本專利技術，而并非對本專利技術的限制，有關
的普通技術人員，在不脫離本專利技術的精神和范圍的情況下，還可以做出各種變化和變型，因此所有等同的技術方案也屬于本專利技術的范疇，本專利技術的專利保護范圍應由權利要求限定。本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種清洗兆聲波換能器的裝置，其特征在于，該裝置包括清洗槽（1）、擋流板（6）和隔流板（8），所述清洗槽的兩側面對應設置有液體入口（2）和液體出口（3），所述擋流板設置在清洗槽內液體入口前，所述擋流板底部設置多個排流孔（7），所述隔流板設置在清洗槽內液體出口前，所述隔流板底部與清水槽底面（5）間存在間隙，所述隔流板上設置有用于排出清洗槽中過多液體的孔。
【技術特征摘要】
1.一種清洗兆聲波換能器的裝置，其特征在于，該裝置包括清洗槽(I)、擋流板(6)和隔流板(8)，所述清洗槽的兩側面對應設置有液體入口(2)和液體出口(3)，所述擋流板設置在清洗槽內液體入口前，所述擋流板底部設置多個排流孔(7)，所述隔流板設置在清洗槽內液體出口前，所述隔流板底部與清水槽底面(5)間存在間隙，所述隔流板上設置有用于排出清洗槽中過多液體的孔。2.權利要求1所述的清洗兆聲波換能器的裝置，其特征在于，所述清洗槽為四邊形槽式結構。3.權利要求1所述的清洗兆聲波換能器的裝置，其特征在于，所述清洗槽底面由液體入口側向液體出口側傾斜。4.權利要求1所述的清洗兆聲波換能器的裝置，其特征在于，所述液體出口大于或等于液體入口。5.權利要求1所述的清洗兆聲波換能器的裝...
【專利技術屬性】
技術研發人員：姬丹丹，王波雷，李偉，張享倩，王浩，
申請(專利權)人：北京七星華創電子股份有限公司，
類型：發明
國別省市：
還沒有人留言評論。發表了對其他瀏覽者有用的留言會獲得科技券。