降低光掩模板條紋的方法及裝置制造方法及圖紙

本發明專利技術適用于光掩模生產領域，尤其涉及降低光掩模板條紋的方法及裝置，所述方法包括下述步驟：通過光掩模檢測板測量像素圖形和掃描帶重疊部分的重疊圖形精度變化曲線；根據所述精度變化曲線在進行光刻之前對所述掃描帶重疊部分進行反補。本發明專利技術通過對產生光掩模板條紋的原因，在生產光掩模板進行光刻之前對所述掃描帶重疊部分圖形進行反補，使得光刻后反補的效果抵消了由于誤差導致的出現條紋的情況，使得降低光掩模板出現條紋的情況。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術屬于光光掩模生產領域，尤其涉及降低光掩模板條紋的方法及裝置。
技術介紹
平板顯示器顯示是基于每個像素對光的反射、透過、或發光實現的，這些像素點的反射、透過、或發光的強度如果在同等系統驅動條件下，如果反射、透過、或發光的強度不一致，對于同樣亮度與顔色的區域，會讓人的眼睛感覺到不同亮度或顔色的圖像。而引起這些不同的主要原因，是在顯示器設計時本來相同的像素圖形，由于在制造中的各個環節的誤差，導致最終產品上的部分像素的大小發生細微的變化。由于人眼對光具有極強的敏感性，導致最終人眼在顯示器上看到本來應該相同的顔色與亮度的區域出現明暗變化的區塊或線條。產生這一問題的主要原因之ー是用于復制平板顯示器線路的光掩模板出現條紋。條紋的產生主要有以下幾種情形光刻機掃描帶之間的重疊區與非重疊區的能量差別，弓丨起的在光掩模板上不同位置的像素圖形出現差別；多光束光刻機，不同的光刻機光束之間的能量差異，引起的光掩模板上不同位置的像素圖形出現差別；在同樣的光刻機能量作用下，由于涂膠不均，引起的光掩模板上不同位置的相素圖形出現差別。
技術實現思路
本專利技術實施例的目的在于提供降低光掩模板條紋的方法及裝置，g在解決由于光掩模板在制造過程中的誤差，導致的光掩模板上出現條紋的問題。本專利技術實施例是這樣實現的，降低光掩模板條紋的方法，所述方法包括下述步驟通過光掩模檢測板測量像素圖形和掃描帶重疊部分的重疊圖形精度變化曲線；根據所述精度變化曲線在進行光刻之前對所述掃描帶重疊部分進行反補。進ー步的，在通過光掩模檢測板測量像素圖形和掃描帶重疊部分的重疊圖形精度變化曲線步驟前還包括設計制作光掩模檢測板，所述光掩模檢測板以光掩模制作設備或平板顯示器曝光設備的最高設計能力設計最小線縫，最小線縫之間距離不等于光刻機掃描帶寬度，且最小線縫之間的距離與光刻機掃描帶寬度不成倍數關系。降低光掩模板條紋的方法，所述方法包括下述步驟按照光刻機設備的光斑大小，光束數量計算圖形由于光束能量差異造成的條紋的圖形收縮系數；根據所述收縮系數對圖形中的所有頂點進行收縮，得到收縮圖形；根據所述收縮圖形在將收縮圖形進行光刻前，在設備上使用相反系數進行反補。降低光掩模板條紋的方法，所述方法包括下述步驟設計制作光掩模檢測板；根據劃分間隔通過光掩模檢測板對光掩模板的涂膠或不同區域的光強度進行矩陣測量，測量每個矩陣點，得到每個矩陣點的偏差；將圖形按照劃分間隔進行分割，分割成小単元，按照分割后圖形每個頂點所在的坐標測量小單元矩陣中的四個點圍成的區域，根據小單元矩陣中的四個點求出此點的偏差，在進行光刻前對圖形進行反補。進ー步的，在根據劃分間隔通過光掩模檢測板對光掩模板的涂膠或不同區域的光強度進行矩陣測量，測量每個矩陣點，得到每個矩陣點的偏差步驟前還包括設計制作光掩模檢測板，所述光掩模檢測板以光掩模制作設備或平板顯示器曝光設備的最高設計能力設計最小線縫。本專利技術實施例的另一目的在于提供降低光掩模板條紋的裝置，所述裝置包括重疊檢測単元，用于通過光掩模檢測板測量像素圖形和掃描帶重疊部分的精度變化曲線；重疊區反補單元，用于根據所述精度變化曲線在進行光刻之前對所述掃描帶重疊部分進行反補。降低光掩模板條紋的裝置，所述裝置包括收縮系數測量單元，用于按照光刻機設備的光斑大小，光束數量計算圖形由于光束能量差異造成的條紋的圖形收縮系數；收縮圖形計算單元，用于根據所述收縮系數對圖形中的所有頂點進行收縮，得到收縮圖形；反補單元，用于根據所述收縮圖形在將收縮圖形進行光刻前，在設備上使用相反系數進行反補。降低光掩模板條紋的裝置，所述裝置包括光強或涂膠測量単元，用于根據劃分間隔通過光掩模檢測板對光掩模板的涂膠或不同區域的光強度進行矩陣測量，測量每個矩陣點，得到每個矩陣點的偏差；圖形分割反補單元，用于將圖形按照劃分間隔進行分割，分割成小単元，按照分割后圖形每個頂點所在的坐標測量小単元矩陣中的四個點圍成的區域，根據小單元矩陣中的四個點求出此點的偏差，在進行光刻前對圖形進行反補。本專利技術通過降低光掩模板條紋的方法及裝置，解決了由于生成光掩模板過程由于生產誤差的問題，使得光掩模板上出現條紋的問題，通過在對光掩模板進行光刻前光刻采用的圖形進行反補，使得光刻時使用的圖形是經過反補的，反補后的圖形能夠抵消了由于誤差導致的出現條紋的情況，使得降低光掩模板出現條紋的情況。附圖說明圖1是本專利技術第一實施例提供的降低光掩模板條紋的方法的實現流程圖；圖2是本專利技術第一實施例提供的掃描帶能量周期圖；圖3是本專利技術第一實施例提供的顯示器的像素圖形周期變化圖；圖4是本專利技術第一實施例提供的反補光掩模板設計方法圖；圖5是本專利技術第一實施例提供的反補光掩模測試版示意圖；圖6是本專利技術第二實施例提供的降低光掩模板條紋的方法的實現流程圖；圖7是本專利技術第三實施例提供的降低光掩模板條紋的方法的實現流程圖8是本專利技術第三實施例提供的測量得到的每個區域的偏差示意圖；圖9是本專利技術第三實施例提供的計算補償點的示意圖；圖10是本專利技術第四實施例提供的降低光掩模板條紋裝置的結構圖；圖11是本專利技術第四實施例提供的降低光掩模板條紋裝置的結構圖；圖12是本專利技術第四實施例提供的降低光掩模板條紋裝置的結構圖。具體實施例方式為了使本專利技術的目的、技術方案及優點更加清楚明白，以下結合附圖及實施例，對本專利技術進行進ー步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本專利技術，并不用于限定本專利技術。以下結合具體實施例對本專利技術的具體實現進行詳細描述實施例一:圖1示出了本專利技術第一實施例提供的降低光掩模板條紋的方法的實現流程，詳述如下SlOl中，通過光掩模檢測板測量像素圖形和掃描帶重疊部分的重疊圖形精度變化曲線。由于光刻機設備掃描帶與像素圖形都是呈現周期性的變化的，其中當兩個掃描帶的重疊區與像素圖形的邊沿部分重疊時就會在生產中出現光掩模板的條紋，具體的光刻機設備掃描帶的寬度最大值是固定的，在掃描帶的垂直方向，曝光到整個光掩模板上的能量也是成周期變化的，具體的光刻機設備曝光能量周期如圖2所示，即與掃描帶重疊區呈周期變化。對于顯示器的像素圖形，同樣在X方向及Y方向都也存在周期性的變化，如圖3所示。當兩者掃描帶的重疊區與像素圖形邊沿重疊時就會出現光掩模板條紋。由于光刻機設備光束能量周期與顯示器的像素圖形周期都是不同的，由于掃描帶重疊區的存在，而引起曝光能量變化，導致同一像素圖形出現在重疊區與非重疊區的時，最終的圖形尺寸出現偏差，從而產生條紋，現有技術方案通過改變光刻機的掃描帶的寬度與像素達到一定的倍數關系，以減少條紋產生，，由于掃描帶被變窄導致進行光刻時效率較低。本專利技術通過光掩模檢測板測量得到像素圖形和掃描帶重疊部分的重疊圖形精度變化曲線。S102中，根據所述精度變化曲線在進行光刻前對所述掃描帶重疊部分進行反補。將圖形按照光刻機設備的掃描帶最大寬度，沿掃描帶方向分割成條狀，對每個掃描帶按照圖形周期進行反補，反補的具體方法按圖形像素的大小，將分割出的掃描帶寬度按照圖形邊沿對照能量曲線的位置，然后按照能量曲線的變化，將線段的頂點向圖形內或圖形外移動，即如果圖形顯示是缺少，則對缺少的部分進行圖形平移，缺少多少，則反補多少，使得在原有圖形上缺少的部分和反補上去的圖形點完全相同，只有坐標方向相反，同樣對于多出的部分則按照同樣的本文檔來自技高網...

【技術保護點】
降低光掩模板條紋的方法，其特征在于，所述方法包括下述步驟：通過光掩模檢測板測量像素圖形和掃描帶重疊部分的重疊圖形精度變化曲線；根據所述精度變化曲線在進行光刻之前對所述掃描帶重疊部分進行反補。

【技術特征摘要】
1.降低光掩模板條紋的方法，其特征在于，所述方法包括下述步驟 通過光掩模檢測板測量像素圖形和掃描帶重疊部分的重疊圖形精度變化曲線； 根據所述精度變化曲線在進行光刻之前對所述掃描帶重疊部分進行反補。2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法在通過光掩模檢測板測量像素圖形和掃描帶重疊部分的重疊圖形精度變化曲線步驟前還包括 設計制作光掩模檢測板，所述光掩模檢測板以光掩模制作設備或平板顯示器曝光設備的最高設計能力設計最小線縫，最小線縫之間距離不等于光刻機掃描帶寬度，且最小線縫之間的距離與光刻機掃描帶寬度不成倍數關系。3.降低光掩模板條紋的方法，其特征在于，所述方法包括下述步驟 按照光刻機設備的光斑大小，光束數量計算圖形由于光束能量差異造成的條紋的圖形收縮系數； 根據所述收縮系數對圖形中的所有頂點進行收縮，得到收縮圖形； 根據所述收縮圖形在將收縮圖形進行光刻前，在設備上使用相反系數進行反補。4.降低光掩模板條紋的方法，其特征在于，所述方法包括下述步驟 設計制作光掩模檢測板； 根據劃分間隔通過光掩模檢測板對光掩模板的涂膠或不同區域的光強度進行矩陣測量，測量每個矩陣點，得到每個矩陣點的偏差； 將圖形按照矩陣點劃分間隔進行分割，分割成小單元，按照分割后圖形每個頂點所在的坐標測量小單元矩陣中的四個點圍成的區域，根據小單元矩陣中的四個點求出此點的偏差，在進行光刻前對圖形進行反補。5.如權利要求4所述的...

【專利技術屬性】
技術研發人員：鄧振玉，張沛，李躍松，
申請(專利權)人：深圳清溢光電股份有限公司，
類型：發明
國別省市：