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    殼體及其制備方法技術(shù)

    技術(shù)編號:8686529 閱讀:127 留言:0更新日期:2013-05-09 05:50
    一種殼體,其包括基材,其特征在于:該殼體還包括形成于基材表面的基底陶瓷層、形成于基底陶瓷層表面的透明陶瓷層;基底陶瓷層與透明陶瓷層之間還設(shè)置有圖案層,且該圖案層嵌入于基底陶瓷層中,該圖案層由陶瓷組成。所述殼體表面呈現(xiàn)具有陶瓷質(zhì)感的圖案,提高了殼體的外觀競爭力。此外,本發(fā)明專利技術(shù)還提供一種所述殼體的制備方法。

    【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

    本專利技術(shù)涉及一種。
    技術(shù)介紹
    為了使電子裝置的金屬外殼具有吸引力的外觀,目前主要通過鐳射雕刻、化學(xué)蝕刻等方法在金屬殼體上形成圖案。然而,該種方法制作的圖案,視覺效果不強(qiáng),且不能呈現(xiàn)出獨特的質(zhì)感,難以吸引消費者的眼球。
    技術(shù)實現(xiàn)思路
    有鑒于此,有必要提供一種有效解決上述問題的殼體。另外,還有必要提供一種上述殼體的制備方法。—種殼體,其包括基材,該殼體還包括形成于基材表面的基底陶瓷層、形成于基底陶瓷層表面的透明陶瓷層;基底陶瓷層與透明陶瓷層之間還設(shè)置有圖案層,且該圖案層嵌入于基底陶瓷層中,該圖案層由陶瓷組成。一種殼體的制備方法,其包括如下步驟: 提供基材; 采用靜電噴涂及高溫?zé)Y(jié)工藝在基材的表面形成基底陶瓷層; 在基底陶瓷層表面形成圖案層,將陶瓷花紙的花膜均勻貼在基底陶瓷層的表面并進(jìn)行高溫?zé)Y(jié)處理; 采用靜電噴涂及高溫?zé)Y(jié)工藝在基材的表面形成透明陶瓷層。本專利技術(shù)所述殼體通過在金屬材質(zhì)的基材上依次形成基底陶瓷層、圖案層及透明陶瓷層,能使所述殼體表面呈現(xiàn)具有陶瓷質(zhì)感的圖案,提高了殼體的外觀競爭力;且形成于基材表面的各膜層具有良好的化學(xué)穩(wěn)定性,耐磨性,可有效提高殼體的使用壽命。附圖說明圖1為本專利技術(shù)一較佳實施例的殼體的剖視圖。主要元件符號說明

    【技術(shù)保護(hù)點】
    一種殼體,其包括基材,其特征在于:該殼體還包括形成于基材表面的基底陶瓷層、形成于基底陶瓷層表面的透明陶瓷層;基底陶瓷層與透明陶瓷層之間還設(shè)置有圖案層,且該圖案層嵌入于基底陶瓷層中,該圖案層由陶瓷組成。

    【技術(shù)特征摘要】
    1.一種殼體,其包括基材,其特征在于:該殼體還包括形成于基材表面的基底陶瓷層、形成于基底陶瓷層表面的透明陶瓷層;基底陶瓷層與透明陶瓷層之間還設(shè)置有圖案層,且該圖案層嵌入于基底陶瓷層中,該圖案層由陶瓷組成。2.按權(quán)利要求1所述的殼體,其特征在于:該基材的材質(zhì)為不銹鋼或鈦合金。3.按權(quán)利要求1所述的殼體,其特征在于:該基底陶瓷層由氧化物陶瓷組成,該基底陶瓷層包括質(zhì)量百分含量分別為60-70%的氧化硅、15-20%的氧化鋁、5-10%的色素原料、5_6%的氧化鉀、4-6%的氧化鈉、0.4-0.6%的氧化鎂、0.2-0.4%的氧化鐵、0.2-0.4%的氧化I丐;其中,該色素原料為氧化鈦、三氧化鐵、四氧化三鐵或氧化鈷中的一種。4.按權(quán)利要求1所述的殼體,其特征在于:該圖案層由氧化物陶瓷組成,該圖案層包括質(zhì)量百分含量分別為60-70%的氧化硅、15-20%的氧化鋁、5-10%的色素原料、5_6%的氧化鉀、4-6%的氧化鈉、0.4-0.6%的氧化鎂、0.2-0.4%的氧化鐵、0.2-0.4%的氧化I丐;其中,該色素原料為氧化鈦、三氧化鐵、四氧化三鐵或氧化鈷中的一種。5.按權(quán)利要求1所述的殼體,其特征在于:該透明陶瓷層由氧化物陶瓷組成,該透明陶瓷層包括質(zhì)量百分含量分別為75-85%的氧化硅、5-12%的氧化鋁、5-8%的氧化鉀、4_6%的氧化鈉、0.4-0.6%的氧化鎂、0.2-0.4%的三氧化鐵、0.2-0.4%的氧化鈣。6.按權(quán)利要求1所述的殼體,其特征在于:該基底陶瓷層的厚度為0.15-0.18mm。7.按權(quán)利要求1所述的殼體,其特征在于:該透明陶瓷層的厚度為0.0...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:朱永剛
    申請(專利權(quán))人:深圳富泰宏精密工業(yè)有限公司
    類型:發(fā)明
    國別省市:

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