微波爐腔和微波爐制造技術(shù)

本申請?zhí)貏e針對微波爐腔（1）。為了獲得均勻加熱和優(yōu)異的加熱效率，至少一個內(nèi)部壁（4）包括適合于反射從微波源（5）耦合到腔（1）中的微波的至少一個菲涅爾反射元件（7）。

【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
【國外來華專利技術(shù)】微波爐腔和微波爐 本申請針對微波爐腔和包括這樣的腔的微波爐。微波爐腔通常適于在通過將電磁波(即微波)耦合到微波腔中產(chǎn)生的微波電場中加熱特定的負(fù)載。在腔內(nèi)建立的電磁駐波使得難以產(chǎn)生或保持恒定且均勻的電場。這反過來導(dǎo)致腔內(nèi)的電場線的強(qiáng)度中的峰峰值的變化，特別地這阻止了目標(biāo)負(fù)載的均勻加熱。在單位體積的待加熱的負(fù)載中吸收的微波功率的值是幾個參數(shù)以及發(fā)生器的頻率、介電常數(shù)、復(fù)阻抗負(fù)載的介電損失或負(fù)載內(nèi)部電場的強(qiáng)度的函數(shù)。最后一項是最重要的并且決定著負(fù)載內(nèi)的溫度的變化。通常，為確保均勻的加熱或防止過熱區(qū)域，已知的微波輻射器提供了以下方法中的至少一個:-在微波饋送輸入端的攪拌器，其將改變電磁場的入射角，從而改變微波駐波的位置；或-通過使用旋轉(zhuǎn)板或線性輸送器(conveyor)移動加熱區(qū)域上的負(fù)載位置；迄今為止所提到的方法是比較精細(xì)的和/或昂貴的。因此，仍然有改善均勻加熱和加熱效率的需要。因此，本專利技術(shù)的目的是克服已知的缺點。特別地，應(yīng)提供一種具有改進(jìn)的均勻加熱和優(yōu)異的加熱效率的微波爐腔。此外，應(yīng)提供一種微波爐。這個目的由獨立權(quán)利要求實現(xiàn)。其實施方案由從屬權(quán)利要求產(chǎn)生。根據(jù)權(quán)利要求1，一種微波爐腔被提供，其中，至少一個內(nèi)壁包括至少一個菲涅爾反射元件。這樣的菲涅爾反射元件適合于以預(yù)定的方式反射從微波源耦合到腔中的微波。菲涅爾反射元件可包括可與光學(xué)中的菲涅爾透鏡相比較的幾個菲涅爾區(qū)。腔內(nèi)的微波的反射由至少一個菲涅爾反射元件修改，使得例如可以是食品原料的負(fù)載中的熱點和/或冷點可被防止。因此，可以獲得均勻加熱和優(yōu)異的加熱效率。本專利技術(shù)特別基于以下發(fā)現(xiàn):用于獲得均勻加熱的一個相關(guān)因素是確保微波腔內(nèi)的微波的正確的路徑。微波的正確的或適當(dāng)?shù)穆窂接绕淙Q于腔的內(nèi)部幾何形狀、微波源的波長或波長范圍以及腔內(nèi)的電磁場的傳播模式。另外，可以是微波饋送器的微波源的位置，即微波被耦合到空腔內(nèi)的方位，對加熱的均勻性和加熱效率起著重要的作用。因此，為了提高加熱的均勻性和減小駐波效應(yīng)，本專利技術(shù)提出使用設(shè)有微波爐腔的內(nèi)壁的菲涅爾反射元件。微波爐腔的內(nèi)壁，其包括一個或幾個菲涅爾反射元件，特別是內(nèi)壁幾乎完全用菲涅爾反射元件覆蓋或設(shè)有菲涅爾反射元件，可被指定為菲涅爾反射壁。菲涅爾反射元件可被認(rèn)為代表在光學(xué)中是已知的逆菲涅爾透鏡。菲涅爾反射元件可以包括至少一個小平面(facet)，該小平面優(yōu)選為線性類型。術(shù)語線性類型應(yīng)意味著該小平面平行延伸，并沿內(nèi)壁，優(yōu)選腔的側(cè)壁的橫向或縱向方向延伸。這樣的線性小平面可被認(rèn)為實現(xiàn)了具有某一幾何形狀和反射率的反射平行條。小平面可以隨內(nèi)壁在其橫截線方向或縱向的方向上設(shè)置。術(shù)語線性類型應(yīng)特別指出，小平面在其維度的至少一個上是線性的。如果菲涅爾反射元件包括并排布置的幾個小平面，并且該小平面的幾何形狀相應(yīng)地適合，則獲得線性菲涅爾反射器。這樣的線性菲涅爾反射器可將微波反射到腔的平行柱狀體元件中，但也可將照射在菲涅爾反射器上的微波聚焦到腔內(nèi)的給定區(qū)域，該給定區(qū)域優(yōu)選為負(fù)載被放置或位于的區(qū)域。菲涅爾反射元件或菲涅爾反射壁的使用將導(dǎo)致增強(qiáng)的均勻加熱和優(yōu)異的加熱效率。例如，微波爐的傳統(tǒng)的微波腔的三個垂直壁可以是菲涅爾反射壁。提供這樣的菲涅爾反射元件時，特別可能解決反射波的電磁密度問題，特別是在比較大量的微波功率被負(fù)載吸收的情況下。每個菲涅爾反射壁在腔內(nèi)可具有不同的目標(biāo)區(qū)域，并且可以覆蓋微波爐腔內(nèi)的有效區(qū)域，該有效區(qū)域不僅相對于表面，而且相對于負(fù)載的體積。至少一個菲涅爾反射元件的孔徑可以是至少部分的圓形、橢圓形、雙曲線或拋物線形狀。組成菲涅爾反射器的菲涅爾反射元件的孔徑的形狀尤其可以根據(jù)微波腔的形狀和尺寸以及其它相關(guān)參數(shù)來選擇。例如，圓形形狀可以與微波腔的方形的有效區(qū)域一起使用，而且橢圓形形狀可以與矩形有效區(qū)·域一起使用。在優(yōu)選的實施方案中，腔的至少一個側(cè)壁，優(yōu)選三個側(cè)壁，包括具有線性類型的小平面的至少一個菲涅爾反射元件。優(yōu)選的是，這樣的線性菲涅爾反射器的小平面在從腔的底壁到頂壁的方向上延伸。但是，應(yīng)提及的是，小平面的位置和定向可取決于微波源或微波饋送器相對于腔的位置，從底部延伸到頂部或相反地延伸的小平面可特別用于布置在腔的頂壁或上壁中或腔的頂壁或上壁處的微波源或饋送器。在腔的相對壁之間如底壁和頂壁之間或在相對的側(cè)壁之間延伸的菲涅爾反射元件，可延續(xù)覆蓋相應(yīng)的壁例如其橫向或縱向維度之間的幾乎全部距離。在這種情況下，可獲得優(yōu)異的加熱特性。然而，也可能的是，其至少一個菲涅爾反射元件或小平面僅延續(xù)覆蓋相應(yīng)的壁尺寸的部分。在菲涅爾反射元件在腔的底壁和頂壁之間延續(xù)的情況下，小平面的相應(yīng)的菲涅爾反射元件的縱向尺寸優(yōu)選與底壁和頂壁之間的距離大約相等。此處，可將微波能量的最大值施加到負(fù)載。在一個實施方案中，至少一個菲涅爾反射元件適于反射至少一個給定的波長范圍的微波，并且其中，與其縱向方向成直角的至少一個菲涅爾反射元件(優(yōu)選每個小平面)的寬度大于所述波長范圍的中心波長的一半。特別地，術(shù)語“波長范圍”應(yīng)解釋如下事實:甚至“單色”的微波源通常發(fā)出微波波長的光譜。如果使用原則上僅生成一個單一波長的微波源，則該單一波長將與所述中心波長相對應(yīng)。這種情況適用于使用給定頻率例如2.45GHz和其它頻率的磁控管的大多數(shù)微波爐。在使用2.45GHz的微波源的情況下,所述寬度優(yōu)選在從65mm至85mm的范圍內(nèi)。在另外的優(yōu)選實施方案中，與其縱向方向和與內(nèi)壁都成直角的菲涅爾反射元件的深度，優(yōu)選為每個小平面的深度，不超過波長范圍的中心波長的四分之一。在微波源為2.45GHz類型的微波源的情況下，所述深度優(yōu)選在從5mm到30mm的范圍內(nèi)。在特定的實施方案中，至少一個微波源和至少一個菲涅爾反射元件被定位和對準(zhǔn)，使得(i) a =1/2(90° -β ),(ii) ^ =90° -2 a 以及(iii) y=2a ,其中-a是菲涅爾反射元件，特別是小平面相對于相應(yīng)的內(nèi)壁的橫向維度的傾斜角，是微波饋送角，以及-Y是與相應(yīng)的菲涅爾反射元件或小平面的表面法線相對的鏡像角(mirrorangle)。根據(jù)微波的傳播角度，給定的布置導(dǎo)致照射在菲涅爾反射元件上的微波或被反射在平行柱狀體的區(qū)域內(nèi)或被聚焦到給定的有效區(qū)域中。特別是2.45GHz的微波源，有利的是，如果傾斜角a位于從3度至30度的范圍內(nèi)，則微波饋送角0位于從30度到84度的范圍內(nèi)，并且鏡像角Y位于從6度到60度的范圍內(nèi)。在另外的優(yōu)選實施方案中，至少一個菲涅爾反射元件通過微波透明蓋遮蔽污垢。所述蓋特別地可以由玻璃、陶瓷和塑料中的至少一種制成。菲涅爾反射元件可被附接到所述蓋，這意味著所述蓋用作蓋的基板或載體，或所述蓋可被放置在腔的相應(yīng)的壁的前面，即菲涅爾反射元件的前面。為了獲得加熱的最大均勻性和有效性，如果腔的至少三個側(cè)壁設(shè)有菲涅爾反射元件是特別有利的。在實施方案中， 至少一個菲涅爾反射元件被布置和設(shè)計成使得由微波源發(fā)射的和照射在菲涅爾反射元件上的微波被反射到相應(yīng)的平行條或柱狀體積，并且基本上與內(nèi)壁(inter wall)或多個內(nèi)壁(inter walls)成直角照射的微波被聚焦到腔體的給定區(qū)域或給定體積，特別是有效區(qū)域。在這里，特別地，可以獲得有效和均勻的加熱。根據(jù)獨立權(quán)利要求15，提供了包括如預(yù)先所描述的任何實施方案的微波爐腔的微波爐。關(guān)于微本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點】

【技術(shù)特征摘要】
【國外來華專利技術(shù)】2010.10.21 EP 10013871.81.微波爐腔(1)，其中至少一個內(nèi)壁(4)包括適合于反射從微波源(5)耦合到所述腔(I)中的微波的至少一個菲涅爾反射元件(7)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微波爐腔(1)，其中每個菲涅爾反射元件(7)包括至少一個小平面(8)，所述至少一個小平面(8)優(yōu)選為線性類型的，優(yōu)選沿所述腔(I)的側(cè)壁(4)的橫向方向或縱向方向延伸。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的微波爐腔(1)，其中所述至少一個菲涅爾反射元件(7)的孔徑是圓形、橢圓形、雙曲線或拋物線形狀的。4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中至少一項所述的微波爐腔(I)，其中至少一個側(cè)壁(4)包括具有從所述腔(I)的底壁(2)到頂壁(2)的方向上延續(xù)的線性類型的小平面(8)的至少一個菲涅爾反射元件(7)。5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中至少一項所述的微波爐腔(I)，其中在所述腔(I)的相對壁之間延伸的菲涅爾反射元件(7)延續(xù)幾乎覆蓋相應(yīng)的壁(2、3、4)之間的整個距離。6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中至少一項所述的微波爐腔(1)，其中所述至少一個菲涅爾反射元件(7)適合于反射至少給定波長范圍的微波，并且其中與其縱向方向成直角的所述至少一個菲涅爾反射元件(7)的寬度(wf)，優(yōu)選每個小平面(8)的寬度(Wf)大于所述波長范圍的中心波長的一半。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的微波爐腔(1)，其中所述寬度(Wf)在從65mm至85mm的范圍內(nèi)。8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中至少一項所述的微波爐腔(1)，其中所述至少一個菲涅爾反射元件(7)適合于反射給定波長范圍的微波，并且其中與其縱向方向和所述內(nèi)壁(4)都成直角的所述至...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：特卡丘克·索林，
申請(專利權(quán))人：伊萊克斯家用產(chǎn)品股份有限公司，
類型：
國別省市：