壓力控制閥和渦旋壓縮機制造技術

本公開涉及一種壓力控制閥（100，200），包括：閥座（140，160），其中形成有閥孔（142，262）；第一閥片構件（110，210），其遮蔽所述閥孔并且其上形成有流體通道（118，218）；以及第二閥片構件（120，220），其設置在閥座和第一閥片構件之間并且遮蔽所述流體通道，其中假定從第二閥片構件指向第一閥片構件的方向為第一方向，當第一閥片構件和第二閥片構件兩側的壓力差指向第一方向并且大于或等于第一預定值時，第一閥片構件被打開；當所述壓力差指向與第一方向相反的第二方向并且大于或等于第二預定值時，第二閥片構件被打開。本公開還涉及一種包括壓力控制閥或節流閥的渦旋壓縮機。（*該技術在2022年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

本技術涉及一種壓力控制閥和一種渦旋壓縮機。
技術介紹
本部分的內容僅提供了與本公開相關的背景信息，其可能并不構成現有技術。通常的單向閥包括形成有閥孔的閥座和打開或關閉閥孔的閥片。當閥片兩側的壓力差大于預定值并且指向打開閥片的第一方向時，閥片打開以允許流體流過單向閥。當閥片兩側的壓力差指向與第一方向的相反的第二方向時，不管閥片兩側的壓力差的數值如何，閥片都不會打開從而阻止流體沿相反的方向流動。這種單向閥為流體提供了單向流動的能力。然而，在某些情況下，不但需要單向閥能夠在沿第一方向的壓力差達到第一預定值時能夠打開，而且需要單向閥能夠在沿第二方向的壓力差達到第二預定值時能夠打開以實現例如壓力釋放。本領域技術人員通常采用電磁閥和布置在電磁閥上下游的壓力傳感器來實現上述功能。這種布置相對復雜并且昂貴。因此，需要一種能夠根據閥兩側的壓力差為流體提供雙向流動功能的閥構造。
技術實現思路
本技術的一個或多個實施方式的一個目的是提供一種能夠根據閥兩側的壓力差為流體提供雙向流動功能的壓力控制閥。本技術的一個或多個實施方式的另一個目的是提供一種結構簡單且成本較低的壓力控制閥。本技術的一個或多個實施方式的又一個目的是提供一種運行性能得以優化的渦旋壓縮機。為了實現上述目的中的一個或多個，根據本技術的一個方面，提供了一種壓力控制閥，所述壓力控制閥可以包括:閥座，所述閥座中形成有閥孔；第一閥片構件，所述第一閥片構件遮蔽所述閥孔并且其上形成有流體通道；以及第二閥片構件，所述第二閥片構件設置在所述閥座和所述第一閥片構件之間并且遮蔽所述流體通道，其中假定從所述第二閥片構件指向所述第一閥片構件的方向為第一方向，當所述第一閥片構件和所述第二閥片構件兩側的壓力差指向所述第一方向并且大于或等于第一預定值時，所述第一閥片構件被打開以允許流體流過所述壓力控制閥；當所述第一閥片構件和所述第二閥片構件兩側的壓力差指向與所述第一方向相反的第二方向并且大于或等于第二預定值時，所述第二閥片構件被打開以允許流體流過所述壓力控制閥。在一些方面中，所述第一閥片構件可以包括:相對于所述閥座固定的第一基部；從所述第一基部延伸出的彈性的第一頸部；以及與所述第一頸部相連的頭部，其中所述頭部可以遮蔽所述閥孔，并且所述流體通道可以由形成在所述頭部中的至少一個通孔構成。在一些方面中，所述第二閥片構件可以包括:相對于所述閥座固定的第二基部；從所述第二基部延伸出的彈性的第二頸部；以及與所述第二頸部相連的舌部，所述舌部可以遮蔽所述第一閥片構件的所述流體通道并且能夠沿所述第二方向運動。在一些方面中，所述舌部的面積可以小于所述頭部的面積。在一些方面中，所述第二閥片構件可以進一步包括與所述第二頸部相連并且環繞所述舌部的周邊部，所述周邊部在所述閥孔的周圍抵靠所述閥座，并且所述第一閥片構件的所述頭部可以經由所述周邊部遮蔽所述閥孔。在一些方面中，所述第一預定值可以通過設定所述第一閥片構件的彈性和壓力接收面積中的至少一項來設定，所述第二預定值可以通過設定所述第二閥片構件的彈性和所述流體通道的面積中的至少一項來設定。在一些方面中，所述第一閥片構件的所述壓力接收面積可以由所述第二閥片構件的所述周邊部和所述舌部之間的面積限定。在一些方面中，所述第一閥片構件的彈性主要由所述第一頸部來提供，并且所述第二閥片構件的彈性主要由所述第二頸部來提供。在一些方面中，所述壓力控制閥可以進一步包括限制所述第一閥片構件沿所述第一方向的位移的閥擋構件。在一些方面中，所述閥擋構件、所述第一閥片構件、所述第二閥片構件可以通過緊固件固定到所述閥座上。在一些方面中，所述第二閥片構件和所述第一閥片構件可以形成為一體。在一些方面中，所述壓力控制閥可以進一步包括為第一閥片構件提供沿所述第二方向的偏置力的第一彈性構件和為第二閥片構件提供沿所述第一方向的偏置力的第二彈性構件。在一些方面中，所述第一閥片構件可以包括能夠相對于所述閥座運動并且遮蔽所述閥孔的本體部，并且其中所述流體通道可以由形成在所述本體部上的至少一個通孔形成。在一些方面中，所述壓力控制閥可以進一步包括將所述第一閥片構件和所述第二閥片構件保持在所述閥座中的保持環。在一些方面中，所述第一彈性構件可以設置在所述第一閥片構件和所述保持環之間。在一些方面中，第一閥片構件可以進一步包括沿所述第二方向從所述本體部延伸的延伸部以及從所述延伸部突出的突出部。在一些方面中，所述第二閥片構件上形成有供所述第一閥片構件的所述延伸部穿過的通孔。在一些方面中，所述第二彈性構件可以設置在所述第二閥片構件和所述突出部之間。在一些方面中，所述第二彈性構件可以設置在所述第二閥片構件和所述閥座之間。在一些方面中，所述第二閥片構件可以與所述第一閥片構件形成為一體。進一步地，所述第二閥片構件可以包括:與所述第一閥片構件連接在一起的基部；從所述基部延伸出的彈性的頸部，以及與所述頸部相連的至少一個舌部，所述至少一個舌部遮蔽所述第一閥片構件的所述至少一個通孔。在一些方面中，所述頸部可以用作所述第二彈性構件。在一些方面中，所述第一彈性構件可以為螺旋彈簧，所述第二彈性構件可以為彈性支架。在一些方面中，所述第一預定值可以通過設定所述第一彈性構件的彈性和所述第一閥片構件的壓力接收面積中的至少一項來設定，所述第二預定值可以通過設定所述第二彈性構件的彈性和所述流體通道的面積中的至少一項來設定。在一些方面中，所述第一閥片構件的壓力接收面積可以由所述第一閥片構件與所述閥孔的重疊面積來限定。在一些方面中，所述第二預定值可以設定成大于或等于所述第一預定值。在一些方面中，所述第二預定值可以設定成小于所述第一預定值。根據本技術的另一個方面，提供了一種包括上述壓力控制閥的渦旋壓縮機。更具體地，所述渦旋壓縮機可以包括:動渦旋部件，所述動渦旋部件可以包括第一端板和形成在所述第一端板上的動渦旋葉片；定渦旋部件，所述定渦旋部件可以包括第二端板和形成在所述第二端板上的定渦旋葉片，所述定渦旋葉片與所述動渦旋葉片可以彼此接合以在其間形成一系列壓縮腔，所述第二端板的與形成有所述定渦旋葉片的一側相反的一側可以形成有凹部；以及設置在所述凹部中的密封組件，所述凹部和所述密封組件之間的空間可以形成背壓腔，所述背壓腔可以經由連通通道與其中一個所述壓縮腔流體連通；其中所述壓力控制閥設置在所述連通通道中。在一些方面中，定渦旋部件的所述連通通道周圍的部分可以用作所述壓力控制閥的閥座，所述連通通道可以用作所述壓力控制閥的閥孔。在一些方面中，所述壓力控制閥的閥座可以配合在所述連通通道中。根據本技術的又一個方面，提供了一種渦旋壓縮機，包括:動渦旋部件，所述動渦旋部件包括第一端板和形成在所述第一端板上的動渦旋葉片；定渦旋部件，所述定渦旋部件包括第二端板和形成在所述第二端板上的定渦旋葉片，所述定渦旋葉片與所述動渦旋葉片彼此接合以在其間形成一系列壓縮腔，所述第二端板的與形成有所述定渦旋葉片的一側相反的一側形成有凹部，以及設置在所述凹部中的密封組件，所述凹部和所述密封組件之間的空間形成背壓腔，所述背壓腔經由連通通道與其中一個所述壓縮腔流體連通，其中在所述連通通道中設置有防止或減弱流體從所述背壓腔向所述壓縮腔的回流的節流閥。在一些方面中，所述節流閥可以為允本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種壓力控制閥（100，200），包括：閥座（140，260），所述閥座中形成有閥孔（142，262）；第一閥片構件（110，210），所述第一閥片構件遮蔽所述閥孔并且其上形成有流體通道（118，218）；以及第二閥片構件（120，220），所述第二閥片構件設置在所述閥座（140，260）和所述第一閥片構件（110，210）之間并且遮蔽所述流體通道，其特征在于，假定從所述第二閥片構件（120，220）指向所述第一閥片構件（110，210）的方向為第一方向，當所述第一閥片構件（110，210）和所述第二閥片構件（120，220）兩側的壓力差指向所述第一方向并且大于或等于第一預定值時，所述第一閥片構件（110，210）被打開以允許流體流過所述壓力控制閥；當所述第一閥片構件（110，210）和所述第二閥片構件（120，220）兩側的壓力差指向與所述第一方向相反的第二方向并且大于或等于第二預定值時，所述第二閥片構件（120，220）被打開以允許流體流過所述壓力控制閥。

【技術特征摘要】
2012.07.10 CN 201220331234.0;2012.07.10 CN 2012101.一種壓力控制閥(100，200)，包括: 閥座(140，260)，所述閥座中形成有閥孔(142，262)； 第一閥片構件(110，210)，所述第一閥片構件遮蔽所述閥孔并且其上形成有流體通道(118,218);以及 第二閥片構件(120，220)，所述第二閥片構件設置在所述閥座(140，260)和所述第一閥片構件(110，210)之間并且遮蔽所述流體通道， 其特征在于，假定從所述第二閥片構件(120，220)指向所述第一閥片構件(110，210)的方向為第一方向，當所述第一閥片構件(110，210)和所述第二閥片構件(120，220)兩側的壓力差指向所述第一方向并且大于或等于第一預定值時，所述第一閥片構件(110，210)被打開以允許流體流過所述壓力控制閥；當所述第一閥片構件(110，210)和所述第二閥片構件(120，220)兩側的壓力差指向與所述第一方向相反的第二方向并且大于或等于第二預定值時，所述第二閥片構件(120，220)被打開以允許流體流過所述壓力控制閥。2.按權利要求1所述的壓力控制閥，其中所述第一閥片構件(110)包括: 相對于所述閥座固定的第一基部(112)； 從所述第一基部(112)延伸出的彈性的第一頸部(114);以及 與所述第一頸部(114)相連的頭部(116)， 其中所述頭部(116)遮蔽所述閥孔，并且所述流體通道(118)由形成在所述頭部(116)中的至少一個通孔構成。`3.按權利要求2所述的壓力控制閥，其中所述第二閥片構件(120)包括: 相對于所述閥座固定的第二基部(122)； 從所述第二基部(122)延伸出的彈性的第二頸部(124);以及 與所述第二頸部(124)相連的舌部(126)，所述舌部(126)遮蔽所述第一閥片構件(110)的所述流體通道(118)并且能夠沿所述第二方向運動。4.按權利要求3所述的壓力控制閥，其中所述舌部(126)的面積小于所述頭部(116)的面積。5.按權利要求4所述的壓力控制閥，其中所述第二閥片構件(120)進一步包括與所述第二頸部(124)相連并且環繞所述舌部(126)的周邊部(128)，所述周邊部(128)在所述閥孔(142)的周圍抵靠所述閥座(140)，并且 所述第一閥片構件(110)的所述頭部(116)經由所述周邊部(128)遮蔽所述閥孔(142)。6.按權利要求5中所述的壓力控制閥，其中所述第一預定值通過設定所述第一閥片構件(110)的彈性和壓力接收面積中的至少一項來設定，所述第二預定值通過設定所述第二閥片構件(120)的彈性和所述流體通道(118)的面積中的至少一項來設定。7.按權利要求6所述的壓力控制閥，其中所述第一閥片構件(110)的所述壓力接收面積由所述第二閥片構件(120)的所述周邊部(128)和所述舌部(126)之間的面積限定。8.按權利要求6所述的壓力控制閥，其中所述第一閥片構件(110)的彈性主要由所述第一頸部(114)來提供，并且所述第二閥片構件(120)的彈性主要由所述第二頸部(124)來提供。9.按權利要求1-8中任一項所述的壓力控制閥，進一步包括限制所述第一閥片構件(110)沿所述第一方向的位移的閥擋構件(130)。10.按權利要求9所述的壓力控制閥，其中所述閥擋構件(130)、所述第一閥片構件(110)、所述第二閥片構件(120)通過緊固件(150)固定到所述閥座(140)上。11.按權利要求1-4中任一項所述的壓力控制閥，其中所述第二閥片構件(120A)和所述第一閥片構件(110)形成為一體。12.按權利要求1所述的壓力控制閥，進一步包括為第一閥片構件(210)提供沿所述第二方向的偏置力的第一彈性構件(230)和為第二閥片構件(220)提供沿所述第一方向的偏置力的第二彈性構件(240 )。13.按權利要求12所述的壓力控制閥，其中所述第一閥片構件(210)包括能夠相對于所述閥座運動并且遮蔽所述閥孔(262)的本體部(212)，并且 其中所述流體通道(218)由形成在所述本體部(212)上的至少一個通孔形成。14.按權利要求13所述的壓力控制閥，進一步包括將所述第一閥片構件(210)和所述第二閥片構件(220)保持在所述閥座(26...

【專利技術屬性】
技術研發人員：孫慶豐，
申請(專利權)人：艾默生環境優化技術蘇州有限公司，
類型：實用新型
國別省市：