一種低壓等離子噴涂技術制備Y2O3陶瓷涂層的方法技術

本發明專利技術涉及Y2O3陶瓷涂層制造技術領域，具體涉及一種低壓等離子噴涂技術制備Y2O3陶瓷涂層的方法。所述制備黑色Y2O3陶瓷涂層的方法，包括如下步驟：步驟(1)，選擇純度大于99.95％的Y2O3粉末；步驟(2)，對待噴涂的基材表面進行預處理；步驟(3)，在所述等離子噴涂開始時先將所述真空等離子噴涂設備的真空噴涂室抽真空至1-10Pa，再充入惰性氣體Ar，此時使所述真空噴涂室內壓力達1.3×103Pa；繼續充入H2，使其壓力達到103～104Pa后進行噴涂作業；制備出Y2O3涂層。本發明專利技術是在低壓條件下制備Y2O3涂層，使用本發明專利技術制備的Y2O3涂層為黑色，具有優異的耐刻蝕、耐臟等性能，且成本較低。

【技術實現步驟摘要】

【技術保護點】
一種低壓等離子噴涂技術制備黑色Y2O3陶瓷涂層的方法，其特征在于，包括如下步驟：步驟(1)，選擇純度大于99.95％的Y2O3粉末；步驟(2)，對待噴涂的基材表面進行預處理；步驟(3)，選擇Ar和H2為離子氣體，通過真空等離子噴涂設備在所述基材表面進行等離子噴涂，在所述等離子噴涂開始時先將所述真空等離子噴涂設備的真空噴涂室抽真空至1?10Pa，再充入惰性氣體Ar，此時使所述真空噴涂室內壓力達1.3×103Pa；繼續充入H2，使其壓力達到103～104Pa后進行噴涂作業；制備出黑色Y2O3涂層。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：邵花，王文東，劉邦武，夏洋，李勇滔，
申請(專利權)人：中國科學院微電子研究所，
類型：發明
國別省市：