【技術實現步驟摘要】
【技術保護點】
一種用于沉積外延材料層的外延沉積設備，其包括腔體，設置在所述腔體底部的襯底支承座和設置在所述腔體頂部的噴淋頭，所述噴淋頭與所述襯底支承座相對設置，并限定位于所述噴淋頭與所述襯底支承座之間的反應區域，其特征在于：所述噴淋頭面向所述反應區域的出氣面具有一涂層，所述涂層使得外延層材料在所述表面沉積生長。
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員：梁秉文，
申請(專利權)人：光達光電設備科技嘉興有限公司，
類型：發明
國別省市：
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