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    氫化物氣相外延裝置制造方法及圖紙

    技術編號:8761569 閱讀:224 留言:0更新日期:2013-06-06 23:12
    氫化物氣相外延裝置,包括一氣相外延反應腔,反應腔上部設有進氣裝置,進氣裝置下方設有一石英舟,反應腔下部設有載片盤,載片盤下方和上方設有加熱裝置,載片盤下方的加熱裝置與反應區由載片盤支撐隔開,反應腔底部設有排氣口。本發明專利技術的優點是可在一個反應腔內生成金屬氯化物并進行材料的外延生長,結構簡單;載片盤上方和下方的加熱裝置可調節反應腔內部的溫度梯度分布,從而改進材料的晶體質量;該裝置設計方案具有可擴展性,并可與金屬有機化合物氣相外延設備結合使用。

    【技術實現步驟摘要】

    【技術保護點】
    一種氫化物氣相外延裝置,包括一氣相外延反應腔,其特征在于反應腔上部設有進氣裝置,進氣裝置下方設有一石英舟,反應腔下部設有載片盤,載片盤下方和上方設有加熱裝置,載片盤下方的加熱裝置與反應區由載片盤支撐隔開,反應腔底部設有排氣口。

    【技術特征摘要】

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:甘志銀
    申請(專利權)人:甘志銀
    類型:發明
    國別省市:

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