清潔裝置、圖像形成裝置及轉(zhuǎn)印單元制造方法及圖紙

本發(fā)明專利技術(shù)公開了一種清潔裝置、圖像形成裝置及轉(zhuǎn)印單元。該清潔裝置包括：第一清潔部件，其通過與帶部件的外表面接觸來清潔該外表面；第一對置部件，其在與第一清潔部件相對的位置與帶部件的內(nèi)表面接觸；第二清潔部件，其沿著帶部件的行進(jìn)方向設(shè)置在第一清潔部件的上游側(cè)，并且通過與帶部件的外表面接觸來清潔該外表面；第二對置部件，其在與第二清潔部件相對的位置與帶部件的內(nèi)表面接觸；以及按壓部件，其設(shè)置在第一對置部件和第二對置部件之間，與帶部件的外表面接觸，并且從帶部件的外表面?zhèn)瘸驇Р考膬?nèi)表面?zhèn)劝磯涸搸Р考奈挥诘谝粚χ貌考偷诙χ貌考g的部分。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種清潔裝置，包括：第一清潔部件，其通過與帶部件的外表面接觸來清潔所述外表面；第一對置部件，其在與所述第一清潔部件相對的位置與所述帶部件的內(nèi)表面接觸；第二清潔部件，其沿著所述帶部件的行進(jìn)方向設(shè)置在所述第一清潔部件的上游側(cè)，并且通過與所述帶部件的所述外表面接觸來清潔所述外表面；第二對置部件，其在與所述第二清潔部件相對的位置與所述帶部件的所述內(nèi)表面接觸；以及按壓部件，其設(shè)置在所述第一對置部件和所述第二對置部件之間，與所述帶部件的所述外表面接觸，并且從所述帶部件的外表面?zhèn)瘸蛩鰩Р考膬?nèi)表面?zhèn)劝磯核鰩Р考奈挥谒龅谝粚χ貌考退龅诙χ貌考g的部分。

【技術(shù)特征摘要】
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【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：松下薫，萩原和義，杉谷和俊，田中邦明，佐藤弘一，神川雄次，出口宏治，酒井裕介，
申請(專利權(quán))人：富士施樂株式會(huì)社，
類型：發(fā)明
國別省市：