反射鏡，包含這種反射鏡的投射物鏡，以及包含這種投射物鏡的用于微光刻的投射曝光設備制造技術

本發明專利技術涉及一種包含基底(S)和層布置的反射鏡(la;la’;lb;lb’;lc;lc’)，其中將所述層布置設計為使得以至少在0°和30°之間的入射角入射于反射鏡(la;la’;lb;lb’;lc;lc’)上的、波長小于250nm的光(32)的強度被反射超過20%，以及所述層布置包含至少一個表面層系(P’’’)，其由單獨層的至少兩個周期(P3)的周期序列構成，其中所述周期(P3)包含由不同材料構成的兩個單獨層，該不同材料用于高折射率層(H’’’)和低折射率層(L’’’)，其中所述層布置包含至少一個由石墨烯構成的層(G、SPL、B)。此外，本發明專利技術涉及在光學元件上使用石墨烯(G、SPL、B)，用于將表面粗糙度降低至少于0.1nm?rms?HSFR，和/或用于保護EUV波長范圍內的光學元件不遭受輻射導致的不可逆的體積變化大于1%，及/或作為阻擋層，用于在EUV波長范圍中防止所謂的多層反射鏡的層之間的相互擴散。

【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】

【技術保護點】

【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】...

【專利技術屬性】
技術研發人員：R弗賴曼，N貝爾，G林巴赫，T貝姆，G威蒂克，
申請(專利權)人：卡爾蔡司SMT有限責任公司，
類型：
國別省市：