無方向性抖動方法技術

描述了一種光刻工藝中的數據準備的方法。該方法包括在圖形數據庫系統GDS網格中提供集成電路(IC)布局設計，將IC布局設計GDS網格轉換成第一曝光網格，對第一曝光網格應用無方向性抖動技術，在對第一曝光網格應用抖動的同時，對第一曝光網格應用網格移位，以生成網格移位曝光網格，并且對網格移位曝光網格應用抖動，并且將第一曝光網格(在接受抖動之后)與網格移位曝光網格(在接受抖動之后)相加，以生成第二曝光網格。本發明專利技術還提供了一種無方向性抖動方法。

【技術實現步驟摘要】

【技術保護點】
一種用在光刻工藝中的方法，包括：在圖形數據庫系統(GDS)網格中提供集成電路(IC)布局設計；將所述IC布局設計GDS網格轉換成第一曝光網格；對所述第一曝光網格應用無方向性抖動技術；在對所述第一曝光網格應用抖動的同時，對所述第一曝光網格應用網格移位，以生成網格移位曝光網格；對所述網格移位曝光網格應用無方向性抖動；以及將接受抖動之后的所述第一曝光網格與接受抖動之后的所述網格移位曝光網格相加，以生成第二曝光網格。

【技術特征摘要】
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【專利技術屬性】
技術研發人員：劉沛怡，林世杰，王文娟，許照榮，林本堅，
申請(專利權)人：臺灣積體電路制造股份有限公司，
類型：發明
國別省市：