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描述了一種光刻工藝中的數據準備的方法。該方法包括在圖形數據庫系統GDS網格中提供集成電路(IC)布局設計,將IC布局設計GDS網格轉換成第一曝光網格,對第一曝光網格應用無方向性抖動技術,在對第一曝光網格應用抖動的同時,對第一曝光網格應用網格...該專利屬于臺灣積體電路制造股份有限公司所有,僅供學習研究參考,未經過臺灣積體電路制造股份有限公司授權不得商用。
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描述了一種光刻工藝中的數據準備的方法。該方法包括在圖形數據庫系統GDS網格中提供集成電路(IC)布局設計,將IC布局設計GDS網格轉換成第一曝光網格,對第一曝光網格應用無方向性抖動技術,在對第一曝光網格應用抖動的同時,對第一曝光網格應用網格...