一種弱磁分礦箱噴射機構制造技術

一種弱磁分礦箱噴射機構，涉及分礦設備領域，包括灌漿泵、泵池、噴射管道和分流箱，所述灌漿泵安裝在泵池的一側，所述噴射管道安裝在灌漿泵的頂部，所述噴射管道的頂部為圓弧形，在噴射管道的末端安裝有增速節流口，所述增速節流口的直徑比噴射管道的直徑小，所述分流箱設置在增速節流口的下方。本實用新型專利技術結構設計合理，使用方便，噴射高度大，噴射量均勻，在噴射管道的末端設置的增速節流口可以在保證噴射礦漿固定流量的前提下，提高噴射高度，滿足噴射的需求。（*該技術在2023年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

【技術保護點】
一種弱磁分礦箱噴射機構，包括灌漿泵、泵池、噴射管道和分流箱，其特征在于：所述灌漿泵安裝在泵池的一側，所述噴射管道安裝在灌漿泵的頂部，在噴射管道的末端安裝有增速節流口，所述分流箱設置在增速節流口的下方。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：李澤彬，蔡季，郝云軍，
申請(專利權)人：安徽金日盛礦業有限責任公司，
類型：實用新型
國別省市：