【技術實現步驟摘要】
【技術保護點】
一種按照系數n減小臨界尺寸(CD)的光刻工藝的方法，其中n＜1，所述方法包括：提供具有第一像素尺寸S1的圖案生成器，以產生具有第二像素尺寸S2的交替數據網格，S2＜S1，其中，所述圖案生成器包括多個網格段，所述網格段被配置為在第一方向上彼此偏移；以及在光刻工藝過程中，在垂直于所述第一方向的第二方向上掃描所述圖案生成器，以控制所述網格段的每個后續段，使得相對于所述網格段的在先段，所述網格段的每個后續段具有時延。
【技術特征摘要】
...
【專利技術屬性】
技術研發人員：王文娟，林世杰，劉沛怡，許照榮，林本堅，
申請(專利權)人：臺灣積體電路制造股份有限公司，
類型：發明
國別省市：
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