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本發(fā)明提供了以系數(shù)n減小臨界尺寸(CD)的光刻工藝的方法的一個(gè)實(shí)施例，其中，n＜1。該方法包括：提供具有第一像素尺寸S1的圖案生成器，以產(chǎn)生具有第二像素尺寸S2(S2＜S1)的交替數(shù)據(jù)網(wǎng)格，其中，圖案生成器包括被配置在第一方向上彼此偏移的多...該專利屬于臺灣積體電路制造股份有限公司所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過臺灣積體電路制造股份有限公司授權(quán)不得商用。