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本發明公開了一種砂巖高光處理工藝，選擇適宜高光處理的砂巖板材并進行充分干燥處理；對砂巖板材放入盛裝有化學藥劑K1的原料池內進行第一次浸泡處理；待第一預設時間周期后，將砂巖板材取出原料池，充分晾干，利用數控機床對砂巖板材進行研磨拋光處理，直到...
該專利屬于應士敏;李根明所有，僅供學習研究參考，未經過應士敏;李根明授權不得商用。

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