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公開了光學基材疊層和多層整體卷材的制造方法。所述光學基材疊層包括：第一光學基材；第二光學基材；和在所述光學基材之間的掩膜，該掩膜包括至少一層具有許多三維特征的釋放層，每個三維特征的平均高度超過50微米；借助所述許多三維特征，所述掩模在所述第...該專利屬于屈德加薄膜產品股份有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過屈德加薄膜產品股份有限公司授權不得商用。
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