光學(xué)基材疊層和多層整體卷材的制造方法技術(shù)

公開了光學(xué)基材疊層和多層整體卷材的制造方法。所述光學(xué)基材疊層包括：第一光學(xué)基材；第二光學(xué)基材；和在所述光學(xué)基材之間的掩膜，該掩膜包括至少一層具有許多三維特征的釋放層，每個三維特征的平均高度超過50微米；借助所述許多三維特征，所述掩模在所述第一光學(xué)基材和第二光學(xué)基材之間形成間隙。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本申請是2009年6月26日提交的國際申請?zhí)枮镻CT/US2009/003844、國家申請?zhí)枮?00980123779.3、專利技術(shù)名稱為“具有釋放表面的保護(hù)膜”的中國專利申請的分案申請。相關(guān)申請的交叉引用本申請要求2008年6月27日提交的美國臨時(shí)專利申請第61/133，356號的優(yōu)先權(quán)。
技術(shù)介紹
本專利技術(shù)涉及用于在制造、貯藏、運(yùn)輸或使用中保護(hù)基材表面的膜。本專利技術(shù)還涉及制備所述膜的方法。表面保護(hù)膜也被稱為掩膜，通常用于提供物理屏障，以防基材發(fā)生破壞、污染、刻劃、刮擦或其它損壞。掩膜可用于例如在基材使用前的制造、運(yùn)輸或貯藏中提供這些保護(hù)。這些膜在許多的應(yīng)用中可用作表面的保護(hù)性覆蓋層，特別是用于保護(hù)較光滑的表面，例如丙烯酸類、聚碳酸酯類、玻璃、拋光或涂漆的金屬和上釉的陶瓷表面。例如用于電視機(jī)、監(jiān)控器和其它顯示器的光學(xué)基材需要既保護(hù)表面又可在去除時(shí)不在表面上造成損壞、留下粘合劑殘余物或其它污染物或微粒的掩膜。通常，掩膜包括電暈處理的膜或者涂覆粘合劑的紙或膜。電暈處理的膜是經(jīng)靜電放電處理的膜，以氧化膜的表面。該氧化作用提高膜的表面張力和對極性表面的吸引力。這樣的電暈處理的膜通常為光滑的膜，依賴于非常精確的電暈處理以促進(jìn)粘合。由于沒有壓紋，電暈處理的膜通常容易起皺，使得難以使用和操作這些膜。另一個缺點(diǎn)是促進(jìn)電暈處理效果的粘合作用隨時(shí)間而消散。一般來說，常規(guī)掩膜較難使用和操作。因?yàn)檠谀ぴO(shè)計(jì)成與表面粘合，它們也可在掩膜繞在輥上或粘合表面接觸掩蔽膜的一部分時(shí)與其自身發(fā)生粘合。這種所謂的結(jié)塊可導(dǎo)致加工困難，包括延遲和浪費(fèi)材料。為降低自身粘合的傾向，可用弱粘合劑涂覆掩膜。掩膜上的弱粘合劑可防止膜在輥上與其自身發(fā)生緊密粘合，然而，弱粘合劑也可能無法提供與需要保護(hù)表面的充分粘合。其它膜在粘合表面的反面可配有一個不光滑的表面，常稱為單側(cè)粗糙(“0SM”)掩膜。粗糙表面的不規(guī)則性不能為粘合提供良好表面，為掩膜提供抗結(jié)塊性質(zhì)。需要自身粘合低，但能與基材充分粘合以提供合適保護(hù)作用的掩膜。還需要具有緩沖作用并便于操作平坦基材的掩膜。在其它應(yīng)用中，可能需要采用不粘合表面，但與基材交錯以提供物理分離的材料。這樣的應(yīng)用常用于制造操作中，例如，其中光學(xué)級玻璃或塑料基材釘在一起。在這樣的應(yīng)用中，紙或其它材料用于與基材交錯放置以防損壞。交錯片材也用于疊置易碎和刻劃敏感基材之間，以在向最終用戶的運(yùn)輸期間提供極光滑光學(xué)基材之間的分離作用。相應(yīng)地，也需要用于保護(hù)基材表面的低成本非粘附材料。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
在一個實(shí)施方式中，掩膜包含具有至少一個三維釋放表面的聚合物膜網(wǎng)狀物。在一個實(shí)施方式中，所述三維釋放表面包含與所述膜形成一體的多個突出凸起。在一個實(shí)施方式中，所述突出凸起包含多個間隔的肋條(rib)。在一個實(shí)施方式中，所述三維釋放表面包含聚合物小塊(nub)。在一個實(shí)施方式中，所述掩膜包含與三維釋放表面相反的粘合層。參考附圖和權(quán)利要求書，進(jìn)一步閱讀說明書后不難理解這些和其它實(shí)施方式。【附圖說明】圖1是顯示與基材粘合并包含釋放層和粘合層的掩膜的橫截面圖，其中所述釋放層包含具有多個有孔凸起的三維釋放表面。圖1A是顯示與基材粘合并包含釋放層和粘合層的掩膜的橫截面圖，其中所述釋放層包含具有長斜方形壓紋圖案的三維釋放表面。圖1B是顯示與基材粘合并包含釋放層和粘合層的掩膜的橫截面圖，其中所述釋放層包含多平面膜(multiplanar film)。圖2是具有第一釋放層、芯層和第二釋放層的掩膜的橫截面圖，其中各釋放層包含具有多個無孔凸起的三維釋放表面。圖3是包含具有兩個釋放表面的單層膜的掩膜的橫截面圖。圖4是具有粘合層和釋放層的掩蔽膜的透視圖，其中釋放層具有包含間隔的縱向肋條的三維釋放表面。圖4A是除不含任何粘合層外與圖4實(shí)施方式相似的掩膜的橫截面圖。圖5是具有粘合層和釋放層的掩膜的透視圖，其中釋放層具有包含聚合物珠的三維表面。圖5A是圖5掩膜的橫截面圖，沿圖5中的線和箭頭A-A所示。圖6是具有兩個三維釋放表面的膜的另一個實(shí)施方式的橫截面圖。圖7是真空層壓工藝的示意圖。圖8是可用于制備某些實(shí)施方式的壓紋和/或真空成型工藝的示意圖。專利技術(shù)詳述美國專利第4，395，760、5，100，709、5，693，405、6，040，046、6，326，081 和6，387，484號描述了掩膜，這些專利均通過引用納入本文。除非上下文有明確不同的描述，本專利技術(shù)中所用的單數(shù)形式“一個”、“一種”和“該”包括復(fù)數(shù)形式。因此，例如，述及“一層”也包括多層。本文用來描述網(wǎng)狀物或膜的“層壓物”或“復(fù)合物”是同義詞。二者均指包含至少兩個結(jié)合的網(wǎng)狀物或膜以形成多層整體網(wǎng)狀物的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。可通過層壓過程對所述網(wǎng)狀物進(jìn)行共擠出或連接，包括膠粘層壓、熱層壓、加壓層壓和其組合，以及本領(lǐng)域技術(shù)人員已知的其它層壓技術(shù)。用于形成層壓物的粘合劑可為大量市售壓敏粘合劑中的任何一種，包括水基粘合劑如但不限于丙烯酸粘合劑，例如，可與增粘劑聯(lián)用的乙酸乙烯酯/丙烯酸乙基己酯共聚物。其它粘合劑包括壓敏熱熔性粘合劑或雙面膠帶。本文中所用的術(shù)語“聚合物”包括均聚物、共聚物如嵌段共聚物、接枝共聚物、抗沖共聚物、無規(guī)共聚物和交替共聚物、三元共聚物等，及其摻混物和修飾物。此外，除非另外進(jìn)行具體限制，術(shù)語“聚合物”包括所述材料所有可能的立體化學(xué)構(gòu)型，如全同、間同和無規(guī)構(gòu)型。對具有極平坦表面的基材，如玻璃窗格、用于監(jiān)控器、電視機(jī)或其它顯示器的光學(xué)材料片或其它相似基材進(jìn)行操作是困難的。在設(shè)法將一片這樣的基材從另一片上去除時(shí)，所述片材容易粘合在一起。所述片材可粘合在一起是因?yàn)榭諝饪赡軣o法存在于或流過片材之間。缺乏空氣導(dǎo)致片材之間出現(xiàn)真空，有時(shí)第二個片材其實(shí)會與第一個片材一起提起。然而，第二個片材僅可提起一小段距離，之后真空釋放，第二個片材就會下落。該下落可對第二個片材造成不能修補(bǔ)的損害。為該操作困難提供的解決方法是掩膜的各實(shí)施方式包含具有三維釋放表面的釋放層。在一些實(shí)施方式中，所述掩膜包含粘合層和具有三維釋放表面的釋放層。在其它實(shí)施方式中，所述掩膜包含位于膜相反兩側(cè)的兩個三維釋放表面。所述掩膜可包含單層或多層。中間層可插入粘合層和釋放層之間或兩個釋放層之間。其它實(shí)施方式包括包含兩個釋放表面的掩膜。這樣的掩膜還可在釋放層之間包含中間層。各釋放層均具有三維釋放表面。包含兩個釋放表面的實(shí)施方式有利于用于取代光學(xué)基材疊層中的紙?jiān)Ｍㄟ^在疊置片材之間制造間隙允許基材片之間存在空氣空間，使在其間具有實(shí)施例所述掩膜的基材免于彼此粘合。所述釋放層的實(shí)施方式一般包含膜。本文中所用的“膜”指包含聚合物的薄片或網(wǎng)狀物。可通過例如，在擠出鑄塑或吹塑過程中擠出熔融熱塑性聚合物生產(chǎn)膜。所述聚合物可以在輥之間進(jìn)一步加工并冷卻以形成網(wǎng)狀物。膜可為例如，單層膜、共擠出膜和復(fù)合膜。可通過共擠出過程或?qū)⒁粋€或多個膜結(jié)合在一起生產(chǎn)復(fù)合膜。在維度方面,膜可描述為具有軸向、橫向和z向。軸向定義為膜通過制造過程的方向。通常將膜制造成長度遠(yuǎn)大于寬度的長片材或網(wǎng)狀物，在這樣的情況中，軸向通常為片材的長度方向(也稱為X向)。與軸向垂直的是片材的橫向(也稱為y向或?qū)挾?。在Z向上測量膜的厚度。三維成型膜的z向包括成型膜的任何三維特征的高度和膜的厚度。三維成型膜是經(jīng)加工在膜的至少一個表面上形成本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種光學(xué)基材疊層，它包括：第一光學(xué)基材；第二光學(xué)基材；和在所述光學(xué)基材之間的掩膜，該掩膜包括至少一層具有許多三維特征的釋放層，每個三維特征的平均高度超過50微米；借助所述許多三維特征，所述掩模在所述第一光學(xué)基材和第二光學(xué)基材之間形成間隙。

【技術(shù)特征摘要】
2008.06.27 US 61/133,3561.一種光學(xué)基材疊層，它包括: 第一光學(xué)基材； 第二光學(xué)基材；和 在所述光學(xué)基材之間的掩膜，該掩膜包括至少一層具有許多三維特征的釋放層，每個三維特征的平均高度超過50微米； 借助所述許多三維特征，所述掩模在所述第一光學(xué)基材和第二光學(xué)基材之間形成間隙。2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)基材疊層，其特征在于所述光學(xué)基材選自玻璃、丙烯酸酯、環(huán)烯烴聚合物膜和三乙酰基纖維素膜。3.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)基材疊層，其特征在于所述光學(xué)基材具有光滑表面。4.如權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的光學(xué)基材疊層，其特征在于所述三維特征是整體伸出釋放層的凸起。5.如權(quán)利 要求1-3中任一項(xiàng)所述的光學(xué)基材疊層，其特征在于所述凸起選自棱狀、圓錐或珠。6.如權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的光學(xué)基材疊層,其特征在于所述凸起包括空氣空間，該空氣空間在所述第一基材和第二基材之間形成間隙。7.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)基材疊層，其特征在于所述掩模還包括粘合層。8.—種制造多層整體卷材的方法，它包括: 將熔融聚合物鑄塑到或者將熔融熱塑性膜共擠出到具有突出肋條或線狀物的成型鼓上，形成包括兩層，一層是釋放層、一層是粘合層，的擠出膜； 所述釋放層與成型結(jié)構(gòu)即帶紋理的鑄塑鼓接觸，所述粘合層無粘合劑涂層； 所述擠出膜具有平均高度超過50微米的棱，該棱對應(yīng)成型鼓的突出肋條或線狀物。9.一種制造多層整體卷材的方法，它包括: 將熔融熱塑性膜...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：S·C·帕特爾，B·B·德塞，G·M·巴拉克霍夫，P·E·托馬斯，
申請(專利權(quán))人：屈德加薄膜產(chǎn)品股份有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：美國;US