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集成電路器件和制作技術。一種半導體器件制作方法可以包括在相同處理步驟中摻雜集成電路的襯底的第一和第二部分。第一部分對應于半導體器件的摻雜的區(qū)域。第二部分對應于過孔接觸。該方法還可以包括在摻雜之后形成半導體器件的柵極。...
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