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本實用新型公開了一種氫氧化鋁焙燒專用組合坩堝蓋，包括蓋裝在坩堝上端的坩堝蓋，坩堝蓋包括下坩堝蓋和上坩堝蓋，下坩堝蓋的下端面及上端面分別設(shè)有與坩堝上沿口相配合的下環(huán)形密封槽、與上坩堝蓋下端面相配合的上環(huán)形密封槽，下環(huán)形密封槽與上環(huán)形密封槽位置...該專利屬于鴻福晶體科技（安徽）有限公司所有，僅供學習研究參考，未經(jīng)過鴻福晶體科技（安徽）有限公司授權(quán)不得商用。