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本發明公開了一種生產工藝控制系統及分析方法，屬于半導體制程管控技術領域；系統包括：采集單元采集晶圓片原始數據；第一存儲單元保存晶圓片原始數據；處理單元提取晶圓片原始數據，并處理得到多組不同的分組數據，隨后分析并輸出分組數據的變化趨勢；告警單...該專利屬于中芯國際集成電路制造（上海）有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過中芯國際集成電路制造（上海）有限公司授權不得商用。
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本發明公開了一種生產工藝控制系統及分析方法，屬于半導體制程管控技術領域；系統包括：采集單元采集晶圓片原始數據；第一存儲單元保存晶圓片原始數據；處理單元提取晶圓片原始數據，并處理得到多組不同的分組數據，隨后分析并輸出分組數據的變化趨勢；告警單...