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本發(fā)明公開(kāi)了一種新型的掩模清洗方法，其包括以下步驟：S1、使用臭氧和去離子水的混合液進(jìn)行清洗，去除光刻膠等有機(jī)物或是缺陷修補(bǔ)后所產(chǎn)生有機(jī)污染物；S2、使用SC?1清洗液進(jìn)行掩模清洗，確保殘留顆粒去除徹底；S3、使用去離子水再次清洗，以去除殘...該專利屬于無(wú)錫中微掩模電子有限公司所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過(guò)無(wú)錫中微掩模電子有限公司授權(quán)不得商用。