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本發(fā)明涉及一種薄膜沉積裝置，其包括：沉積腔室，在其內(nèi)部支撐有基板；分配管，其通過形成于上部的多個噴嘴噴射由用于收容待沉積到所述基板上的沉積材料的多個坩堝汽化的沉積材料；分配管加熱器，其被獨(dú)立設(shè)置為面向所述分配管的外表面以加熱所述分配管；坩堝...該專利屬于銑益系統(tǒng)有限責(zé)任公司所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過銑益系統(tǒng)有限責(zé)任公司授權(quán)不得商用。