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本發明涉及清洗劑技術領域，是對現有技術的改進，具體涉及一種水基清洗劑，其重量百分比（%）為：碳酸氫鈉5.0~15.0%、偏硅酸鈉5.0~15.0%、表面活性劑0.1~4.5%、水性潤濕劑0.1~0.5%、水性緩蝕劑0.01~0.5%、水性消...該專利屬于重慶微世特電子材料有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過重慶微世特電子材料有限公司授權不得商用。
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