一種水基清洗劑制造技術

本發明專利技術涉及清洗劑技術領域，是對現有技術的改進，具體涉及一種水基清洗劑，其重量百分比（%）為：碳酸氫鈉5.0~15.0%、偏硅酸鈉5.0~15.0%、表面活性劑0.1~4.5%、水性潤濕劑0.1~0.5%、水性緩蝕劑0.01~0.5%、水性消泡劑0.01~0.5%、去離子水0.0~30.0%、其余為直飲水。本發明專利技術具有下述特點：不含揮發性有機溶劑、不腐蝕被清洗物件、應用范圍廣、制備時無需加熱溶解節約能源。本發明專利技術實用，市場潛力大。

【技術實現步驟摘要】
一種水基清洗劑
本專利技術涉及工業清洗劑
，是對現有技術的改進，具體涉及一種水基清洗劑。
技術介紹
工業清洗劑是現代工業必不可少的材料之一，隨著我國工業的快速發展和人們對環保問題的日益重視，綠色環保的清洗劑已經成為工業清洗劑發展的必然趨勢。水基清洗劑作為一種以水為主要溶劑、不含破壞大氣臭氧層物質、不易燃、不易爆的新型清洗劑，受到越來越多的關注和重視。但現有的水基清洗劑常存在適用范圍窄、清洗過程中泡沫過多、腐蝕被清洗物件、含有對人體或環境造成傷害的揮發性有機溶劑、制備方法復雜等問題。CN101538512B專利中公開了一種水基清洗劑，由表面活性劑主洗部分、堿性助洗部分、溶劑部分、防腐劑和水配制而成。但該專利技術僅用于除去機械設備、建筑物等表面油脂、油污、碳跡、染料、霉斑等污物，且清洗過程中產生較多泡沫，另外其選用的乙醇、乙二醇醚對人體有傷害作用。CN101503648B專利中公開了一種SMT印刷網版的水基清洗劑，含有5~35wt%的主溶劑、1~10wt%的助溶劑、0.05~0.5wt%的表面活性劑、余量為去離子水。但該專利技術適用范圍窄，且乙二醇、丙二醇等對人體有一定的傷害作用。CN102230182A專利中公開了一種水基清洗劑，包括以下質量百分比組份：1~3%三聚磷酸鈉、2~4%磷酸氫二鈉、0.5~1%硼砂、2~4%對硝基苯甲酸、0.5~2%氫氧化鈉、1~4%表面活性劑、2~5聚乙二醇，13~15%三乙醇胺、0.01~0.1%消泡劑、余量為水。但該專利技術僅適用于清洗機件上的油污，且所選用的對硝基苯甲酸對水體和大氣可造成污染、且受熱分解放出有毒的氮氧化物煙氣。CN102051286A專利中公開了一種松香型焊錫膏用水基清洗劑，包括以下質量百分比的原料：15~40%的醇醚類有機溶劑、1~15%的皂化劑、0.1~2%的表面活性劑、0.01~0.5%的緩蝕劑、水為余量。但該專利技術應用范圍太窄，且所選用的醇醚類有機溶劑一則對人體有一定的傷害作用，二則含量過多有被引燃的潛在危險。CN1162524C專利中公開了一種印刷線路板用水基清洗劑組合物，組成為：10~20%烷基酚聚氧乙烯醚、1~10%烷基酰二乙醇胺、3~8%烷基醇胺、5~10%烷基醇、0.1~0.5%絡合劑、0.3~1.0%消泡劑及余量去離子水。但該專利技術應用范圍太窄，且含有對人體有一定傷害作用的烷基醇，此外其制備過程中需要將原料在40~60℃溫度下加熱溶解，較常溫溶解方法而已較為復雜且存在安全隱患。
技術實現思路
本專利技術的目的是避免上述現有技術中的不足之處而提供的一種水基清洗劑。該水基清洗劑適用范圍廣、制備方法簡單、不含對人體或環境造成傷害的揮發性有機溶劑、清洗過程中泡沫少、不腐蝕被清洗物件。本專利技術的目的可通過下列的措施來實現：本專利技術納米水基清洗劑，其所含成分重量百分比（%）為：碳酸氫鈉5.0~15.0%，偏硅酸鈉5.0~15.0%，表面活性劑0.1~4.5%，水性潤濕劑0.1~0.5%，水性緩蝕劑0.01~0.5%，水性消泡劑0.01~0.5%，去離子水0.0~30.0%，其余為直飲水，各成分重量之和為100%。所述的偏硅酸鈉為無水偏硅酸鈉、五水偏硅酸鈉和九水偏硅酸鈉中的一種或幾種。其主要作用是促進油脂、污垢、助焊劑殘留、紅膠殘留、錫膏殘留等從被清洗物件表面的清除。所述的表面活性劑為吐溫80、烷基糖苷、椰油酸二乙醇酰胺、十二烷基苯磺酸鈉、醇硫酸鹽、烯烴磺酸鹽、仲烷基磺酸鹽、磺基脂肪酸酯鹽中的一種或多種。其主要作用是顯著降低表面張力，增強潤濕力、滲透力。所述的水性潤濕劑為巴斯夫HYDROPALAT110潤濕劑、巴斯夫HYDROPALAT120潤濕劑、迪高TEGO245潤濕劑、迪高TEGO270潤濕劑、迪高TEGO500潤濕劑、科寧PE-100潤濕劑、亨斯曼OT-75潤濕劑、德謙W-469潤濕劑中的一種或多種。其主要作用是增強潤濕。所述的水性緩蝕劑為十七烯基胺乙基咪唑啉季銨鹽、2-烷基-N-羧甲基-N-羥乙基咪唑啉、雙咪唑啉季銨鹽、氨基三亞甲基膦酸、羥基亞乙基二膦酸中的一種或幾種。其主要作用是防止被清洗物件腐蝕。所述的水性消泡劑為斯洛柯4830消泡劑、巴斯夫FoamStarA10消泡劑、巴斯夫S12210消泡劑、巴斯夫1293消泡劑、巴斯夫FoamStar8034A消泡劑、巴斯夫FoamStar8034消泡劑、巴斯夫FoamStar50消泡劑、巴斯夫FoamStarA12消泡劑、巴斯夫FoamStar111消泡劑、巴斯夫FoamStar60消泡劑、巴斯夫FoamStar714消泡劑中的一種或幾種。其主要作用是在水基清洗劑的制備和使用過程中，起到長時間抑泡和強有力消泡的作用。本專利技術納米水基清洗劑的制備方法，包括如下步驟：（1）稱取直飲水和0.0~30.0%去離子水，倒入反應釜中；（2）加入5.0~15.0%碳酸氫鈉和5.0~15.0%偏硅酸鈉，攪拌至完全溶解；（3）再依次加入0.1~4.5%表面活性劑、0.1~0.5%水性潤濕劑、0.01~0.5%水性緩蝕劑、0.01~0.5%水性消泡劑，攪拌至完全溶解，即得本專利技術水基清洗劑。本專利技術相比現有技術具有如下優點：一是適用范圍廣，不僅可用于印刷電路板上助焊劑、焊錫膏殘留的清洗，表面貼裝印刷網版上焊錫膏、紅膠殘留的清洗、絲網印刷網版上油墨殘留的清洗，而且適用于機械設備、建筑物等表面油脂、油污、碳跡、染料、霉斑等污物的清洗；二是清洗過程中泡沫少，且清洗后可以不用水漂洗，減少清洗工序，節約能源和降低成本；三是不含對人體或環境造成傷害的揮發性有機溶劑、且不腐蝕被清洗物件；四是制備方法簡單，無需進行加熱溶解，進一步節約能源。本專利技術實用，市場潛力大。具體實施方式實施例1：碳酸氫鈉5.0%無水偏硅酸鈉5.0%椰油酸二乙醇酰胺0.1%巴斯夫HYDROPALAT120潤濕劑0.1%十七烯基胺乙基咪唑啉季銨鹽0.01%巴斯夫FoamStar50消泡劑0.01%直飲水89.78%實施例2：碳酸氫鈉15.0%無水偏硅酸鈉8.0%九水偏硅酸鈉7.0%烷基糖苷2.0%十二烷基苯磺酸鈉2.5%巴斯夫HYDROPALAT110潤濕劑0.25%科寧PE-100潤濕劑0.25%2-烷基-N-羧甲基-N-羥乙基咪唑啉0.25%雙咪唑啉季銨鹽0.25%巴斯夫FoamStarA12消泡劑0.25%斯洛柯4830消泡劑0.25%去離子水30.0%直飲水34%實施例3：碳酸氫鈉10.0%無水偏硅酸鈉6.0%五水偏硅酸鈉4.0%椰油酸二乙醇酰胺1.0%烯烴磺酸鹽0.8%巴斯夫HYDROPALAT110潤濕劑0.15%德謙W-469潤濕劑0.1%十七烯基胺乙基咪唑啉季銨鹽0.05%2-烷基-N-羧甲基-N-羥乙基咪唑啉0.1%巴斯夫FoamStarA10消泡劑0.1%巴斯夫FoamStar50消泡劑0.1%去離子水15.0%直飲水62.6%表1為本專利技術實施例1-3的主要性能試驗結果對比數據。表1實施例1-3的主要性能試驗結果對比數據本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種水基清洗劑，其所含成分重量百分比（%）為：碳酸氫鈉5.0~15.0%，偏硅酸鈉5.0~15.0%，表面活性劑0.1~4.5%，水性潤濕劑0.1~0.5%，水性緩蝕劑0.01~0.5%，水性消泡劑0.01~0.5%，去離子水0.0~30.0%，其余為直飲水，各成分重量之和為100%。

【技術特征摘要】
1.一種水基清洗劑，其所含成分重量百分比（%）為：碳酸氫鈉5.0~15.0%，偏硅酸鈉5.0~15.0%，表面活性劑0.1~4.5%，水性潤濕劑0.1~0.5%，水性緩蝕劑0.01~0.5%，水性消泡劑0.01~0.5%，去離子水0.0~30.0%，其余為直飲水，各成分重量之和為100%。2.根據權利要求1所述的水基清洗劑，其特征在于：所述的偏硅酸鈉為無水偏硅酸鈉、五水偏硅酸鈉和九水偏硅酸鈉中的一種或幾種。3.根據權利要求1所述的水基清洗劑，其特征在于：所述的表面活性劑為吐溫80、烷基糖苷、椰油酸二乙醇酰胺、十二烷基苯磺酸鈉、醇硫酸鹽、烯烴磺酸鹽、仲烷基磺酸鹽、磺基脂肪酸酯鹽中的一種或多種。4.根據權利要求1所述的水基清洗劑，其特征在于：所述的水性潤濕劑為巴斯夫HYDROPALAT110潤濕劑、巴斯夫HYDROPALAT120潤濕劑、迪高TEGO245潤濕劑、迪...

【專利技術屬性】
技術研發人員：唐遠金，徐安蓮，
申請(專利權)人：重慶微世特電子材料有限公司，
類型：發明
國別省市：重慶,50