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本發(fā)明提供了一種蒸鍍基板，包括基板和磁性層，所述基板包括相對設(shè)置的頂面和底面，所述磁性層設(shè)于所述頂面，所述底面用于在蒸鍍過程中與金屬掩膜版相對設(shè)置以形成蒸鍍層，所述磁性層用于在蒸鍍過程中與磁性裝置相對設(shè)置，以在磁吸力作用下減少所述基板的下垂...該專利屬于武漢華星光電技術(shù)有限公司所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過武漢華星光電技術(shù)有限公司授權(quán)不得商用。