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本發(fā)明公開了一種反應(yīng)罐的冷卻裝置，包括：反應(yīng)罐支架，其包括前支架和后支架，前支架高于后支架設(shè)置，反應(yīng)罐旋轉(zhuǎn)的設(shè)置在前支架和后支架上；冷卻水槽，其傾斜的設(shè)置在前支架和后支架之間，反應(yīng)罐的罐體處于冷卻水槽的上方，冷卻水槽的低端設(shè)有回水管；以及進(jìn)...該專利屬于中磁科技股份有限公司所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過中磁科技股份有限公司授權(quán)不得商用。