反應罐的冷卻裝置制造方法及圖紙

本發明專利技術公開了一種反應罐的冷卻裝置，包括：反應罐支架，其包括前支架和后支架，前支架高于后支架設置，反應罐旋轉的設置在前支架和后支架上；冷卻水槽，其傾斜的設置在前支架和后支架之間，反應罐的罐體處于冷卻水槽的上方，冷卻水槽的低端設有回水管；以及進水管，其沿冷卻水槽的槽底鋪設，進水管上設有噴頭，噴頭用來向反應罐的表面噴射冷卻水。該冷卻裝置，降低冷卻時間，縮短生產周期。

Cooling device of reaction tank

The invention discloses a cooling device, a reaction tank comprises a reaction tank bracket, which comprises a front bracket and a rear bracket, the bracket is arranged above the front bracket, the rotation of the reaction tank is arranged in the front bracket and the rear bracket; the inclined cooling water tank are arranged between the front bracket and the rear bracket, reaction tank the tank is above the cooling water tank, the cooling water tank is provided with a low return pipe; and the water inlet pipe, the cooling water tank along the groove bottom laying on the water inlet pipe is provided with a nozzle, the nozzle to spray the cooling water to the surface of the reaction tank. The cooling device reduces the cooling time and shortens the production cycle.

【技術實現步驟摘要】
反應罐的冷卻裝置
本專利技術涉及釹鐵硼領域，特別涉及一種反應罐的冷卻裝置。
技術介紹
氫破工序為釹鐵硼磁性材料生產的關鍵工序，氫破反應罐為氫破設備中的主要部件。釹鐵硼磁性材料在整個氫破工序都被置于反應罐中，在脫氫環節需要對反應罐進行高溫加熱并保持一段時間，所以在脫氫結束后，需要對反應罐進行冷卻至常溫，一般廠家采取風冷方式，即用大功率風機正對著反應罐吹風進行冷卻，這種冷卻方式使反應罐的溫度降低比較慢，即耗費時間長，且耗電量大，成本高。公開于該
技術介紹
部分的信息僅僅旨在增加對本專利技術的總體背景的理解，而不應當被視為承認或以任何形式暗示該信息構成已為本領域一般技術人員所公知的現有技術。
技術實現思路
本專利技術的目的在于提供一種反應罐的冷卻裝置，降低冷卻時間，縮短生產周期。為實現上述目的，本專利技術提供了一種反應罐的冷卻裝置，包括：反應罐支架，其包括前支架和后支架，前支架高于后支架設置，反應罐旋轉的設置在前支架和后支架上；冷卻水槽，其傾斜的設置在前支架和后支架之間，反應罐的罐體處于冷卻水槽的上方，冷卻水槽的低端設有回水管；以及進水管，其沿冷卻水槽的槽底鋪設，進水管上設有噴頭，噴頭用來向反應罐的表面噴射冷卻水。優選地，冷卻水槽的橫截面為梯形。優選地，進水管通過支架設置在冷卻水槽的槽底。優選地，進水管繞過冷卻水槽的底側壁后鋪設在冷卻水槽的槽底。優選地，冷卻水槽由水槽支架支撐。與現有技術相比，本專利技術具有如下有益效果：通過設置冷卻水槽以及進水管，利用冷卻水直接噴到反應罐的表面進行冷卻，經反應罐反射回來的水被冷卻水槽收集，并從冷卻水槽的底部回水管流出，整個冷卻過程中反應罐處于旋轉狀態，以實現均勻冷卻，比風冷的速度快很多，據統計同一種反應罐用風冷的方式需要24小時，而用該裝置進行冷卻只需要3個小時，降低冷卻時間，縮短生產周期，減少生產現場的在制品，從而有效的降低生產成本。附圖說明圖1是根據本專利技術的反應罐的冷卻裝置的結構示意圖；圖2是根據本專利技術的反應罐的冷卻裝置中冷卻水槽和進水管的示意圖；圖3是根據本專利技術的反應罐的冷卻裝置的使用示意圖。具體實施方式下面結合附圖，對本專利技術的具體實施方式進行詳細描述，但應當理解本專利技術的保護范圍并不受具體實施方式的限制。除非另有其它明確表示，否則在整個說明書和權利要求書中，術語“包括”或其變換如“包含”或“包括有”等等將被理解為包括所陳述的元件或組成部分，而并未排除其它元件或其它組成部分。如圖1至圖3所示，根據本專利技術具體實施方式的一種反應罐的冷卻裝置，包括反應罐支架1、冷卻水槽3以及進水管4，其中反應罐支架1包括前支架和后支架，前支架高于后支架設置，使得反應罐傾斜的支撐在前支架和后支架上，而且反應罐旋轉設置。冷卻水槽3傾斜的設置在前支架和后支架之間，反應罐7的罐體處于冷卻水槽3的上方，冷卻水槽3的低端設有回水管6，進水管4沿冷卻水槽3的槽底鋪設，進水管4上設有噴頭5，噴頭5用來向反應罐7的表面噴射冷卻水。作為一種優選實施例，冷卻水槽3的橫截面為梯形。作為一種優選實施例，進水管4通過支架設置在冷卻水槽3的槽底。作為一種優選實施例，進水管4繞過冷卻水槽3的底側壁后鋪設在冷卻水槽3的槽底。作為一種優選實施例，冷卻水槽3由水槽支架2支撐。上述方案中，反應罐支架1的作用是對反應罐起支撐作用，前支架支撐著反應罐7的罐口，后支架支撐著反應罐的罐尾，前支架比后支架略高一節，進水管4主要作用是提供冷卻水，并通過噴頭5將冷卻水直接噴到反應罐7的表面進行冷卻，從而使反應罐實現快速降溫的效果，縮短冷卻時間，降低生產成本。經反應罐7反射回來的水被冷卻水槽3收集，并從冷卻水槽3的底部回水管6流出，整個冷卻過程中反應罐7處于旋轉狀態，以實現均勻冷卻。綜上，本實施例的反應罐的冷卻裝置，通過設置冷卻水槽3以及進水管4，利用冷卻水直接噴到反應罐7的表面進行冷卻，經反應罐7反射回來的水被冷卻水槽3收集，并從冷卻水槽3的底部回水管6流出，整個冷卻過程中反應罐7處于旋轉狀態，以實現均勻冷卻，比風冷的速度快很多，據統計同一種反應罐用風冷的方式需要24小時，而用該裝置進行冷卻只需要3個小時，降低冷卻時間，縮短生產周期，減少生產現場的在制品，從而有效的降低生產成本。前述對本專利技術的具體示例性實施方案的描述是為了說明和例證的目的。這些描述并非想將本專利技術限定為所公開的精確形式，并且很顯然，根據上述教導，可以進行很多改變和變化。對示例性實施例進行選擇和描述的目的在于解釋本專利技術的特定原理及其實際應用，從而使得本領域的技術人員能夠實現并利用本專利技術的各種不同的示例性實施方案以及各種不同的選擇和改變。本專利技術的范圍意在由權利要求書及其等同形式所限定。本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種反應罐的冷卻裝置，其特征在于，包括：反應罐支架，其包括前支架和后支架，所述前支架高于所述后支架設置，所述反應罐旋轉的設置在所述前支架和所述后支架上；冷卻水槽，其傾斜的設置在所述前支架和所述后支架之間，所述反應罐的罐體處于所述冷卻水槽的上方，所述冷卻水槽的低端設有回水管；以及進水管，其沿所述冷卻水槽的槽底鋪設，所述進水管上設有噴頭，所述噴頭用來向所述反應罐的表面噴射冷卻水。

【技術特征摘要】
1.一種反應罐的冷卻裝置，其特征在于，包括：反應罐支架，其包括前支架和后支架，所述前支架高于所述后支架設置，所述反應罐旋轉的設置在所述前支架和所述后支架上；冷卻水槽，其傾斜的設置在所述前支架和所述后支架之間，所述反應罐的罐體處于所述冷卻水槽的上方，所述冷卻水槽的低端設有回水管；以及進水管，其沿所述冷卻水槽的槽底鋪設，所述進水管上設有噴頭，所述噴頭用來向所述反應罐的表面噴射冷卻水...

【專利技術屬性】
技術研發人員：解云章，馬毅恒，
申請(專利權)人：中磁科技股份有限公司，
類型：發明
國別省市：山西,14